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一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺

阅读：4发布：2021-12-15

专利汇可以提供一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明公开了一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺，包括电解回收铜处理系统、MVR 蒸发结晶系统与废气处理系统，所述电解回收铜处理系统包括含铜废水调节箱与电解回收铜装置，所述MVR蒸发结晶系统包括带蒸发水箱、MVR 蒸发器与蒸发出水箱，所述废气处理系统包括两级碱吸收塔，所述电解回收铜处理系统、MVR蒸发结晶系统与废气处理系统共同连接有中间水箱，所述中间水箱上还连通有蚀刻线会用设备，所述MVR蒸发结晶系统上还连接有离心机。优点在于：本发明采用电解回收铜处理系统、MVR蒸发结晶系统和废气处理系统相组合的工艺流程，实现对PCB蚀刻行业产生高浓度酸性蚀刻废液零排放处理工艺及回收铜的方法，填补PCB蚀刻液废水零排放技术空白。，下面是一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺，包括电解回收铜处理系统、MVR 蒸发结晶系统与废气处理系统，其特征在于，所述电解回收铜处理系统包括含铜废水调节箱与电解回收铜装置，所述MVR蒸发结晶系统包括带蒸发水箱、MVR 蒸发器与蒸发出水箱，所述废气处理系统包括两级碱吸收塔，所述电解回收铜处理系统、MVR蒸发结晶系统与废气处理系统共同连接有中间水箱，所述中间水箱上还连通有蚀刻线会用设备，所述MVR蒸发结晶系统上还连接有离心机；具体的工艺步骤如下：
S1：刻液废水首先通过电解铜回收设备，处理后铜离子浓度降低到1g/L；
S2：转入蒸发水箱暂存；
S3：进行蒸法结晶；
S4：废气处理。
2.根据权利要求1所述的一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺，其特征在于，所述电解回收铜装置采用500A高频直流进行电解。
3.根据权利要求1所述的一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺，其特征在于，所述蚀刻线会用设备内为蚀刻废液变为低含铜量、低ORP的蚀刻废液。

说明书全文

一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺

技术领域

[0001] 本发明涉及PCB蚀刻行业产生高浓度酸性蚀刻废液零排放处理工艺技术领域，尤其涉及一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺。

背景技术

[0002] 随着人类工业水平的进步，电子工业的高速发展，印制线路板的需求量越来越大，PCB的生产已成为电子行业的重要基础产业，然而国家对环境保护愈发重视，工业废水的排放标准也愈发严格。对于产生大量有毒有害工业废水及废弃物的PCB制造业，对其实施高效合理的治理十分必要。尤其将PCB酸性蚀刻液进行零排放处理，不仅可以将铜资源回收资利用，而且还实现了对水资源的在线回用。真正意义上实现PCB酸性蚀刻液零排放处理。

[0003] 目前，在PCB制造行业中，对于PCB酸性蚀刻液的处理，国内外常见的是采用中和沉淀法、溶剂萃取、膜电解和还原分离等方法。它们都是将废液中铜离子进行分离回收，而对剩余组分废水没有进行实质性处理，容易造成二次污染，且造成水资源的浪费。

[0004] 例如将印刷电路板酸性蚀刻废液提铜的方法(专利号：CN101353795A)。该技术利用膜电解技术，电解回收铜粉，该技术可以将铜离子进行回收。然而电解过程中产生的氯气没有进行有效的治理，同时电解后蚀刻废液没有进一步处理，二次污染较严重。

[0005] 因此实现PCB蚀刻行业产生高浓度酸性蚀刻废水零排放处理工艺，同时实现铜资源回收利用。需要一种针对PCB蚀刻行业产生高浓度酸性蚀刻废液零排放处理工艺及回收
铜的方法。

发明内容

[0006] 本发明的目的是为了解决现有技术中的问题，而提出的一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺。

[0007] 为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

[0008] 一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺，包括电解回收铜处理系统、MVR 蒸发结晶系统与废气处理系统，所述电解回收铜处理系统包括含铜废水调节箱与电解回收铜装置，所述
MVR蒸发结晶系统包括带蒸发水箱、MVR 蒸发器与蒸发出水箱，所述废气处理系统包括两级
碱吸收塔，所述电解回收铜处理系统、MVR蒸发结晶系统与废气处理系统共同连接有中间水箱，所述中间水箱上还连通有蚀刻线会用设备，所述MVR蒸发结晶系统上还连接有离心机；
具体的工艺步骤如下：

[0009] S1：刻液废水首先通过电解铜回收设备，处理后铜离子浓度降低到1g/L；

[0010] S2：转入蒸发水箱暂存；

[0011] S3：进行蒸法结晶；

[0012] S4：废气处理。

[0013] 在上述的一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺中，所述电解回收铜装置采用500A高频直流进行电解。

[0014] 在上述的一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺中，所述蚀刻线会用设备内为蚀刻废液变为低含铜量、低ORP的蚀刻废液。

[0015] 与现有的技术相比，本发明优点在于：

[0016] 1、本发明采用电解回收铜处理系统、MVR蒸发结晶系统和废气处理系统相组合的工艺流程，实现对PCB蚀刻行业产生高浓度酸性蚀刻废液零排放处理工艺及回收铜的方法，填补PCB蚀刻液废水零排放技术空白；

[0017] 2、本发明设备技术成熟，工艺稳定，适用于PCB行业产生蚀刻液废水零排放处理；

[0018] 3、本发明回收铜，铜回收率可以达到95％以上，废水实现99％循环利用，符合零排放处理要求；

[0019] 4、本发明无副产品固体废弃物，是具有市场价值的资源，且水资源利用效率高等优点综上所述。
附图说明

[0020] 图1为本发明提出的一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺的工艺流程图。

具体实施方式

[0021] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

[0022] 在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

[0023] 参照图1，一种PCB蚀刻废液零排放处理工艺，包括电解回收铜处理系统、MVR蒸发结晶系统与废气处理系统，电解回收铜处理系统包括含铜废水调节箱与电解回收铜装置，
MVR蒸发结晶系统包括带蒸发水箱、MVR蒸发器与蒸发出水箱，废气处理系统包括两级碱吸
收塔，电解回收铜处理系统、MVR蒸发结晶系统与废气处理系统共同连接有中间水箱，中间水箱上还连通有蚀刻线会用设备，MVR蒸发结晶系统上还连接有离心机；

[0024] 具体的：蚀刻液废水首先通过电解铜回收设备，处理后铜离子浓度降低到1g/L，电解后低浓度蚀刻液进行蚀刻线在线回用，回用时需要额外添加适量的氧化剂和盐酸，因此会多出约30％的蚀刻液，将多余30％蚀刻液通过提升泵提升至待蒸发水箱暂存。此外电解
时产生大量的氯气，需要利用碱液吸收电解时产生的氯气，吸收完氯气后通过自吸泵提升
至待蒸发水箱与剩余30％低浓度蚀刻液混合，调节pH至8，进行蒸法结晶，蒸发产水一部分回用至生产线，一部分作为配置碱液用来吸收氯气。MVR蒸发结晶产生的氯化钠晶体可以作为工业盐进行外售。从而实现对PCB蚀刻行业产生高浓度酸性蚀刻废液零排放处理工艺及
回收铜的方法；

[0025] PCB蚀刻行业产生高浓度酸性蚀刻废液零排放处理工艺及回收铜的方法，采用的是隔膜电解工艺，进行再生循环和铜回收。在500A高频直流电解的作用下，阴极板析出阴极铜，蚀刻废液中的Cu+和Cu2+得到电子还原为金属Cu单质(形成铜板，便于分离)，蚀刻废液变为低含铜量、低ORP的蚀刻废液；低含铜量、低ORP的蚀刻废液通过高分子隔膜渗透进入阳极室，在阳极电解产物Cl2的作用下，低含铜量、低ORP的蚀刻液变为低含铜量、高ORP的蚀刻液，符合蚀刻添加子液的特性，可添加至生产线使用，达到循环使用目的。

[0026] 添加子夜会富余30％低含铜量的蚀刻废液，同时利用两级碱吸收塔吸收氯气会产生氯化钠溶液，因此两者溶液混合于中间水箱，调节pH至8，进行MVR蒸发结晶处理，蒸发冷凝水一部分用于补充两级碱吸收塔所需水源，另外一部分可用于生产线回用或者作为纯水
机原水，MVR产生的氯化钠结晶盐可作为工业盐外售。

[0027] 进一步说明，上述固定连接，除非另有明确的规定和限定，否则应做广义理解，例如，可以是焊接，也可以是胶合，或者一体成型设置等本领域技术人员熟知的惯用手段。

[0028] 需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存
在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要
素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

[0029] 以上，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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