一种盖板
阅读：461发布：2021-04-11
专利汇可以提供一种盖板专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 申请 公开了一种盖板。该盖板包括透明本体和黄色 薄膜 层，黄色薄膜层设置在透明本体的一表面上，且至少包括金属层和陶瓷 颜色 层，金属层设置在透明本体与陶瓷颜色层之间。本申请盖板能够对外呈现陶瓷黄色色彩，且成本及污染较低。，下面是一种盖板专利的具体信息内容。
1.一种盖板，其特征在于，所述盖板包括透明本体和黄色薄膜层，所述黄色薄膜层设置在所述透明本体的一表面上，且至少包括金属层和陶瓷颜色层，所述金属层设置在所述透明本体与所述陶瓷颜色层之间。
2.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述陶瓷颜色层包括TiN膜层、ZrN膜层、TiZrN膜层、TiAlN膜层、NiN膜层、TiCN膜层、ZrCN膜层、TiZrCN膜层或TiAlCN膜层中的任一种或组合。
3.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述金属层包括Cr层、Ti层、Zr层、TiAl层或TiSi层。
4.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述金属层的厚度范围为60nm-100nm，所述陶瓷颜色层的厚度范围为500nm-1000nm。
5.根据权利要求4所述的盖板，其特征在于，所述金属层的厚度范围为80nm-100nm，所述陶瓷颜色层的厚度范围为600nm-800nm。
6.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述盖板进一步包括透明层，所述透明层设置在所述透明本体与所述黄色薄膜层之间，并用于调节所述黄色薄膜层的颜色。
7.根据权利要求6所述的盖板，其特征在于，所述透明层的厚度范围为10nm-80nm。
8.根据权利要求7所述的盖板，其特征在于，所述透明层包括氧化钛膜层、氧化锆膜层、氧化铌膜层或氧化硅膜层中的任一种或组合。
9.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述黄色薄膜层在CIE LAB色空间中的坐标值为：65≦L≦85，5≦a≦15，10≦b≦20。
10.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述黄色薄膜层上进一步设置有光栅图案层。
一种盖板
技术领域
背景技术
[0002] 近年来，随着终端，如手机更新迭代的速度加快，其盖板材质依次经历了塑胶、金属、陶瓷、玻璃的发展历程。为了增强手机的卖点和吸引点，手机厂商在手机外观上做了很多的工作，不断的丰富手机外观的颜色。具有金属质感(黄色)的陶瓷颜色薄膜备受3C行业的广泛关注和应用。其方法有多种，如染料染色、铝合金阳极氧化、涂料喷涂等着色方法、PVD陶瓷薄膜着色方法等。
[0003] 本申请的发明人在长期的研发过程中发现，PVD制备陶瓷颜色薄膜已经广泛应用于装饰金属、塑料等基体产品，能稳定制备的颜色高达几十种。但在透明玻璃盖板上制备出具有金属质感(黄色)的颜色膜，目前常规的做法是先在盖板玻璃上丝印一层颜色油墨，然后再镀上一层透明膜；或者是在菲林片上丝印油墨及镀透明膜，然后将菲林片贴合到玻璃盖板上。但这些方法工艺复杂、成本较高，且会产生工业污染。
发明内容
[0004] 本申请提供一种盖板，其能够呈现陶瓷黄色色彩，且能成本及污染较低。
[0005] 为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种盖板，该盖板包括：透明本体和黄色薄膜层，黄色薄膜层设置在透明本体的一表面上，且至少包括金属层和陶瓷颜色层，金属层设置在透明本体与陶瓷颜色层之间。
[0006] 其中，陶瓷颜色层包括TiN膜层、ZrN膜层、TiZrN膜层、TiAlN膜层、NiN膜层、TiCN膜层、ZrCN膜层、TiZrCN膜层或TiAlCN膜层中的任一种或组合。
[0007] 其中，金属层包括Cr层、Ti层、Zr层、TiAl层或TiSi层。
[0008] 其中，金属层的厚度范围为60nm-100nm，陶瓷颜色层的厚度范围为500nm-1000nm。
[0009] 其中，金属层的厚度范围为80nm-100nm，陶瓷颜色层的厚度范围为600nm-800nm。
[0010] 其中，盖板进一步包括透明层，透明层设置在透明本体与黄色薄膜层之间，并用于调节黄色薄膜层的颜色。
[0011] 其中，透明层的厚度范围为10nm-80nm。
[0013] 其中，黄色薄膜层在CIE LAB色空间中的坐标值为：65≦L≦85，5≦a≦15，10≦b≦20。
[0014] 其中，黄色薄膜层上进一步设置有光栅图案层。
[0015] 本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请实施例盖板包括透明本体和黄色薄膜层，黄色薄膜层设置在透明本体的一表面上，且至少包括金属层和陶瓷颜色层，金属层设置在透明本体与陶瓷颜色层之间。通过这种方式，能够通过黄色薄膜层使盖板呈现具有陶瓷黄色色彩，而无需采用传统丝印油墨层或菲林片的方式实现陶瓷黄色色彩，因此可以降低生产成本及污染。附图说明
[0016] 图1是本申请盖板第一实施例的结构示意图；
[0017] 图2是图1实施例盖板的制造方法一实施例的流程示意图；
[0018] 图3是图2实施中步骤S201的具体流程示意图；
[0019] 图4是本申请盖板第二实施例的结构示意图；
[0020] 图5是本申请盖板第三实施例的结构示意图；
[0021] 图6是本申请盖板第四实施例的结构示意图；
[0022] 图7是本申请终端一实施例的结构示意图。
具体实施方式
[0023] 下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0024] 本申请首先提出一种盖板，如图1所示，本实施例盖板101包括透明本体102和黄色薄膜层103，黄色薄膜层103设置在透明本体102的一表面上，且至少包括金属层104和陶瓷颜色层105，金属层104设置在透明本体102与陶瓷颜色层105之间，即金属层104和陶瓷颜色层105依次层叠在透明本体102上。
[0025] 本实施例的金属层104用于提高陶瓷颜色层105与透明本体102之间的附着力。
[0026] 可选地，金属层的厚度为50-100nm，陶瓷颜色层105与透明本体102的附着力。
[0027] 本实施例的盖板101可以为终端的后盖，如手机的后盖等。在将盖板101安装于终端本体上时，盖板101设置有陶瓷颜色层105的一侧靠近终端本体设置，即透明本体102为终端的外侧。
[0028] 在其它实施例中，盖板还可以用于家电、汽车等产品。
[0029] 本实施例在透明本体102上，能够通过黄色薄膜层103使盖板呈现陶瓷黄色色彩，而无需采用传统丝印油墨层或菲林片的方式实现陶瓷黄色色彩，因此可以降低生产成本及污染。
[0030] 进一步地，从透明本体102、金属层104和陶瓷颜色层105的材料考虑，为实现上述效果，透明本体102的材料可以包括玻璃、陶瓷、聚苯乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂等透明材料；陶瓷颜色层105可以包括氮化钛(TiN)膜层、氮化锆(ZrN)膜层、氮化钛锆(TiZrN)膜层、氮化钛铝(TiAlN)膜层、氮化镍(NiN)膜层、碳氮化钛(TiCN)膜层、碳氮化锆(ZrCN)膜层、碳氮化钛锆(TiZrCN)膜层或碳氮化钛铝(TiAlCN)膜层等中的任一种或组合；金属层104可以包括铬(Cr)层、钛(Ti)层、锆(Zr)层、钛铝(TiAl)层或钛硅(TiSi)层等。
[0031] 进一步地，从金属层104和陶瓷颜色层105的厚度考虑，为实现上述效果，金属层104的厚度范围可以为60nm-100nm，该厚度具体可以为60nm、70nm、80nm、90nm及100nm等；陶瓷颜色层105的厚度范围可以为500nm-1000nm，该厚度具体可以为500nm、600nm、700nm、
800nm、900nm及1000nm等。
800nm、900nm及1000nm等。
[0032] 在一具体应用中，金属层104的厚度范围优选为80nm-100nm，该厚度具体可以为80nm、85nm、90nm、95nm及100nm等；陶瓷颜色层105的厚度范围优选为600nm-800nm，该厚度具体可以为600nm、650nm、700nm、750nm及800nm等。
[0033] 在一具体应用中，黄色薄膜层103在CIE LAB色空间中的坐标值为：65≦L≦85，5≦a≦15，10≦b≦20。
[0034] 进一步地，本实施例的盖板101可以通过如图2所示的方法制造，具体地，本实施例的方法包括以下步骤：
[0035] S201：对透明本体102的表面进行清洗和烘干，以达到镀膜工艺要求的表面洁净度。
[0037] 在一具体应用中，可以通过如图3所述的方法实现步骤S201，本实施例具体以下步骤包括：
[0039] S302：在第二槽中加入清洗剂，并将其加热到第二预设温度，然后将透明本体102放入第二槽，并通过喷淋清洗方式对透明本体102清洗2分钟。
[0040] S303：在第三槽中加入纯水，并将透明本体102放入第三槽中，然后通过超声清洗方式对透明本体102清洗2分钟。
[0041] S304：在第四槽中加入超声清洗剂，并将透明本体102放入第四槽中，然后通过超声清洗方式对透明本体102清洗2分钟。
[0042] S305：在第五槽中及第六槽中加入纯水，并将透明本体102放入第五槽中，然后通过超声清洗方式对透明本体102清洗5分钟，接着将透明本体102放入第六槽中，并通过超声清洗方式对透明本体102清洗5分钟。
[0043] S306：将透明本体102放入第七槽中进行脱水，并将脱水后的透明本体102依次放入第八槽中及第九槽中热烘脱水。。
[0044] 其中，第一槽至第四槽为普通清洗槽，第五槽及第六槽为超声槽，第七槽为慢提拉槽脱水槽，第八槽及第九槽为烘干槽。
[0045] 上述清洗/烘干流程、清洗/烘干温度及清洗/烘干时间可以根据透明本体102的材料及表面粗糙度等因素进行适应性修改；本实施例还可以通过检测器自动检测每次清洗后的透明板体102的表面清洁度，并根据该清洁度调整或者规划后续的清洗/烘干的流程、清洗/烘干温度及清洗/烘干时间，以提高透明本体102进行清洗及烘干效率及效果。
[0046] 进一步地，将热烘脱水后的透明本体102置于镀膜车上，准备进行真空溅射镀膜加工。
[0047] S202：在清洗后的透明本体102的表面溅射镀膜，以在清洗后的透明本体102的表面依次形成金属层104和陶瓷颜色层105。
[0048] 具体地，通过真空溅镀方式在透明本体102的表面上形成金属层104，然后通过真空溅镀方式在金属层104背离透明本体102的表面上形成陶瓷颜色层105。
[0049] 在上述步骤中，透明本体102、金属层104和陶瓷颜色层105可采用上文描述的各种材料。进一步，透明本体102、金属层104和陶瓷颜色层105的物理特性以及膜层厚度可设置成上文描述的各种数值范围。
[0051] 在其它实施例中，还可以采用例如光学镀膜、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子增强的化学气相沉积(PECVD)、反应性DC射蚀等工艺在清洗后的透明本体的表面形成黑色薄膜层及透明加硬层。
[0052] 区别于现有技术，本实施例能够通过黄色薄膜层103使盖板呈现具有陶瓷黄色色彩，而无需采用传统丝印油墨层或菲林片的方式实现陶瓷黄色色彩，因此可以降低生产成本及污染。
[0053] 本申请进一步提出第二实施例的盖板，如图4所示，本实施例的盖板401在图1实施例的基础上进一步包括透明层402，透明层402设置在透明本体403与黄色薄膜层404之间，具体地，透明层402设置在透明本体403与金属层405之间。透明层402并用于调节黄色薄膜层404的颜色，且用于提高透明本体403与黄色薄膜层404之间的结合力。
[0054] 其中，透明层402的厚度可以依据陶瓷黄色色彩的波长范围进行设置，如透明层602的厚度范围可以为10-80nm，该厚度具体可以为10nm、30nm、50nm、70nm及80nm等。透明层
402可以包括氧化钛膜层、氧化锆膜层、氧化铌膜层或氧化硅膜层等。
402可以包括氧化钛膜层、氧化锆膜层、氧化铌膜层或氧化硅膜层等。
[0055] 区别于现有技术，本实施例通过在透明本体403与黄色薄膜层404之间设置透明层402，能够调节黄色薄膜层404的色值，且能够提高透明本体403与黄色薄膜层404之间的结合力。
[0056] 为进一步丰富盖板的外观效果，本申请进一步提出第三实施例的盖板，如图5所示，本实施例盖板501进一步包括光栅图案层502，光栅图案层502设置在黄色薄膜层503背离透明本体504的一侧。
[0057] 其中，光栅图案层502包括多个间隔设置的光栅条纹，相邻两个光栅条纹之间的间隙内形成有纳米微结构，以使得光栅条纹与间隙具有不同的光学特性，以在光栅图案层502形成光栅图案。
[0058] 进一步地，还可以在光栅图案层502背离黄色薄膜层503的一侧设置反射层(图未示)。
[0059] 当然，在其它实施例中，还可以用图案层代替上述光栅图案层，该可以通过丝网印刷工艺形成在透明本体上。图案层可以包括特定图案标识，如产品的Logo、产品所需的说明文字、产品图案及花纹等。在其他实施例中，还可以使用激光雕刻、化学蚀刻、油墨印刷等工艺在打底层上形成图案或Logo，在此不做限定。
[0060] 在另一实施例中，为进一步丰富盖板的外观效果，第一颜色层还可以包括纹理层，该纹理层可以为磁性纹理层、UV转印纹理层、热转印纹理层中的至少一种，纹理层的具体图案可以根据实际需求灵活选择。在本发明的实施例中，该图案可以为渐变纹理图案。
[0062] 形成UV转印纹理层的方法可以为利用UV转印及压印加工，即在将设计好的纹理图形用激光光绘机输出成光绘菲林或玻璃菲林，在膜片基材或者渐变色层上涂布一离型层上，并在离型层涂布UV胶，并把涂布好UV胶的膜片基材或者渐变色层与光绘菲林或玻璃菲林紧密贴合，进行曝光成像，进而在膜片基材上就形成纹理图案层。
[0063] 形成热转印纹理层的方法可以为将PVC热转印膜贴在膜片基材或者渐变色层上，以预设温度烘烤预设时间，之后剥离PVC薄膜，即得到热转印纹理。
[0064] 通过这种方式，能够在上述效果的基础上进一步使盖板呈现图案特定图案或者纹理图案等。
[0065] 本申请进一步提出第四实施例的盖板，如图6所示，本实施例盖板601进一步包括渐变色层602，渐变色层602包括第一陶瓷颜色层(图未示)及第二陶瓷颜色层(图未示)，本实施例的第一陶瓷颜色层与上述实施例的陶瓷颜色层相同，这里不赘述。
[0066] 其中，本实施例的第二陶瓷颜色层设置在第一陶瓷颜色层背离金属层603的一侧，且第二陶瓷颜色层的面积小于第一陶瓷颜色层的面积，以使得在从透明本体604背离透明本体703的一侧观察时，第一陶瓷颜色层与第二陶瓷颜色层的重叠区域的颜色不同于第一陶瓷颜色层的未被第二陶瓷颜色层覆盖的其他区域的颜色。
[0067] 本实施例的第一陶瓷颜色层为半透明颜色层。
[0069] 其中，渐变色层602可以通过如光学镀膜、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子增强的化学气相沉积(PECVD)、反应性DC射蚀、RF溅蚀或磁控溅射等沉积在金属层603上。
[0070] 在其它实施例中，渐变色层还可以包括两层以上的颜色层，其中，每一层颜色层可以由纳米结构色晶体与光油混合构成。其中，纳米结构色晶体可以由多层光学干涉薄膜粉碎得到，多层光学干涉薄膜可以为具有交替沉积有第一折射率陶瓷颜色层L1、L2和第二折射率陶瓷颜色层H1、H2、H3的结构，也就是说，多层光学干涉薄膜可以包括依次层叠设置的第二折射率陶瓷颜色层H1，第一折射率陶瓷颜色层L1，第二折射率陶瓷颜色层H3、第一折射率陶瓷颜色层L2以及第二折射率陶瓷颜色层H2。
[0071] 在一具体应用中，可采用通过镀膜工艺在金属层603上设置第一陶瓷颜色层，并至少在第一陶瓷颜色层的局部表面上设置第二陶瓷颜色层。
[0072] 具体的，至少在第一陶瓷颜色层的局部表面喷涂颜色层材料，以形成第二陶瓷颜色层。等待第一陶瓷颜色层干燥后，可以向第一陶瓷颜色层的表面喷涂覆盖一层第二陶瓷颜色层。喷涂时第二陶瓷颜色层的厚度可以由第一陶瓷颜色层左侧边界处向右侧边界处逐渐变薄，以得到渐变效果。或者，等待第一陶瓷颜色层干燥后，可以向第一陶瓷颜色层局部表面喷涂至少一层第二陶瓷颜色层。在其他实施例中，可以在第二陶瓷颜色层干燥后，至少在第二陶瓷颜色层的局部表面喷涂介质，以形成第三陶瓷颜色层。其中，第一陶瓷颜色层、第二陶瓷颜色层和第三陶瓷颜色层的厚度相同，但覆盖的面积逐渐减小。例如，第一陶瓷颜色层覆盖面积为金属层603覆盖面积的100％，第二陶瓷颜色层覆盖面积为金属层603覆盖面积的70％，第三陶瓷颜色层为金属层603覆盖面积的30％。在此不做限定。
[0073] 其中，第一陶瓷颜色层、第二陶瓷颜色层和第三陶瓷颜色层的材料与上述实施例的陶瓷颜色层的材料相同，在此不做赘述。
[0074] 通过上述方式，在金属层603上设置渐变色层602，可以使得盖板601具有渐变色彩，使得盖板601表面具有丰富的外观效果，提升了产品的外观美感，从而满足消费者对终端的外观效果的需求。
[0075] 当然，在其它实施例中，可以将第二陶瓷颜色层设置在第一陶瓷颜色层与金属层之间，以使得在从背离透明本体的一侧观察时，第一陶瓷颜色层被第二陶瓷颜色层覆盖的区域的颜色不同于第一陶瓷颜色层未被第二陶瓷颜色层覆盖的区域的颜色。
[0076] 在一实施例中，黄色薄膜层可以包括图案层、纹理层及渐变色层或者包括这三层中的任意两层。
[0077] 在一实施例中，盖板还可以进一步增透层，增透层可以设置在透明本体及黄色薄膜层之间。
[0078] 在一实施例中，盖板还可以包括设置在透明本体背离黄色薄膜层一侧的防指纹层。其中，防指纹层包括具有疏水性和疏油性的聚合物涂层或者适当材料的镀膜。
[0079] 在另一实施例中，为增加盖板的硬度，还可以在透明本体背离黄色薄膜层的一侧设置透明加硬层。该透明加硬层的材料包括氮化物以及类金刚石碳中的至少一种或组合。该氮化物还可以是氮硼化物或氮碳化物。
[0080] 本申请进一步提出一种终端，如图7所示，图7是本申请终端一实施例的结构示意图。终端701背面(背离显示屏的一侧)设置盖板702，并将盖板702的透明本体背离终端701设置，即透明本体为终端701的外侧。本实施例盖板702可以是上述各实施例盖板，其结构及工作原理，这里不赘述。
[0081] 本实施例终端701可以包括手机、平板电脑或可穿戴设备等。
[0082] 区别于现有技术，本申请实施例盖板包括透明本体和黄色薄膜层，黄色薄膜层设置在透明本体的一表面上，且至少包括金属层和陶瓷颜色层，金属层设置在透明本体与陶瓷颜色层之间。通过这种方式，能够通过黄色薄膜层使盖板呈现具有陶瓷黄色色彩，而无需采用传统丝印油墨层或菲林片的方式实现陶瓷黄色色彩，因此可以降低生产成本及污染。
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