专利汇可以提供一种速效旋砂垂直流循环水处理设备专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用属于 水 处理 设备领域,尤其是涉及一种速效旋砂垂直流 循环水 处理设备,包括水处理 箱体 ,所述水处理箱体内设置有搅拌区、反应区和沉降区,所述搅拌区与反应区固定连接有竖直的L型隔板,所述反应区与沉降区之间固定连接有两 块 竖直的 挡板 ,其中一块所述挡板与水处理箱体内顶壁固定连接,且另外一块挡板与水处理箱体内底壁固定连接,所述水处理箱体与搅拌区相对应的顶壁上固定连接有第一 电机 ,所述第一电机的输出端固定连接有竖直的第一转动轴。优点在于:本实用能够广泛用于矿井水处理、微污染地表水处理或其他各类需要絮凝沉淀的场合,具有适用范围广、占地面积极小,效率高的特点。(ESM)同样的 发明 创造已同日 申请 发明 专利,下面是一种速效旋砂垂直流循环水处理设备专利的具体信息内容。
1.一种速效旋砂垂直流循环水处理设备,包括水处理箱体(1),其特征在于,所述水处理箱体(1)内设置有搅拌区(2)、反应区(3)和沉降区(4),所述搅拌区(2)与反应区(3)固定连接有竖直的L型隔板(5),所述反应区(3)与沉降区(4)之间固定连接有两块竖直的挡板(6),其中一块所述挡板(6)与水处理箱体(1)内顶壁固定连接,且另外一块挡板(6)与水处理箱体(1)内底壁固定连接,所述水处理箱体(1)与搅拌区(2)相对应的顶壁上固定连接有第一电机(7),所述第一电机(7)的输出端固定连接有竖直的第一转动轴(8),且第一转动轴(8)远离第一电机(7)的一端贯穿水处理箱体(1)的顶壁并延伸至水处理箱体(1)内,所述第一转动轴(8)的底端侧壁外固定套接有多个搅拌叶片(9);
所述水处理箱体(1)与反应区(3)相对应的顶壁上固定连接有第二电机(10),所述第二电机(10)的输出端固定连接有竖直的第二转动轴(11),所述反应区(3)内固定连接有反应壳体(12),且第二转动轴(11)远离第二电机(10)的一端依次贯穿水处理箱体(1)的顶壁与反应壳体(12)的顶壁并延伸至反应壳体(12)内,所述第二转动轴(11)的底端侧壁外固定套接有搅拌器(13),所述水处理箱体(1)的顶壁上固定连接有L型投料管(14),所述L型投料管(14)的一端延伸至水处理箱体(1)的上侧,且L型投料管(14)的另一端贯穿反应壳体(12)并延伸至其内部,所述L型投料管(14)内投放有高流速紊流态砂水混合物;
所述沉降区(4)自下而上依次包括集泥区(15)、布水区(16)、斜管区(17)和清水区(18),所述集泥区(15)内安装有刮泥机(19),且刮泥机(19)的驱动装置固定连接在水处理箱体(1)的顶壁上,所述刮泥机(19)的刮泥装置与集泥区(15)的底壁接触连接,所述集泥区(15)的底壁上固定连接有排泥管(20),且排泥管(20)的输出端与外部的回泥装置连接,所述斜管区(17)内固定连接有斜板(21),且斜板(21)与水平面呈60度夹角,所述水处理箱体(1)内设置有与清水区(18)连通的储水区(22)。
2.根据权利要求1所述的一种速效旋砂垂直流循环水处理设备,其特征在于,所述水处理箱体(1)的侧壁上固定连接有进水管(23),且进水管(23)贯穿水处理箱体(1)的侧壁并延伸至搅拌区(2)内,所述水处理箱体(1)远离进水管(23)的侧壁上固定连接有出水管(24),且出水管(24)与储水区(22)连通设置。
3.根据权利要求1所述的一种速效旋砂垂直流循环水处理设备,其特征在于,所述水处理箱体(1)的顶壁上固定连接有竖直的进料管(25),且进料管(25)延伸至搅拌区(2)内,所述进料管(25)内投放有泥沙、絮凝剂和高分子助凝剂。
4.根据权利要求3所述的一种速效旋砂垂直流循环水处理设备,其特征在于,所述反应壳体(12)内的高流速紊流态砂水混合物与泥沙、絮凝剂和高分子助凝剂相互作用。
5.根据权利要求1所述的一种速效旋砂垂直流循环水处理设备,其特征在于,所述L型隔板(5)下侧的搅拌区(2)与反应区(3)之间设置有U型连通槽,所述反应壳体(12)内设置有竖直的连通管(26),且连通管(26)的下端固定连接在L型隔板(5)与U型连通槽之间,所述连通管(26)与反应壳体(12)之间安装有多个过滤机构。
6.根据权利要求5所述的一种速效旋砂垂直流循环水处理设备,其特征在于,所述过滤机构包括固定连接在反应壳体(12)内壁上的第一安装块(27),所述连通管(26)的侧壁上固定连接有与第一安装块(27)位置对应的第二安装块(28),且第一安装块(27)与第二安装块(28)之间固定连接有过滤网(29)。
7.根据权利要求6所述的一种速效旋砂垂直流循环水处理设备,其特征在于,所述第一安装块(27)和第二安装块(28)分别通过紧固螺栓与反应壳体(12)的内壁和连通管(26)的外侧壁固定连接。
8.根据权利要求1所述的一种速效旋砂垂直流循环水处理设备,其特征在于,所述斜板(21)净距为80~100mm,所述斜板(21)的上层应有0.5-1.0m的水深,且底部缓冲层高度为
1.0m,所述布水区(16)位于斜板(21)的下侧。
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