首页 / 专利库 / 化学元素和化合物 / 电子 / 斜立式收放板机的真空吸板机构

斜立式收放板机的真空吸板机构

阅读:122发布:2021-06-15

专利汇可以提供斜立式收放板机的真空吸板机构专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种斜立式收放板机的 真空 吸板机构,包括垂直移动结构、 水 平移动结构和真空 吸盘 结构;所述真空吸盘结构包括吸盘架和固定于吸盘架上的若干吸盘;每一所述吸盘的 吸附 面从外至内依次设有第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层,所述第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层分别具有若干以环形阵列分布的第一吸附单元、第二吸附单元、第三吸附单元、第四吸附单元和第五吸附单元;所述第一吸附层的粗糙度、第二吸附层的粗糙度、第三吸附层的粗糙度、第四吸附层的粗糙度和第五吸附层的粗糙度依次增大。本发明通过改进吸板机构中的吸盘结构,能够保持PCB板的逐一稳定输送且不影响PCB板的外观。,下面是斜立式收放板机的真空吸板机构专利的具体信息内容。

1.一种斜立式收放板机的真空吸板机构,其特征在于:所述真空吸板机构包括垂直移动结构(1)、平移动结构(2)和真空吸盘结构(3);所述垂直移动结构包括第一支撑板(11)、固定于第一支撑板下表面的第一气缸(12)和第一连接杆(13);所述水平移动结构包括第二支撑板(21)、固定于第二支撑板上表面的第二气缸(22)和第二连接杆(23);所述真空吸盘结构包括吸盘架(31)和固定于吸盘架上的若干吸盘(32);所述第一连接杆的一端与所述第一气缸的活塞杆固定,所述第一连接杆的另一端与所述第二支撑板固定,所述第二连接杆的一端与所述第二气缸的活塞杆固定,所述第二连接杆的另一端与所述吸盘架固定,每一所述吸盘皆通过真空气管与真空发生器连接;
每一所述吸盘的吸附面从外至内依次设有第一吸附层(321)、第二吸附层(322)、第三吸附层(323)、第四吸附层(324)和第五吸附层(325),所述第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层通过同一圆心向内以阶梯状辐射分布;
所述第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层分别具有若干以环形阵列分布的第一吸附单元(3211)、第二吸附单元(3221)、第三吸附单元(3231)、第四吸附单元(3241)和第五吸附单元(3251),相邻吸附层的吸附单元交错分布;
所述第一吸附层的粗糙度、第二吸附层的粗糙度、第三吸附层的粗糙度、第四吸附层的粗糙度和第五吸附层的粗糙度依次增大;
所述第一吸附层的粗糙度为0.03μm,所述第二吸附层的粗糙度为0.05μm,所述第三吸附层的粗糙度为0.07μm,所述第四吸附层的粗糙度为0.09μm,所述第五吸附层的粗糙度为
0.11μm。
2.根据权利要求1所述的斜立式收放板机的真空吸板机构,其特征在于:所述第一吸附单元包括5个以环形阵列分布的吸附孔,所述第二吸附单元包括4个以环形阵列分布的吸附孔,所述第三吸附单元包括3个以环形阵列分布的吸附孔,所述第四吸附单元包括2个对称分布的吸附孔,所述第五吸附单元包括1个吸附孔。
3.根据权利要求1所述的斜立式收放板机的真空吸板机构,其特征在于:所述第一吸附层和所述第二吸附层之间的高度差为0.5mm,所述第二吸附层和所述第三吸附层之间的高度差为0.5mm,所述第三吸附层和所述第四吸附层之间的高度差为0.5mm,所述第四吸附层和所述第五吸附层之间的高度差为0.5mm。
4.根据权利要求1所述的斜立式收放板机的真空吸板机构,其特征在于:所述第二吸附层的宽度、第三吸附层的宽度、第四吸附层的宽度和第五吸附层的宽度相等,所述第一吸附层的宽度为其他吸附层的宽度的2倍。
5.根据权利要求2所述的斜立式收放板机的真空吸板机构,其特征在于:所述吸附孔为圆形或椭圆形。

说明书全文

斜立式收放板机的真空吸板机构

技术领域

[0001] 本发明属于机械设备技术领域,特别是涉及一种斜立式收放板机的真空吸板机构。

背景技术

[0002] PCB(印制电路板)是广泛应用于各种电子相关产品中的基础零部件,是承载电子组件和连接组件的基板。在印制电路板生产加工作业过程中,为能配合整体加工生产线的自动化作业需要,在生产线的起点处设置有一放板机,在生产线的终点处位置设置有一收板机,以利于印制电路板进行加工作业,可由放板机逐一将电路板以平方式放置于生产线的输送带中,而当电路板完成加工作业时,则再由收板机将生产线输送带上的电路板加以收取。
[0003] 现有技术收放板机中的吸附机构采用吸盘进行PCB板的夹持和输送,为了在保持PCB板的平面度的状态下对其进行吸附,要求吸盘表面的平面度极高,同时要求吸附均匀防止引起PCB板表面翘曲变形。然而,现有技术吸盘的吸附力不易控制,吸附力太大易同一时间吸取多个PCB板,影响生产线的工作效率,并且吸附力太大易在PCB板的表面产生痕迹,影响PCB板的外观;吸附力太小又不易吸取PCB板。

发明内容

[0004] 本发明主要解决的技术问题是提供一种斜立式收放板机的真空吸板机构,通过改进吸板机构中的吸盘结构,能够保持PCB板的逐一稳定输送且不影响PCB板的外观。
[0005] 为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:一种斜立式收放板机的真空吸板机构,所述真空吸板机构包括垂直移动结构、水平移动结构和真空吸盘结构;所述垂直移动结构包括第一支撑板、固定于第一支撑板下表面的第一气缸和第一连接杆;所述水平移动结构包括第二支撑板、固定于第二支撑板上表面的第二气缸和第二连接杆;所述真空吸盘结构包括吸盘架和固定于吸盘架上的若干吸盘;所述第一连接杆的一端与所述第一气缸的活塞杆固定,所述第一连接杆的另一端与所述第二支撑板固定,所述第二连接杆的一端与所述第二气缸的活塞杆固定,所述第二连接杆的另一端与所述吸盘架固定,每一所述吸盘皆通过真空气管与真空发生器连接;
[0006] 每一所述吸盘的吸附面从外至内依次设有第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层,所述第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层通过同一圆心向内以阶梯状辐射分布;
[0007] 所述第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层分别具有若干以环形阵列分布的第一吸附单元、第二吸附单元、第三吸附单元、第四吸附单元和第五吸附单元,相邻吸附层的吸附单元交错分布;
[0008] 所述第一吸附层的粗糙度、第二吸附层的粗糙度、第三吸附层的粗糙度、第四吸附层的粗糙度和第五吸附层的粗糙度依次增大。
[0009] 本发明为解决其技术问题所采用的进一步技术方案是:
[0010] 进一步地说,所述第一吸附单元包括5个以环形阵列分布的吸附孔,所述第二吸附单元包括4个以环形阵列分布的吸附孔,所述第三吸附单元包括3个以环形阵列分布的吸附孔,所述第四吸附单元包括2个对称分布的吸附孔,所述第五吸附单元包括1个吸附孔。
[0011] 进一步地说,所述第一吸附层的粗糙度为0.03μm,所述第二吸附层的粗糙度为0.05μm,所述第三吸附层的粗糙度为0.07μm,所述第四吸附层的粗糙度为0.09μm,所述第五吸附层的粗糙度为0.11μm。
[0012] 进一步地说,所述第一吸附层和所述第二吸附层之间的高度差为0.5mm,所述第二吸附层和所述第三吸附层之间的高度差为0.5mm,所述第三吸附层和所述第四吸附层之间的高度差为0.5mm,所述第四吸附层和所述第五吸附层之间的高度差为0.5mm。
[0013] 进一步地说,所述第二吸附层的宽度、第三吸附层的宽度、第四吸附层的宽度和第五吸附层的宽度相等,所述第一吸附层的宽度为其他吸附层的宽度的2倍。
[0014] 进一步地说,所述吸附孔为圆形或椭圆形。
[0015] 本发明的有益效果:本发明吸盘的吸附面从外至内依次设有第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层,第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层通过同一圆心向内以阶梯状辐射分布,该结构设计可使吸盘的吸附面与PCB板之间形成较大的负压区,利于吸盘吸紧PCB板的表面;另外,第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层分别具有若干以环形阵列分布的第一吸附单元、第二吸附单元、第三吸附单元、第四吸附单元和第五吸附单元,相邻吸附层的吸附单元交错分布,且第一吸附单元的吸附孔、第二吸附单元的吸附孔、第三吸附单元的吸附孔、第四吸附单元的吸附孔和第五吸附单元的吸附孔的数量逐渐减少,同时第一吸附层的粗糙度、第二吸附层的粗糙度、第三吸附层的粗糙度、第四吸附层的粗糙度和第五吸附层的粗糙度依次增大,通过吸附孔的数量和吸附层表面的粗糙度的结合作用,达到吸盘外周较大的吸力吸紧PCB板(外周与PCB板的接触摩擦力较小)以及吸盘内周较大的粗糙度增大与PCB板的摩擦力(吸盘内周与PCB板的吸力较小)的效果,在吸盘吸紧PCB板时减少吸盘与PCB板的接触面,避免在PCB板上留下痕迹,影响PCB板的外观。附图说明
[0016] 图1是本发明的结构示意图之一;
[0017] 图2是本发明的结构示意图之二;
[0018] 图3是本发明吸盘的结构示意图之一;
[0019] 图4是本发明吸盘的结构示意图之二;
[0020] 附图中各部分标记如下:
[0021] 垂直移动结构1、第一支撑板11、第一气缸12、第一连接杆13、水平移动结构2、第二支撑板21、第二气缸22、第二连接杆23、真空吸盘结构3、吸盘架31、吸盘32、第一吸附层321、第一吸附单元3211、第二吸附层322、第二吸附单元3221、第三吸附层323、第三吸附单元3231、第四吸附层324、第四吸附单元3241、第五吸附层325和第五吸附单元3251。

具体实施方式

[0022] 下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0023] 实施例:一种斜立式收放板机的真空吸板机构,如图1-图4所示,所述真空吸板机构包括垂直移动结构1、水平移动结构2和真空吸盘结构3;所述垂直移动结构包括第一支撑板11、固定于第一支撑板下表面的第一气缸12和第一连接杆13;所述水平移动结构包括第二支撑板21、固定于第二支撑板上表面的第二气缸22和第二连接杆23;所述真空吸盘结构包括吸盘架31和固定于吸盘架上的若干吸盘32;所述第一连接杆的一端与所述第一气缸的活塞杆固定,所述第一连接杆的另一端与所述第二支撑板固定,所述第二连接杆的一端与所述第二气缸的活塞杆固定,所述第二连接杆的另一端与所述吸盘架固定,每一所述吸盘皆通过真空气管与真空发生器连接;
[0024] 每一所述吸盘的吸附面从外至内依次设有第一吸附层321、第二吸附层322、第三吸附层323、第四吸附层324和第五吸附层325,所述第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层通过同一圆心向内以阶梯状辐射分布;
[0025] 所述第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层分别具有若干以环形阵列分布的第一吸附单元3211、第二吸附单元3221、第三吸附单元3231、第四吸附单元3241和第五吸附单元3251,相邻吸附层的吸附单元交错分布;具体说明如:第一吸附层的第一吸附单元与第二吸附层的第二吸附单元交错分布,第二吸附层的第二吸附单元与第三吸附层的第三吸附单元交错分布,第三吸附层的第三吸附单元与第四吸附层的第四吸附单元交错分布,第四吸附层的第四吸附单元与第五吸附层的第五吸附单元交错分布;
[0026] 所述第一吸附层的粗糙度、第二吸附层的粗糙度、第三吸附层的粗糙度、第四吸附层的粗糙度和第五吸附层的粗糙度依次增大。
[0027] 所述第一吸附单元包括5个以环形阵列分布的吸附孔,所述第二吸附单元包括4个以环形阵列分布的吸附孔,所述第三吸附单元包括3个以环形阵列分布的吸附孔,所述第四吸附单元包括2个对称分布的吸附孔,所述第五吸附单元包括1个吸附孔。
[0028] 所述第一吸附层的粗糙度为0.03μm,所述第二吸附层的粗糙度为0.05μm,所述第三吸附层的粗糙度为0.07μm,所述第四吸附层的粗糙度为0.09μm,所述第五吸附层的粗糙度为0.11μm。
[0029] 所述第一吸附层和所述第二吸附层之间的高度差为0.5mm,所述第二吸附层和所述第三吸附层之间的高度差为0.5mm,所述第三吸附层和所述第四吸附层之间的高度差为0.5mm,所述第四吸附层和所述第五吸附层之间的高度差为0.5mm。
[0030] 所述第二吸附层的宽度、第三吸附层的宽度、第四吸附层的宽度和第五吸附层的宽度相等,所述第一吸附层的宽度为其他吸附层的宽度的2倍。
[0031] 所述吸附孔为圆形或椭圆形。
[0032] 本发明的工作原理如下:
[0033] 本发明吸盘的吸附面从外至内依次设有第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层,第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层通过同一圆心向内以阶梯状辐射分布,该结构设计可使吸盘的吸附面与PCB板之间形成较大的负压区,利于吸盘吸紧PCB板的表面;另外,第一吸附层、第二吸附层、第三吸附层、第四吸附层和第五吸附层分别具有若干以环形阵列分布的第一吸附单元、第二吸附单元、第三吸附单元、第四吸附单元和第五吸附单元,相邻吸附层的吸附单元交错分布,且第一吸附单元的吸附孔、第二吸附单元的吸附孔、第三吸附单元的吸附孔、第四吸附单元的吸附孔和第五吸附单元的吸附孔的数量逐渐减少,同时第一吸附层的粗糙度、第二吸附层的粗糙度、第三吸附层的粗糙度、第四吸附层的粗糙度和第五吸附层的粗糙度依次增大,通过吸附孔的数量和吸附层表面的粗糙度的结合作用,达到吸盘外周较大的吸力吸紧PCB板(外周与PCB板的接触面摩擦力较小)以及吸盘内周较大的粗糙度增大与PCB板的摩擦力(吸盘内周与PCB板的吸力较小)的效果,在吸盘吸紧PCB板时减少吸盘与PCB板的接触面,避免在PCB板上留下痕迹,影响PCB板的外观。
[0034] 以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
高效检索全球专利

专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。

我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。

申请试用

分析报告

专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。

申请试用

QQ群二维码
意见反馈