专利汇可以提供一种快速沉淀的磁絮凝装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种快速沉淀的磁絮凝装置,包括 沉淀池 及搅拌控制装置,沉淀池上部通过两平行设置的隔墙分为混凝区、电磁沉淀区、清 水 区,电磁沉淀区位于混凝区和清水区之间,隔墙上设有过水孔;沉淀池底部设有集泥槽,电磁沉淀区下方设有沉泥斜板a,沉泥斜板a上端与电磁沉淀区与混凝区之间的隔墙下端连接;清水区下方设有沉泥斜板b,沉泥斜板b的上端与清水区沉淀池 侧壁 连接;沉泥斜板a和沉泥斜板b的下端分别与集泥槽的两侧壁顶部连接,集泥槽内设有排泥管;混凝区的搅拌装置与搅拌控制装置连接。本实用新型采用混凝、快速电磁沉淀、清水区一体式结构,使得 水处理 的工艺一体化,缩短了沉淀时间,减小了沉淀池的占地面积,降低了建造 费用 。,下面是一种快速沉淀的磁絮凝装置专利的具体信息内容。
1.一种快速沉淀的磁絮凝装置,其特征在于:包括沉淀池及搅拌控制装置,沉淀池上部通过两平行设置的隔墙分为混凝区、电磁沉淀区、清水区,电磁沉淀区位于混凝区和清水区之间,隔墙上设有过水孔;所述的沉淀池底部设有集泥槽,电磁沉淀区下方设有沉泥斜板a,沉泥斜板a上端与电磁沉淀区与混凝区之间的隔墙下端连接;清水区下方设有沉泥斜板b,沉泥斜板b的上端与清水区沉淀池侧壁连接;沉泥斜板a和沉泥斜板b的下端分别与集泥槽的两侧壁顶部连接,集泥槽内设有排泥管;混凝区的搅拌装置与搅拌控制装置连接。
2.如权利要求1所述的快速沉淀的磁絮凝装置,其特征是:所述混凝区设有进水管A、加药与管式静态混合B及搅拌装置,搅拌装置设有两个搅拌器,混凝区的下方设有搅拌控制区,混凝区与搅拌控制区之间设有隔板;所述的搅拌控制区内设有搅拌电机、无级变速器;
搅拌电机的输出轴与无机变速器的输入轴连接,无级变速器的输出轴分别与两个搅拌器连接;搅拌电机上设有搅拌控制器。
3.如权利要求1所述的快速沉淀的磁絮凝装置,其特征是:所述的隔墙采用的是配水花墙。
4.如权利要求1所述的快速沉淀的磁絮凝装置,其特征是:两隔墙的高度相同,隔墙上的过水孔在隔墙上均匀布置。
5.如权利要求3所述的快速沉淀的磁絮凝装置,其特征是:所述的沉泥斜板a和沉泥斜板b的底部分别设有电磁线圈a和电磁线圈b;沉泥斜板b的下方为电磁控制区,电磁控制区内设有磁力控制器,磁力控制器分别与电磁线圈a和电磁线圈b连接。
6.如权利要求3所述的快速沉淀的磁絮凝装置,其特征是:隔墙上布置有16个过水孔;
沉泥斜板a与水平面的夹角为30°;沉泥斜板b与水平面的夹角为45°。
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