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衬底处理装置

阅读:618发布:2021-04-11

专利汇可以提供衬底处理装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 的衬底处理装置具备装载部、第1处理部、第1搬送机构、第2处理部、第2搬送机构、第1载置部、第2载置部及控制部。第1搬送机构反复执行包含3个接近动作(具体来说为第1接近动作、第2接近动作及第3接近动作)的第1循环动作。第2搬送机构反复执行包含3个接近动作(具体来说为第4接近动作、第5接近动作及第6接近动作)的第2循环动作。,下面是衬底处理装置专利的具体信息内容。

1.一种衬底处理装置,具备:
装载部,从载具搬出衬底;
第1处理部,对衬底进行处理;
第1搬送机构,将衬底搬送到所述第1处理部;
第2处理部,对衬底进行与所述第1处理部不同的处理;
第2搬送机构,将衬底搬送到所述第2处理部;
第1载置部,供载置在所述装载部与所述第1搬送机构之间被搬送的衬底;
第2载置部,供载置在所述第1搬送机构与所述第2搬送机构之间被搬送的衬底;及控制部,控制所述装载部、所述第1处理部、所述第1搬送机构、所述第2处理部及所述第
2搬送机构;且
按照所述控制部的控制,所述第1搬送机构反复执行包含3个接近动作的第1循环动作,所述第1循环动作中所包含的所述接近动作中的一个是向所述第1载置部接近的第1接近动作,
所述第1循环动作中所包含的所述接近动作中的另一个是向所述第1处理部接近的第2接近动作,
所述第1循环动作中所包含的所述接近动作的其余一个是向所述第2载置部接近的第3接近动作,
按照所述控制部的控制,所述第2搬送机构反复执行包含2个或3个接近动作的第2循环动作,
所述第2循环动作中所包含的所述接近动作中的一个是向所述第2载置部接近的第4接近动作,
所述第2循环动作中所包含的所述接近动作中的另一个是向所述第2处理部接近的第5接近动作。
2.根据权利要求1所述的衬底处理装置,其中
所述第1接近动作包含获取所述第1载置部上的衬底且将衬底载置在所述第1载置部的所述第1搬送机构的动作,
所述第2接近动作包含将衬底搬入到所述第1处理部且从所述第1处理部搬出衬底的所述第1搬送机构的动作,
所述第3接近动作包含获取所述第2载置部上的衬底且将衬底载置在所述第2载置部的所述第1搬送机构的动作,
所述第4接近动作包含获取所述第2载置部上的衬底且将衬底载置在所述第2载置部的所述第2搬送机构的动作,
所述第5接近动作包含将衬底搬入到所述第2处理部且从所述第2处理部搬出衬底的所述第2搬送机构的动作。
3.根据权利要求1所述的衬底处理装置,其中
所述第1处理部配置在所述第2搬送机构能够搬送衬底的第2区域之外,所述第2处理部配置在所述第1搬送机构能够搬送衬底的第1区域之外。
4.根据权利要求3所述的衬底处理装置,其中
所述第1区域在俯视下为圆形,
所述第2区域在俯视下为圆形。
5.根据权利要求1所述的衬底处理装置,其中
所述第1载置部配置在所述装载部与所述第1搬送机构之间,
所述第2载置部配置在所述第1搬送机构与所述第2搬送机构之间,
所述第1处理部配置在所述第1搬送机构的侧方,
所述第2处理部配置在所述第2搬送机构的侧方。
6.根据权利要求5所述的衬底处理装置,其中
所述第1搬送机构、所述第2搬送机构及所述第2载置部在俯视下呈三配置。
7.根据权利要求5所述的衬底处理装置,其中
所述第1搬送机构具备:
第1支柱,被设置为固定,且在上下方向上延伸;
第1升降部,支撑在所述第1支柱,且能够在上下方向上移动;
第1旋转部,支撑在所述第1升降部,且能够绕与上下方向平行的第1轴线旋转;及第1保持部,支撑在所述第1旋转部,且保持衬底;且
所述第1旋转部被设置为无法在平方向上移动,
所述第1处理部具备将衬底逐片进行处理的多个第1处理单元,
所述第1处理单元各自在侧视下配置在与所述第1轴线重叠的位置
所述第2搬送机构具备:
第2支柱,被设置为固定,且在上下方向上延伸;
第2升降部,支撑在所述第2支柱,且能够在上下方向上移动;
第2旋转部,支撑在所述第2升降部,且能够绕与上下方向平行的第2轴线旋转;及第2保持部,支撑在所述第2旋转部,且保持衬底;且
所述第2旋转部被设置为无法在水平方向上移动,
所述第2处理部具备将衬底逐片进行处理的多个第2处理单元,
所述第2处理单元各自在侧视下配置在与所述第2轴线重叠的位置。
8.根据权利要求7所述的衬底处理装置,其中
所述第1处理单元及所述第2处理单元中的一个是对衬底进行热处理的热处理单元,所述热处理单元以排列在上下方向的方式配置。
9.根据权利要求7所述的衬底处理装置,其中
在俯视下,所述第1轴线与所述第2轴线之间的距离为衬底半径的5倍以下。
10.根据权利要求7所述的衬底处理装置,其中
所述第2载置部在俯视下配置在不和连结所述第1轴线与所述第2轴线的假想直线重叠的位置。
11.根据权利要求10所述的衬底处理装置,其中
在俯视下,所述第1轴线与所述第2载置部之间的距离和所述第2轴线与所述第2载置部之间的距离相等。
12.根据权利要求1所述的衬底处理装置,其中
所述第2载置部具有:
第1部分,在俯视下与所述第1处理部重叠;及
第2部分,在俯视下与所述第2处理部重叠。
13.根据权利要求12所述的衬底处理装置,其中
所述第2载置部还具有第3部分,该第3部分在俯视下不与所述第1处理部及所述第2处理部重叠。
14.根据权利要求13所述的衬底处理装置,其中
所述第2载置部的所述第3部分在俯视下与供设置所述第1搬送机构及所述第2搬送机构的搬送空间重叠。
15.根据权利要求1所述的衬底处理装置,其中
所述衬底处理装置具备:
多个第1槽,配置在所述第1搬送机构的侧方,且在上下方向上排列成1列;及多个第2槽,配置在所述第2搬送机构的侧方,且在上下方向上排列成1列;且所述第1槽的至少一个是用来设置所述第1处理部的处理用第1槽,
所述第1槽的另一个是用来设置所述第2载置部的载置用第1槽,
所述第2槽的至少一个是用来设置所述第2处理部的处理用第2槽,
所述第2槽的另一个是用来设置所述第2载置部的载置用第2槽,
所述载置用第2槽配置在与所述载置用第1槽相同的高度位置,
所述第2载置部横跨所述载置用第1槽与所述载置用第2槽而设置。
16.根据权利要求1所述的衬底处理装置,其中
所述衬底处理装置具备:
第3处理部,对衬底进行与所述第1处理部及所述第2处理部不同的处理;
第3搬送机构,将衬底搬送到所述第3处理部;及
第3载置部,供载置在所述第2搬送机构与所述第3搬送机构之间被搬送的衬底;且所述控制部进而对所述第3处理部与所述第3搬送机构进行控制,
所述第2循环动作包含3个所述接近动作,
除所述第4接近动作及所述第5接近动作以外的所述第2循环动作中所包含的所述接近动作的其余一个是向所述第3载置部接近的第6接近动作,
按照所述控制部的控制,所述第3搬送机构反复执行包含2个或3个接近动作的第3循环动作,
所述第3循环动作中所包含的所述接近动作中的一个是向所述第3载置部接近的第7接近动作,
所述第3循环动作中所包含的所述接近动作中的另一个是向所述第3处理部接近的第8接近动作。
17.根据权利要求16所述的衬底处理装置,其中
所述第6接近动作包含获取所述第3载置部上的衬底且将衬底载置在所述第3载置部的所述第2搬送机构的动作,
所述第7接近动作包含获取所述第3载置部上的衬底且将衬底载置在所述第3载置部的所述第3搬送机构的动作,
在所述第8接近动作中,包含将衬底搬入到所述第3处理部且从所述第3处理部搬出衬底的所述第3搬送机构的动作。
18.根据权利要求16所述的衬底处理装置,其中
所述第1处理部及所述第2处理部中的一个是将衬底的周缘部曝光的边缘曝光处理部,所述第1处理部及所述第2处理部中的另一个是对衬底进行热处理的热处理部,所述第
3处理部是对衬底进行液体处理的液体处理部。
19.根据权利要求18所述的衬底处理装置,其中
按照由所述控制部进行的控制,所述第1搬送机构、所述第2搬送机构及所述第3搬送机构将从所述装载部供给的衬底依序搬送到所述边缘曝光处理部、所述液体处理部及所述热处理部,
按照由所述控制部进行的控制,所述第1搬送机构与所述第2搬送机构将从所述热处理部搬出的衬底移回到所述装载部,而不交付给所述第3搬送机构。
20.根据权利要求18所述的衬底处理装置,其
具备将所述第3处理部与所述第2处理部隔开的隔热空间。
21.根据权利要求16所述的衬底处理装置,其中
所述第3处理部具备
第3长处理部及
第3短处理部,
所述第3搬送机构配置在所述第3长处理部与第3短处理部之间,
所述第3长处理部、所述第3搬送机构及所述第3短处理部排列在宽度方向,与所述宽度方向正交的前后方向上的所述第3短处理部的长度比所述前后方向上的第
3长处理部的长度小,
所述衬底处理装置具备保养空间,
所述保养空间与所述第3短处理部排列在所述前后方向。
22.根据权利要求16所述的衬底处理装置,其中
所述衬底处理装置具备:
第1区,收容所述第1处理部、所述第1搬送机构、所述第2处理部、所述第2搬送机构及所述第2载置部;及
第2区块,连接在所述第1区块,收容所述第3处理部及所述第3搬送机构;且所述第1区块在前视、俯视及侧视下为矩形,
所述第2区块在前视、俯视及侧视下为矩形。
23.根据权利要求22所述的衬底处理装置,其中
所述衬底处理装置具备:
第1框架,被设置作为所述第1区块的骨架,支撑所述第1搬送机构、所述第2搬送机构、所述第1处理部、所述第2处理部及所述第2载置部;及
第2框架,被设置作为所述第2区块的骨架,支撑所述第3搬送机构与所述第3处理部;且所述第2框架连结在所述第1框架。
24.一种衬底处理装置,具备:
第1处理部,对衬底进行处理;
第2处理部,对衬底进行处理;
搬送空间,形成在所述第1处理部及所述第2处理部的侧方;
第1搬送机构,设置在所述搬送空间,且将衬底搬送到所述第1处理部;
第2搬送机构,设置在所述搬送空间,且将衬底搬送到所述第2处理部;及载置部,供载置在所述第1搬送机构与所述第2搬送机构之间被搬送的衬底;且所述载置部具有在俯视下
与所述第1处理部重叠的第1部分、及
与所述第2处理部重叠的第2部分。
25.根据权利要求24所述的衬底处理装置,其中
所述载置部具有在俯视下与所述搬送空间重叠的第3部分。

说明书全文

衬底处理装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一种对衬底进行处理的衬底处理装置。衬底例如为半导体晶片、液晶显示器用衬底、有机EL(Electroluminescence,电致发光)用衬底、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)用衬底、光显示器用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底、光掩模用衬底及太阳电池用衬底。

背景技术

[0002] 日本专利特开2009-010291号公报公开了一种衬底处理装置。以下,通过划括号来表示日本专利特开2009-010291号公报中所记载的符号。衬底处理装置(1)具备搬送机构(TID)、搬送机构(T1)、搬送机构(T2)及搬送机构(TIFA)。搬送机构(TID、T1、T2、TIFA)分别搬送衬底。
[0003] 衬底处理装置(1)具备载置部(PASS1)、载置部(PASS2)及载置部(PASS5)。载置部(PASS1、PASS2、PASS5)分别供载置衬底。搬送机构(TID)与搬送机构(T1)经由载置部(PASS1)交接衬底。搬送机构(T1)与搬送机构(T2)经由载置部(PASS2)交接衬底。搬送机构(T2)与搬送机构(TIFA)经由载置部(PASS5)交接衬底。
[0004] 衬底处理装置(1)具备涂布处理单元(31)、热处理单元(41)、边缘曝光单元(EEW)、显影处理单元(DEV)及热处理单元(42)。涂布处理单元(31)、热处理单元(41)、边缘曝光单元(EEW)、显影处理单元(DEV)、热处理单元(42)分别对衬底进行处理。搬送机构(T1)将衬底搬送到涂布处理单元(31)及热处理单元(41)。搬送机构(T2)将衬底搬送到边缘曝光单元(EEW)、显影处理单元(DEV)及热处理单元(42)。
[0005] 搬送机构(T1)反复执行一系列动作(以下称作“循环动作”)。搬送机构(T1)的循环动作至少包含以下4个接近动作。
[0006] ·第1接近动作:向载置部(PASS1)接近
[0007] ·第2接近动作:向载置部(PASS2)接近
[0008] ·第3接近动作:向涂布处理单元(31)接近
[0009] ·第4接近动作:向热处理单元(41)接近
[0010] 搬送机构(T2)反复执行一系列动作(以下称作“循环动作”)。搬送机构(T2)的循环动作至少包含以下5个接近动作。
[0011] ·第5接近动作:向载置部(PASS2)接近
[0012] ·第6接近动作:向载置部(PASS5)接近
[0013] ·第7接近动作:向边缘曝光单元(EEW)接近
[0014] ·第8接近动作:向显影处理单元(DEV)接近
[0015] ·第9接近动作:向热处理单元(42)接近
[0016] 衬底处理装置(1)具备搬送空间(A1)及搬送空间(A2)。搬送空间(A1)配置在涂布处理单元(31)及热处理单元(41)的侧方。搬送机构(T1)设置在搬送空间(A1)。搬送空间(A2)配置在边缘曝光单元(EEW)、显影处理单元(DEV)及热处理单元(42)的侧方。搬送机构(T2)设置在搬送空间(A2)。载置部(PASS2)横跨搬送空间(A1)及搬送空间(A2)而配置。

发明内容

[0017] [发明要解决的问题]
[0018] 要求进一步提高衬底处理装置的产量(每单位时间能够处理的衬底的数量)。然而,就日本专利特开2009-010291号公报所示的衬底处理装置(1)的构成来说,难以进一步提高产量。
[0019] 另外,要求进一步减小衬底处理装置的占据面积(设置面积)。然而,就日本专利特开2009-010291号公报所示的衬底处理装置(1)的构成来说,难以进一步减小衬底处理装置(1)的占据面积。
[0020] 本发明是鉴于所述情况完成的,以提供能够提高产量的衬底处理装置为第1目的。进而,以提供能够减小衬底处理装置的占据面积的衬底处理装置为第2目的。
[0021] [解决问题的技术手段]
[0022] 本发明为了达成所述目的而采用如下构成。
[0023] 也就是,本发明是一种衬底处理装置,具备:装载部,从载具搬出衬底;第1处理部,对衬底进行处理;第1搬送机构,将衬底搬送到所述第1处理部;第2处理部,对衬底进行与所述第1处理部不同的处理;第2搬送机构,将衬底搬送到所述第2处理部;第1载置部,供载置在所述装载部与所述第1搬送机构之间被搬送的衬底;第2载置部,供载置在所述第1搬送机构与所述第2搬送机构之间被搬送的衬底;及控制部,控制所述装载部、所述第1处理部、所述第1搬送机构、所述第2处理部及所述第2搬送机构;且按照所述控制部的控制,所述第1搬送机构反复执行包含3个接近动作的第1循环动作,所述第1循环动作中所包含的所述接近动作中的一个是向所述第1载置部接近的第1接近动作,所述第1循环动作中所包含的所述接近动作中的另一个是向所述第1处理部接近的第2接近动作,所述第1循环动作中所包含的所述接近动作的其余一个是向所述第2载置部接近的第3接近动作,按照所述控制部的控制,所述第2搬送机构反复执行包含2个或3个接近动作的第2循环动作,所述第2循环动作中所包含的所述接近动作中的一个是向所述第2载置部接近的第4接近动作,所述第2循环动作中所包含的所述接近动作中的另一个是向所述第2处理部接近的第5接近动作。
[0024] 经由第1载置部,在装载部与第1搬送机构之间搬送衬底。经由第2载置部,在第1搬送机构与第2搬送机构之间搬送衬底。第1搬送机构将衬底搬送到第1处理部。第2搬送机构将衬底搬送到第2处理部。第1处理部与第2处理部分别对衬底进行处理。第2处理部对衬底进行的处理与第1处理部对衬底进行的处理不同。
[0025] 此处,第1搬送机构按照控制部的控制,反复执行第1循环动作。第1循环动作包含3个接近动作。也就是说,第1循环动作中所包含的接近动作的数量为3个。第1循环动作中所包含的接近动作具体来说为第1接近动作、第2接近动作及第3接近动作。像这样,第1循环动作中所包含的接近动作的数量相对较少。因此,第1搬送机构每单位时间能够执行的第1循环动作的次数相对较多。换句话来说,第1搬送机构每单位时间能够搬送的衬底的片数相对较多。总之,第1搬送机构搬送衬底的效率(以下适当称作“搬送效率”)相对较高。
[0026] 第2搬送机构按照控制部的控制,反复执行第2循环动作。第2循环动作只由2个或3个接近动作构成。也就是说,第2循环动作中所包含的接近动作的数量为2个或3个。第2循环动作中所包含的接近动作具体来说为第4接近动作与第5接近动作。像这样,第2循环动作中所包含的接近动作的数量相对较少。因此,第2搬送机构的搬送效率相对较高。
[0027] 如上所述,第1搬送机构及第2搬送机构的各搬送效率相对较高,所以衬底处理装置每单位时间能够处理的衬底的片数相对较多。像这样,衬底处理装置能够适宜地提高产量。
[0028] 在所述衬底处理装置中,优选所述第1接近动作包含获取所述第1载置部上的衬底且将衬底载置在所述第1载置部的所述第1搬送机构的动作,所述第2接近动作包含将衬底搬入到所述第1处理部且从所述第1处理部搬出衬底的所述第1搬送机构的动作,所述第3接近动作包含获取所述第2载置部上的衬底且将衬底载置在所述第2载置部的所述第1搬送机构的动作,所述第4接近动作包含获取所述第2载置部上的衬底且将衬底载置在所述第2载置部的所述第2搬送机构的动作,所述第5接近动作包含将衬底搬入到所述第2处理部且从所述第2处理部搬出衬底的所述第2搬送机构的动作。据此,第1搬送机构及第2搬送机构能够将从装载部供给的衬底搬送到第1处理部及第2处理部。进而,第1搬送机构及第2搬送机构能够将在第1处理部及第2处理部中经处理的衬底移回到装载部。
[0029] 在所述衬底处理装置中,优选所述第1处理部配置在所述第2搬送机构能够搬送衬底的第2区域之外,所述第2处理部配置在所述第1搬送机构能够搬送衬底的第1区域之外。第1处理部配置在第2搬送机构的第2区域之外。因此,第1搬送机构能够不与第2搬送机构干涉地向第1处理部接近。同样地,第2处理部配置在第1搬送机构的第1区域之外。因此,第2搬送机构能够不与第1搬送机构干涉地向第2处理部接近。
[0030] 在所述衬底处理装置中,优选所述第1区域在俯视下为大致圆形,所述第2区域在俯视下为大致圆形。由于第1区域在俯视下为大致圆形,所以第1搬送机构能够高效率地进行第1循环动作中所包含的3个接近动作。也就是说,第1搬送机构能够高效率地进行第1循环动作。由此,第1搬送机构的搬送效率更高。同样地,由于第2区域在俯视下为大致圆形,所以第2搬送机构能够高效率地进行第2循环动作中所包含的2个或3个接近动作。也就是说,第2搬送机构能够高效率地进行第2循环动作。由此,第2搬送机构的搬送效率更高。
[0031] 在所述衬底处理装置中,优选所述第1载置部配置在所述装载部与所述第1搬送机构之间,所述第2载置部配置在所述第1搬送机构与所述第2搬送机构之间,所述第1处理部配置在所述第1搬送机构的侧方,所述第2处理部配置在所述第2搬送机构的侧方。第1载置部配置在装载部与第1搬送机构之间。因此,装载部与第1搬送机构能够容易地向第1载置部接近。第2载置部配置在第1搬送机构与第2搬送机构之间。因此,第1搬送机构与第2搬送机构能够容易地向第2载置部接近。第1处理部配置在第1搬送机构的侧方。因此,第1搬送机构能够容易地向第1处理部接近。第2处理部配置在第2搬送机构的侧方。因此,第2搬送机构能够容易地向第2处理部接近。
[0032] 在所述衬底处理装置中,优选所述第1搬送机构、所述第2搬送机构及所述第2载置部在俯视下呈三配置。据此,第1搬送机构、第2搬送机构及第2载置部在俯视下分别位于三角形的各顶点。因此,能够使第1搬送机构与第2搬送机构的间隔距离变小。由此,能够使衬底处理装置的设置面积(占据面积)变小。
[0033] 在所述衬底处理装置中,优选所述第1搬送机构具备:第1支柱,被设置为固定,且在上下方向上延伸;第1升降部,支撑在所述第1支柱,且能够在上下方向上移动;第1旋转部,支撑在所述第1升降部,且能够绕与上下方向平行的第1轴线旋转;及第1保持部,支撑在所述第1旋转部,且保持衬底;且所述第1旋转部被设置为无法在平方向上移动,所述第1处理部具备将衬底逐片进行处理的多个第1处理单元,所述第1处理单元各自在侧视下配置在与所述第1轴线重叠的位置,所述第2搬送机构具备:第2支柱,被设置为固定,且在上下方向上延伸;第2升降部,支撑在所述第2支柱,且能够在上下方向上移动;第2旋转部,支撑在所述第2升降部,且能够绕与上下方向平行的第2轴线旋转;及第2保持部,支撑在所述第2旋转部,且保持衬底;且所述第2旋转部被设置为无法在水平方向上移动,所述第2处理部具备将衬底逐片进行处理的多个第2处理单元,所述第2处理单元各自在侧视下配置在与所述第2轴线重叠的位置。第1支柱被设置为固定。第1旋转部被设置为无法在水平方向上移动。因此,第1搬送机构能够分别在短时间内进行第1-第3接近动作。进而,各第1处理单元在侧视下配置在与第1轴线重叠的位置。因此,第1搬送机构能够容易地接近各第1处理单元。同样地,第2支柱被设置为固定。第2旋转部被设置为无法在水平方向上移动。因此,第2搬送机构能够分别在短时间内进行第4、第5接近动作。进而,各第2处理单元在侧视下配置在与第2轴线重叠的位置。因此,第2搬送机构能够容易地接近各第2处理单元。
[0034] 在所述衬底处理装置中,优选所述第1处理单元及所述第2处理单元中的一个是对衬底进行热处理的热处理单元,所述热处理单元以排列在上下方向的方式配置。由于热处理单元以排列在上下方向的方式配置,所以第1搬送机构及第2搬送机构中的任一个均能够容易地接近各热处理单元。例如,在第1处理单元为热处理单元的情况下,第1搬送机构能够容易地接近各热处理单元。例如,在第2处理单元为热处理单元的情况下,第2搬送机构能够容易地接近热处理单元。
[0035] 在所述衬底处理装置中,优选在俯视下,所述第1轴线与所述第2轴线之间的距离为衬底半径的5倍以下。据此,能够使第1搬送机构与第2搬送机构的间隔距离变小。由此,能够使衬底处理装置的设置面积(占据面积)变小。
[0036] 在所述衬底处理装置中,优选所述第2载置部在俯视下配置在不和连结所述第1轴线与所述第2轴线的假想直线重叠的位置。据此,能够适宜地使第1搬送机构与第2搬送机构的间隔距离变小。
[0037] 在所述衬底处理装置中,优选在俯视下,所述第1轴线与所述第2载置部之间的距离和所述第2轴线与所述第2载置部之间的距离大致相等。据此,第1搬送机构及第2搬送机构能够分别容易地接近第2载置部。
[0038] 在所述衬底处理装置中,优选所述第2载置部具有:第1部分,在俯视下与所述第1处理部重叠;及第2部分,在俯视下与所述第2处理部重叠。也就是说,第2载置部在俯视下,配置在与第1处理部和第2处理部的两者重叠的位置。结果,能够适宜地兼顾使第1搬送机构与第2搬送机构的间隔距离变小、以及第1搬送机构及第2搬送机构能够容易地接近第2载置部。
[0039] 在所述衬底处理装置中,优选所述第2载置部还具有第3部分,该第3部分在俯视下不与所述第1处理部及所述第2处理部重叠。第1搬送机构及第2搬送机构能够分别更容易地接近第2载置部。
[0040] 在所述衬底处理装置中,优选所述第2载置部的所述第3部分在俯视下与供设置所述第1搬送机构及所述第2搬送机构的搬送空间重叠。第1搬送机构及第2搬送机构能够分别更容易地接近第2载置部。
[0041] 在所述衬底处理装置中,优选所述衬底处理装置具备:多个第1槽,配置在所述第1搬送机构的侧方,且在上下方向上排列成1列;及多个第2槽,配置在所述第2搬送机构的侧方,且在上下方向上排列成1列;且所述第1槽的至少一个是用来设置所述第1处理部的处理用第1槽,所述第1槽的另一个是用来设置所述第2载置部的载置用第1槽,所述第2槽的至少一个是用来设置所述第2处理部的处理用第2槽,所述第2槽的另一个是用来设置所述第2载置部的载置用第2槽,所述载置用第2槽配置在与所述载置用第1槽相同的高度位置,所述第2载置部横跨所述载置用第1槽与所述载置用第2槽而设置。能够有效运用第1槽的一部分与第2槽的一部分,适宜地设置第2载置部。
[0042] 在所述衬底处理装置中,优选所述衬底处理装置具备:第3处理部,对衬底进行与所述第1处理部及所述第2处理部不同的处理;第3搬送机构,将衬底搬送到所述第3处理部;及第3载置部,供载置在所述第2搬送机构与所述第3搬送机构之间被搬送的衬底;且所述控制部进而对所述第3处理部与所述第3搬送机构进行控制,所述第2循环动作包含3个所述接近动作,除所述第4接近动作及所述第5接近动作以外的所述第2循环动作中所包含的所述接近动作的其余一个是向所述第3载置部接近的第6接近动作,按照所述控制部的控制,所述第3搬送机构反复执行包含2个或3个接近动作的第3循环动作,所述第3循环动作中所包含的所述接近动作中的一个是向所述第3载置部接近的第7接近动作,所述第3循环动作中所包含的所述接近动作中的另一个是向所述第3处理部接近的第8接近动作。
[0043] 经由第3载置部,在第2搬送机构与第3搬送机构之间搬送衬底。第3搬送机构将衬底搬送到第3处理部。第3处理部对衬底进行处理。第3处理部对衬底进行的处理与第1处理部对衬底进行的处理不同,且与第2处理部对衬底进行的处理不同。
[0044] 此处,第2搬送机构的第2循环动作包含3个接近动作。也就是说,第2循环动作中所包含的接近动作的数量为3个。第2循环动作中所包含的接近动作具体来说为第4接近动作、第5接近动作及第6接近动作。像这样,第2循环动作中所包含的接近动作的数量相对较少。因此,第2搬送机构的搬送效率相对较高。
[0045] 按照控制部的控制,第3搬送机构反复执行第3循环动作。第3循环动作只由2个或3个接近动作构成。第3循环动作中所包含的接近动作的数量为2个或3个。第3循环动作中所包含的接近动作为第7接近动作与第8接近动作。像这样,第3循环动作中所包含的接近动作的数量相对较少。因此,第3搬送机构的搬送效率相对较高。
[0046] 如上所述,第1搬送機、第2搬送机构及第3搬送机构的各搬送效率较高,所以衬底处理装置能够适宜地提高产量。
[0047] 在所述衬底处理装置中,优选所述第6接近动作包含获取所述第3载置部上的衬底且将衬底载置在所述第3载置部的所述第2搬送机构的动作,所述第7接近动作包含获取所述第3载置部上的衬底且将衬底载置在所述第3载置部的所述第3搬送机构的动作,在所述第8接近动作中,包含将衬底搬入到所述第3处理部且从所述第3处理部搬出衬底的所述第3搬送机构的动作。据此,第1搬送机构、第2搬送机构及第3搬送机构能够将从装载部供给的衬底搬送到第1处理部、第2处理部及第3处理部。进而,第1搬送机构、第2搬送机构及第3搬送机构能够将在第1处理部、第2处理部及第3处理部中经处理的衬底移回到装载部。
[0048] 在所述衬底处理装置中,优选所述第1处理部及所述第2处理部中的一个是将衬底的周缘部曝光的边缘曝光处理部,所述第1处理部及所述第2处理部中的另一个是对衬底进行热处理的热处理部,所述第3处理部是对衬底进行液体处理的液体处理部。第1处理部及第2处理部与第3处理部相比配置在靠近装载部的位置。因此,能够在相对靠近装载部的位置配置边缘曝光处理部及热处理部。换句话来说,第3处理部与第1处理部及第2处理部相比配置在远离装载部的位置。因此,能够在距装载部相对较远的位置配置液体处理部。
[0049] 在所述衬底处理装置中,优选按照由所述控制部进行的控制,所述第1搬送机构、所述第2搬送机构及所述第3搬送机构将从所述装载部供给的衬底依序搬送到所述边缘曝光处理部、所述液体处理部及所述热处理部,按照由所述控制部进行的控制,所述第1搬送机构与所述第2搬送机构将从所述热处理部搬出的衬底移回到所述装载部,而不交付给所述第3搬送机构。第3搬送机构不搬送从热处理部搬出的衬底。也就是说,第3搬送机构不与热处理后的衬底接触。第3搬送机构只将热处理前的衬底搬送到液体处理部。因此,第3搬送机构不会从热处理后的衬底受到热影响。由此,被搬送到液体处理部的衬底不会从第3搬送机构受到热影响。结果,能够适宜地防止液体处理部中的液体处理的品质被损害。
[0050] 在所述衬底处理装置中,优选具备将所述第3处理部与所述第2处理部隔开的隔热空间。能够有效地减少第3处理部从第2处理部受到的热影响。
[0051] 在所述衬底处理装置中,优选所述第3处理部具备第3长处理部及第3短处理部,所述第3搬送机构配置在所述第3长处理部与第3短处理部之间,所述第3长处理部、所述第3搬送机构及所述第3短处理部排列在宽度方向,与所述宽度方向正交的前后方向上的所述第3短处理部的长度比所述前后方向上的第3长处理部的长度小,所述衬底处理装置具备保养空间,所述保养空间与所述第3短处理部排列在所述前后方向。衬底处理装置具备保养空间,所以能够适宜地将衬底处理装置予以保养。
[0052] 在所述衬底处理装置中,优选所述衬底处理装置具备:第1区,收容所述第1处理部、所述第1搬送机构、所述第2处理部、所述第2搬送机构及所述第2载置部;及第2区块,连接在所述第1区块,收容所述第3处理部及所述第3搬送机构;且所述第1区块在前视、俯视及侧视下为大致矩形,所述第2区块在前视、俯视及侧视下为大致矩形。第1处理部及第2处理部设置在第1区块。第3处理部设置在第2区块。由此,能够将第1处理部及第2处理部适宜地与第3处理部隔开。
[0053] 在所述衬底处理装置中,优选所述衬底处理装置具备:第1框架,被设置作为所述第1区块的骨架,支撑所述第1搬送机构、所述第2搬送机构、所述第1处理部、所述第2处理部及所述第2载置部;及第2框架,被设置作为所述第2区块的骨架,支撑所述第3搬送机构与所述第3处理部;且所述第2框架连结在所述第1框架。能够利用第1框架及第2框架适宜地构成第1区块及第2区块。
[0054] 另外,本发明是一种衬底处理装置,具备:第1处理部,对衬底进行处理;第2处理部,对衬底进行处理;搬送空间,形成在所述第1处理部及所述第2处理部的侧方;第1搬送机构,设置在所述搬送空间,且将衬底搬送到所述第1处理部;第2搬送机构,设置在所述搬送空间,且将衬底搬送到所述第2处理部;及载置部,供载置在所述第1搬送机构与所述第2搬送机构之间被搬送的衬底;且所述载置部具有在俯视下与所述第1处理部重叠的第1部分、及与所述第2处理部重叠的第2部分。
[0055] 经由载置部,在第1搬送机构与第2搬送机构之间搬送衬底。第1搬送机构将衬底搬送到第1处理部。第2搬送机构将衬底搬送到第2处理部。第1处理部与第2处理部分别对衬底进行处理。
[0056] 载置部配置在与第1处理部和第2处理部的两者重叠的位置。因此,能够使第1搬送机构与第2搬送机构的间隔距离变小。结果,能够减少衬底处理装置的占据面积。
[0057] 在所述衬底处理装置中,优选所述载置部具有在俯视下与所述搬送空间重叠的第3部分。第1搬送机构及第2搬送机构能够分别容易地接近载置部。
附图说明
[0058] 为了说明发明而图示出目前被认为优选的若干个方式,但要理解发明并不限定于图示那样的构成及对策。
[0059] 图1是第1实施方式的衬底处理装置的概念图
[0060] 图2是示意性地表示第1-第3循环动作的图。
[0061] 图3是示意性地表示衬底的搬送路径的图。
[0062] 图4是第1实施方式的衬底处理装置的俯视图。
[0063] 图5是表示衬底处理装置左部的构成的左侧视图。
[0064] 图6是表示宽度方向上的衬底处理装置中央部的构成的左侧视图。
[0065] 图7是表示衬底处理装置右部的构成的右侧视图。
[0066] 图8是表示第1区块的构成的前视图。
[0067] 图9是第1区块的俯视图。
[0068] 图10是表示第2区块的构成的后视图。
[0069] 图11A、11B分别为第2实施方式的衬底处理装置的俯视图。
[0070] 图12是表示衬底处理装置左部的构成的左侧视图。
[0071] 图13是表示宽度方向上的衬底处理装置中央部的构成的左侧视图。
[0072] 图14是表示衬底处理装置右部的构成的右侧视图。
[0073] 图15是表示第1区块的构成的前视图。
[0074] 图16是表示第2区块的构成的后视图。
[0075] 图17是示意性地表示搬送机构的循环动作的图。
[0076] 图18是示意性地表示衬底的搬送路径的图。
[0077] 图19是变化实施方式的衬底处理装置的俯视图。

具体实施方式

[0078] 以下,参照附图说明本发明的衬底处理装置。
[0079] [第1实施方式]
[0080] <衬底处理装置的概要>
[0081] 图1是第1实施方式的衬底处理装置的概念图。第1实施方式的衬底处理装置1对衬底(例如半导体晶片)W进行一系列处理。
[0082] 衬底W例如为半导体晶片、液晶显示器用衬底、有机EL(Electroluminescence)用衬底、FPD(Flat Panel Display)用衬底、光显示器用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底、光掩模用衬底及太阳电池用衬底。衬底W具有俯视下大致圆形状。
[0083] 衬底处理装置1具备装载部11。装载部11从载具C搬出衬底W。进而,装载部11将衬底W搬入到载具C。载具C收容多片衬底W。载具C例如为FOUP(front opening unified pod,前开式晶片盒)。
[0084] 衬底处理装置1具备第1处理部34、第2处理部37及第3处理部64。第1处理部34、第2处理部37及第3处理部64分别对衬底W进行处理。第1处理部34对衬底W进行的处理与第2处理部37对衬底W进行的处理不同。第1处理部34对衬底W进行的处理与第3处理部64对衬底W进行的处理不同。第2处理部37对衬底W进行的处理与第3处理部64对衬底W进行的处理不同。
[0085] 第1处理部34例如为将衬底W的周缘部曝光的边缘曝光处理部。第1处理部34对衬底W进行的处理例如为将衬底W的周缘部曝光的边缘曝光处理。
[0086] 第2处理部37例如为对衬底W进行热处理的热处理部。第2处理部37对衬底W进行的处理例如为热处理。由第2处理部37进行的热处理包含将衬底W加热的加热处理。
[0087] 第3处理部64例如为对衬底W进行液体处理的液体处理部。第3处理部64对衬底W进行的处理例如为液体处理。由第3处理部64进行的液体处理例如是对衬底W供给显影液,使衬底W显影的显影处理。
[0088] 衬底处理装置1具备第1搬送机构46、第2搬送机构48及第3搬送机构68。第1搬送机构46、第2搬送机构48及第3搬送机构68分别搬送衬底W。第1搬送机构46将衬底W搬送到第1处理部34。第1搬送机构46不将衬底W搬送到第2处理部37及第3处理部64。第2搬送机构48将衬底W搬送到第2处理部37。第2搬送机构48不将衬底W搬送到第1处理部34及第3处理部64。第3搬送机构68将衬底W搬送到第3处理部64。第3搬送机构68不将衬底W搬送到第1处理部34及第2处理部37。
[0089] 衬底处理装置1具备第1载置部21、第2载置部41及第3载置部51。第1载置部21、第2载置部41及第3载置部51分别供载置衬底W。第1载置部21供载置在装载部11与第1搬送机构46之间被搬送的衬底W。第2载置部41供载置在第1搬送机构46与第2搬送机构48之间被搬送的衬底W。第3载置部51供载置在第2搬送机构48与第3搬送机构68之间被搬送的衬底W。
[0090] 衬底处理装置1具备控制部81。控制部81例如设置在装载部11。控制部81控制衬底处理装置1。具体来说,控制部81控制装载部11、第1处理部34、第2处理部37、第3处理部64、第1搬送机构46、第2搬送机构48及第3搬送机构68。
[0091] 控制部81是通过执行各种处理的中央运算处理装置(CPU(Central Processing Unit,中央处理器))、成为运算处理的作业区域的RAM(Random-Access Memory,随机存取存储器)、及固定磁盘等存储媒体等实现。存储媒体中存储着用来对衬底W进行处理的处理配方(处理程序)、或用来识别各衬底W的信息等各种信息。
[0092] 图2是示意性地表示第1-第3循环动作的图。按照控制部81的控制,第1搬送机构46反复执行第1循环动作。按照控制部81的控制,第2搬送机构48反复执行第2循环动作。按照控制部81的控制,第3搬送机构68反复执行第3循环动作。
[0093] 第1搬送机构46的第1循环动作包含3个接近动作。第1循环动作中所包含的3个接近动作如下。
[0094] ·向第1载置部21接近的第1接近动作
[0095] ·向第1处理部34接近的第2接近动作
[0096] ·向第2载置部41接近的第3接近动作
[0097] 此处,第1接近动作包含第1搬送机构46获取第1载置部21上的衬底W的动作、及第1搬送机构46将衬底W载置在第1载置部21的动作。第2接近动作包含第1搬送机构46将衬底W搬入到第1处理部34的动作、及第1搬送机构46从第1处理部34搬出衬底W的动作。第3接近动作包含第1搬送机构46获取第2载置部41上的衬底W的动作、第1搬送机构46包含将衬底W载置在第2载置部41的动作。
[0098] 第2搬送机构48的第2循环动作包含3个接近动作。第2循环动作中所包含的3个接近动作如下。
[0099] ·向第2载置部41接近的第4接近动作
[0100] ·向第2处理部37接近的第5接近动作
[0101] ·向第3载置部51接近的第6接近动作
[0102] 此处,第4接近动作包含第2搬送机构48获取第2载置部41上的衬底W的动作、及第2搬送机构48将衬底W载置在第2载置部41的动作。第5接近动作包含第2搬送机构48将衬底W搬入到第2处理部37的动作、及第2搬送机构48从第2处理部37搬出衬底W的动作。第6接近动作包含第2搬送机构48获取第3载置部51上的衬底W的动作、及第2搬送机构48将衬底W载置在第3载置部51的动作。
[0103] 第3搬送机构68的第3循环动作包含2个接近动作。第3循环动作中所包含的2个接近动作如下。
[0104] ·向第3载置部51接近的第7接近动作
[0105] ·向第3处理部64接近的第8接近动作
[0106] 此处,第7接近动作包含第3搬送机构68获取第3载置部51上的衬底W的动作、及第3搬送机构68将衬底W载置在第3载置部51的动作。第8接近动作包含第3搬送机构68将衬底W搬入到第3处理部64的动作、及第3搬送机构68从第3处理部64搬出衬底W的动作。
[0107] 衬底处理装置1例如以如下方式动作。按照由控制部81进行的控制,第1搬送机构46、第2搬送机构48及第3搬送机构68将从装载部11供给的衬底W依序搬送到第1处理部(边缘曝光处理部)34、第3处理部(液体处理部)64及第2处理部(热处理部)37。之后,第1搬送机构46与第2搬送机构48将衬底W从第2处理部37搬送到装载部11。此处,第1搬送机构46与第2搬送机构48将从第2处理部(热处理部)37搬出的衬底W移回到装载部11,而不交付给第3搬送机构68。以下,更详细地说明衬底处理装置1的动作例。
[0108] 参照图2、3。图3是示意性地表示衬底的搬送路径的图。
[0109] 装载部11从载具C搬出衬底W。装载部11将衬底W载置在第1载置部21。由此,装载部11将衬底W从载具C搬送到第1载置部21。
[0110] 第1搬送机构46获取第1载置部21上的衬底W(第1接近动作)。第1搬送机构46将衬底W搬入到第1处理部34(第2接近动作)。由此,第1搬送机构46将衬底W从第1载置部21搬送到第1处理部34。第1处理部34对衬底W进行处理(边缘曝光处理)。第1搬送机构46从第1处理部34搬出衬底W(第2接近动作)。第1搬送机构46将衬底W放置在第2载置部41(第3接近动作)。由此,第1搬送机构46将衬底W从第1处理部34搬送到第2载置部41。
[0111] 第2搬送机构48获取第2载置部41上的衬底W(第4接近动作)。第2搬送机构48将衬底W载置在第3载置部51(第6接近动作)。由此,第2搬送机构48将衬底W从第2载置部41搬送到第3载置部51。
[0112] 第3搬送机构68获取第3载置部51上的衬底W(第7接近动作)。第3搬送机构68将衬底W搬入到第3处理部64(第8接近动作)。由此,第3搬送机构68将衬底W从第3载置部51搬送到第3处理部64。第3处理部64对衬底W进行处理(液体处理)。第3搬送机构68从第3处理部64搬出衬底W(第8接近动作)。第3搬送机构68将衬底W载置在第3载置部51(第7接近动作)。由此,第3搬送机构68将衬底W从第3处理部64搬送到第3载置部51。
[0113] 第2搬送机构48获取第3载置部51上的衬底W(第6接近动作)。第2搬送机构48将衬底W搬入到第2处理部37(第5接近动作)。由此,第2搬送机构48将衬底W从第3载置部51搬送到第2处理部37。第2处理部37对衬底W进行处理(热处理)。第2搬送机构48从第2处理部37搬出衬底W(第5接近动作)。第2搬送机构48将衬底W载置在第2载置部41(第4接近动作)。由此,第2搬送机构48将衬底W从第2处理部37搬送到第2载置部41。
[0114] 第1搬送机构46获取第2载置部41上的衬底W(第3接近动作)。第1搬送机构46将衬底W载置在第1载置部21(第1接近动作)。由此,第1搬送机构46将衬底W从第2载置部41搬送到第1载置部21。
[0115] 装载部11获取第1载置部21上的衬底W。装载部11将衬底W搬入到载具C。由此,装载部11将衬底W从第1载置部21搬送到载具C。
[0116] 此处,衬底处理装置1能够同时对多个衬底W进行处理。在衬底处理装置1同时对多个衬底W进行处理的情况下,在1次第1接近动作中,进行如下动作:第1搬送机构46获取第1载置部21上的衬底W;及第1搬送机构46将衬底W载置在第1载置部21。在第2-第8接近动作中也一样。
[0117] <第1实施方式的主要效果>
[0118] 根据所述衬底处理装置1,发挥以下效果。
[0119] 衬底处理装置1具备3个处理部(34、37、64)。衬底处理装置1针对各处理部(34、37、64),个别地具备搬送机构(46、48、68)。与第1处理部34对应地设有第1搬送机构46,与第2处理部37对应地设有第2搬送机构48,与第3处理部64对应地设有第3搬送机构68。因此,第1搬送机构46搬送衬底W的处理部的数量为1个。因此,能够适宜地防止第1搬送机构46的第1循环动作中所包含的接近动作的数量成为4个以上。同样地,第2搬送机构48搬送衬底W的处理部的数量为1个。因此,能够适宜地防止第2搬送机构48的第2循环动作中所包含的接近动作的数量成为4个以上。第3搬送机构68搬送衬底W的处理部的数量为1个。因此,能够适宜地防止第3搬送机构68的第3循环动作中所包含的接近动作的数量成为4个以上。
[0120] 具体来说,第1循环动作中所包含的接近动作的数量为3个。第1循环动作中所包含的接近动作的数量相对较少。因此,第1搬送机构46每单位时间能够执行的第1循环动作的次数相对较多。换句话来说,第1搬送机构46每单位时间能够搬送的衬底W的片数相对较多。总之,第1搬送机构46搬送衬底W的效率(以下适当地称作“搬送效率”)相对较高。
[0121] 第2循环动作中所包含的接近动作的数量为3个。第2循环动作中所包含的接近动作的数量相对较少。因此,第2搬送机构48的搬送效率相对较高。
[0122] 第3循环动作中所包含的接近动作的数量为2个。第3循环动作中所包含的接近动作的数量相对较少。因此,第3搬送机构68的搬送效率相对较高。
[0123] 如上所述,第1搬送机构46、第2搬送机构48及第3搬送机构68的各搬送效率相对较高,所以衬底处理装置1每单位时间能够处理的衬底W的片数相对较多。由此,能够适宜地提高衬底处理装置1的产量。
[0124] 第1接近动作包含获取第1载置部21上的衬底W动作、及将衬底W载置在第1载置部21的动作。第2接近动作包含将衬底W搬入到第1处理部34的动作、及从第1处理部34搬出衬底W的动作。第3接近动作包含获取第2载置部41上的衬底W的动作、及将衬底W载置在第2载置部41的动作。第4接近动作包含获取第2载置部41上的衬底W的动作、及将衬底W载置在第2载置部41的动作。第5接近动作包含将衬底W搬入到第2处理部37的动作、及从第2处理部37搬出衬底W的动作。第6接近动作包含获取第3载置部51上的衬底W的动作、及将衬底W载置在第3载置部51的动作。第7接近动作包含获取第3载置部51上的衬底W的动作、及将衬底W载置在第3载置部51的动作。第8接近动作包含将衬底W搬入到第3处理部64的动作、及从第3处理部64搬出衬底W的动作。因此,第1、第2、第3搬送机构46、48、68能够将从装载部11供给的衬底W搬送到第1、第2、第3处理部34、37、64。进而,第1、第2、第3搬送机构46、48、68能够将在第
1、第2、第3处理部34、37、64中经处理的衬底W移回到装载部11。
[0125] 第1搬送机构46、第2搬送机构48及第3搬送机构68将从装载部11供给的衬底W依序搬送到第1处理部(边缘曝光处理部)34、第3处理部(液体处理部)64及第2处理部(热处理部)37。进而,第1搬送机构46与第2搬送机构48将从第2处理部(热处理部)37搬出的衬底W移回到装载部11,而不交付给第3搬送机构68。因此,第3搬送机构68不搬送从第2处理部(热处理部)37搬出的衬底W。也就是说,第3搬送机构68不与热处理后的衬底W接触。第3搬送机构68只搬送热处理前的衬底W。因此,第3搬送机构68不会从热处理后的衬底W受到热影响。由此,第3搬送机构68能够不对衬底W带来热影响地将衬底W搬送到第3处理部(液体处理部)
64。例如,第3搬送机构68能够不使衬底W的温度发生变化地将衬底W搬送到第3处理部(液体处理部)64。由此,能够适宜地防止第3处理部(液体处理部)64中的处理品质被损害。
[0126] 以下,进一步详细地说明衬底处理装置1的构造。
[0127] <衬底处理装置1的整体构造>
[0128] 图4是第1实施方式的衬底处理装置1的俯视图。衬底处理装置1具备装载部11、第1区块31及第2区块61。第1区块31连接在装载部11。第2区块61连接在第1区块31。第1区块31收容第1处理部34、第2处理部37、第2载置部41、第1搬送机构46及第2搬送机构48。第2区块61收容第3处理部64与第3搬送机构68。第1载置部21横跨装载部11与第1区块31而设置。第3载置部51横跨第1区块31与第2区块61而设置。
[0129] 装载部11、第1区块31及第2区块61以在水平方向上排列成一列的方式配置。第1区块31配置在装载部11与第2区块61之间。
[0130] 此处,将装载部11、第1区块31及第2区块61排列的方向称作“前后方向X”。将前后方向X中的从第2区块61朝向装载部11的方向称作“前方”。将与前方相反的方向称作“后方”。将与前后方向X正交的水平方向称作“宽度方向Y”或“侧方”。将“宽度方向Y”的一方向适当地称作“右方”。将与右方相反的方向称作“左方”。将垂直的方向称作“上下方向Z”。上下方向Z与前后方向X正交,且与宽度方向Y正交。在各图中,作为参考,适当地示出前、后、右、左、上、下。
[0131] 以下,对衬底处理装置1的各部进行说明。
[0132] <装载部11>
[0133] 参照图4-7。图5是表示衬底处理装置1左部的构成的左侧视图。图6是表示宽度方向Y上的衬底处理装置1中央部的构成的左侧视图。图7是表示衬底处理装置1右部的构成的右侧视图。
[0134] 装载部11具备载具载置部12A、12B。载具载置部12A、12B以排列在宽度方向Y的方式配置。载具载置部12A配置在载具载置部12B的右方。载具载置部12A、12B分别载置1个载具C。
[0135] 在将载具载置部12A上的载具C与载具载置部12B上的载具C加以区分的情况下,将载具载置部12A上的载具C记载为“载具CA”,将载具载置部12B上的载具C记载为“载具CB”。
[0136] 装载部11具备搬送空间13。搬送空间13配置在载具载置部12A、12B的后方。
[0137] 装载部11具备装载用搬送机构14A、14B。装载用搬送机构14A、14B设置在搬送空间13。装载用搬送机构14A、14B以排列在宽度方向Y的方式配置。装载用搬送机构14B配置在装载用搬送机构14A的左方。装载用搬送机构14A配置在载具载置部12A的后方。装载用搬送机构14B配置在载具载置部12B的后方。
[0138] 装载用搬送机构14A具备支柱15a、升降部15b、旋转部15c及保持部15d、15e。保持部15e被示于图7中。支柱15a在上下方向Z上延伸。支柱15a被设置为固定。也就是说,支柱15a无法移动。升降部15b支撑在支柱15a。升降部15b无法相对于支柱15a在上下方向Z上移动。升降部15b无法在水平方向上移动。旋转部15c支撑在升降部15b。旋转部15c能够相对于升降部15b旋转。旋转部15c的旋转轴线与上下方向Z平行。旋转部15c无法在水平方向上移动。保持部15d、15e支撑在旋转部15c。保持部15d、15e能够相对于旋转部15c在水平方向上进退移动。保持部15d、15e能够独立地进退移动。保持部15d、15e分别与衬底W接触。保持部
15d、15e分别将1片衬底W以水平姿势予以保持。
[0139] 装载用搬送机构14B具有与装载用搬送机构14A大致相同的构造。也就是说,装载用搬送机构14B具备支柱15a、升降部15b、旋转部15c及保持部15d、15e。
[0140] 像这样,在本说明书中,当不同要素具有相同的构造时,通过对该构造标注共通的符号而省略详细的说明。
[0141] 装载用搬送机构14A能够接近载具CA与第1载置部21。
[0142] 装载用搬送机构14A能够从载具CA搬出衬底W,且能够将衬底W搬入到载具CA。装载用搬送机构14A能够将衬底W载置在第1载置部21,且能够获取第1载置部21上的衬底W。装载用搬送机构14A无法接近载具CB。
[0143] 装载用搬送机构14B能够接近载具CB与第1载置部21。
[0144] 装载用搬送机构14B能够从载具CB搬出衬底W,且能够将衬底W搬入到载具CB。装载用搬送机构14B能够将衬底W载置在第1载置部21,且能够获取第1载置部21上的衬底W。装载用搬送机构14B无法接近载具CA。
[0145] 装载用搬送机构14A、14B由控制部81控制。按照由控制部81进行的控制,装载用搬送机构14A交替地进行向载具CA的接近动作与向第1载置部21的接近动作。按照由控制部81进行的控制,装载用搬送机构14B交替地进行向载具CB的接近动作与向第1载置部21的接近动作。由此,装载部11从载具C搬出衬底W,且将从载具C搬出的衬底W交付给第1搬送机构46。进而,装载部11从第1搬送机构46承接衬底W,且将从第1搬送机构46承接的衬底W搬入到载具C。
[0146] <第1区块31>
[0147] 参照图4-8。图8是表示第1区块31的构成(具体来说为第2处理部37与第2搬送机构48)的前视图。第1区块31具有大致箱形状。第1区块31在俯视、侧视及前视下为大致矩形。
[0148] 第1区块31具有第1框架32。第1框架32被设置作为第1区块31的骨架(骨格)。第1框架32划定第1区块31的形状。第1框架32例如为金属制。
[0149] 第1框架32支撑第1处理部34、第2处理部37、第2载置部41、第1搬送机构46及第2搬送机构48。
[0150] 衬底处理装置1具备搬送空间45。搬送空间45形成在第1区块31。搬送空间45形成在第1处理部34及第2处理部37的侧方。更具体来说,搬送空间45形成在宽度方向Y上的第1区块31的中央部。搬送空间45在前后方向X上延伸。搬送空间45从第1区块31的前部延伸到第1区块31的后部为止。搬送空间45与装载部11的搬送空间13相接。搬送空间45与第1处理部34排列在宽度方向Y。搬送空间45与第2处理部37排列在宽度方向Y。
[0151] 第1搬送机构46与第2搬送机构48设置在搬送空间45。第1搬送机构46配置在装载部11的后方。第2搬送机构48配置在第1搬送机构46的后方。第1搬送机构46与第2搬送机构48以排列在前后方向X的方式配置。第1搬送机构46配置在装载部11与第2搬送机构48之间。
[0152] 第1处理部34配置在第1搬送机构46的侧方。更详细来说,第1处理部34与第1搬送机构46排列在宽度方向Y。第1处理部34配置在第1搬送机构46的右方的位置及第1搬送机构46的左方的位置。将配置在第1搬送机构46的右方的位置的第1处理部34称作“第1右处理部
34R”。将配置在第1搬送机构46的左方的位置的第1处理部34称作“第1左处理部34L”。第1右处理部34R、第1搬送机构46及第1左处理部34L在宽度方向Y上排列成1列。第1搬送机构46配置在第1右处理部34R与第1左处理部34L之间。
[0153] 第2处理部37配置在第2搬送机构48的侧方。更详细来说,第2处理部37与第2搬送机构48排列在宽度方向Y。第2处理部37配置在第2搬送机构48的右方的位置及第2搬送机构48的左方的位置。将配置在第2搬送机构48的右方的位置的第2处理部37称作“第2右处理部
37R”。将配置在第2搬送机构48的左方的位置的第2处理部37称作“第2左处理部37L”。第2右处理部37R、第2搬送机构48及第2左处理部37L在宽度方向Y上排列成1列。第2搬送机构48配置在第2右处理部37R与第2左处理部37L之间。
[0154] 第1处理部34与第2处理部37排列在前后方向X。第2处理部37配置在第1处理部34的后方。第2处理部37在俯视下,配置在不与第1处理部34重叠的位置。第2右处理部37R配置在第1右处理部34R的后方。第1右处理部34R与第2右处理部37R沿着搬送空间45排列在前后方向X。第2左处理部37L配置在第1左处理部34L的后方。第1左处理部34L与第2左处理部37L沿着搬送空间45排列在前后方向X。
[0155] 第2载置部41配置在第1搬送机构46与第2搬送机构48之间。第2载置部41相对于第1搬送机构46配置在左方且后方。第2载置部41相对于第2搬送机构48配置在左方且前方。
[0156] 第2载置部41、第1搬送机构46及第2搬送机构48在俯视下呈三角配置。具体来说,第2载置部41、第1搬送机构46及第2搬送机构48在俯视下分别位于假想三角形(具体来说为锐角三角形)的各顶点。
[0157] 第2载置部41在俯视下,配置在与第1处理部34及第2处理部37重叠的位置。具体来说,第2载置部41具有在俯视下与第1处理部34重叠的第1部分41a、及在俯视下与第2处理部37重叠的第2部分41b。更详细来说,第2载置部41的第1部分41a在俯视下与第1左处理部34L重叠。第2载置部41的第2部分41b在俯视下与第2左处理部37L重叠。
[0158] 进而,第2载置部41朝搬送空间45伸出。具体来说,第2载置部41具有在俯视下与搬送空间45重叠的第3部分41c。第2载置部41的第3部分41c在俯视下不与第1处理部34及第2处理部37重叠。第2载置部41的第3部分41c与第1左处理部34L及第2左处理部37L相比朝向搬送空间45突出。
[0159] 第2载置部41配置在距第1搬送机构46及第2搬送机构48大致等距离的位置。具体来说,在俯视下,第1搬送机构46与第2载置部41之间的距离和第2搬送机构48与第2载置部41之间的距离大致相等。
[0160] 第1处理部34具备将衬底W逐片进行处理的多个(例如2个)第1处理单元35。第1处理单元35为边缘曝光处理单元。各第1处理单元35对1片衬底W进行边缘曝光处理。1个第1处理单元35配置在第1搬送机构46的右方。配置在第1搬送机构46的右方的第1处理单元35属于第1右处理部34R。剩余的1个第1处理单元35配置在第1搬送机构46的左方。配置在第1搬送机构46的左方的第1处理单元35属于第1左处理部34L。
[0161] 各第1处理单元35具备旋转保持部36a及光照射部36b。旋转保持部36a将1片衬底W以水平姿势予以保持。旋转保持部36a能够使所保持的衬底W旋转。衬底W的旋转轴线与上下方向Z大致平行。光照射部36b对保持在旋转保持部36a的衬底W的周缘部照射光。因光照射部36b所照射的光,衬底W的周缘部被曝光。
[0162] 第2处理部37具备将衬底W逐片进行处理的多个(例如9个)第2处理单元38。第2处理单元38为热处理单元。各第2处理单元38对1片衬底W进行热处理。热处理单元以排列在上下方向Z的方式配置。
[0163] 参照图7、8。5个第2处理单元38配置在第2搬送机构48的右方。配置在第2搬送机构48的右方的所有第2处理单元38属于第2右处理部37R。属于第2右处理部37R的所有第2处理单元38以在上下方向Z上排列成1列的方式配置。
[0164] 参照图5、8。剩余的4个第2处理单元38配置在第2搬送机构48的左方。配置在第2搬送机构48的左方的所有第2处理单元38属于第2左处理部37L。属于第2左处理部37L的所有第2处理单元38以在上下方向Z上排列成1列的方式配置。
[0165] 参照图4、8。各第2处理单元38具备第1平板39a及第2平板39b。第1平板39a将1片衬底W以水平姿势予以载置。第2平板39b将1片衬底W以水平姿势予以载置。第1平板39a与第2平板39b以排列在宽度方向Y的方式配置。第1平板39a配置在与第2平板39b相比靠近搬送空间45的位置。各第2处理单元38具备未图示的局部搬送机构。局部搬送机构在第1平板39a与第2平板39b之间搬送衬底W。各第2处理单元38还具备未图示的调温机器。调温机器安装在第2平板39b。调温机器调节第2平板39b的温度。调温机器例如为加热器。因此,第2平板39b能够将载置在第2平板39b上的衬底W加热为特定的温度。
[0166] 参照图5、8。第2载置部41具有多个(例如2个)平板42a、42b。各平板42a、42b将1片衬底W以水平姿势予以载置。平板42a、42b以排列在上下方向Z的方式配置。平板42b配置在平板42a的下方。平板42b在俯视下与平板42a重叠。
[0167] 参照图5、7、8。衬底处理装置1具备槽43a-43j及槽44a-44j。槽43a-43c、43f-43h支撑第1处理部34。槽43a-43c、43f-43h作为用来设置第1处理部34的架部或撑条发挥功能。槽44a-44h、44j支撑第2处理部37。槽44a-44h、44j作为用来设置第2处理部37的架部或撑条发挥功能。槽43i、44i支撑第2载置部41。槽43i、44i作为用来设置第2载置部41的架部或撑条发挥功能。槽43a-43j、44a-44j具有大致相同的形状及构造。
[0168] 在不区分槽43a-43j的情况下,称作“槽43”。在不区分槽44a-44j的情况下,称作“槽44”。
[0169] 槽43配置在第1搬送机构46的侧方。槽43与第1搬送机构46排列在宽度方向Y。槽43a-43e配置在第1搬送机构46的右方的位置。槽43f-43j配置在第1搬送机构46的左方的位置。槽44配置在第2搬送机构48的侧方。槽44与第2搬送机构48排列在宽度方向Y。槽44a-44e配置在第2搬送机构48的右方的位置。槽44f-44j配置在第2搬送机构48的左方的位置。
[0170] 参照图7。槽43a-43e在上下方向Z上排列成1列。槽43a、43b、43c、43d、43e依序从上到下配置。槽43a在槽43a-43e之中配置在最高位置。槽43e在槽43a-43e之中配置在最低位置。
[0171] 参照图5。槽43f-43j在上下方向Z上排列成1列。槽43f、43g、43h、43i、43j依序从上到下配置。槽43f在槽43f-43j之中配置在最高位置。槽43j在槽43f-43j之中配置在最低位置。
[0172] 参照图7、8。槽44a-44e在上下方向Z上排列成1列。槽44a、44b、44c、44d、44e依序从上到下配置。槽44a在槽44a-44e之中配置在最高位置。槽44e在槽44a-44e之中配置在最低位置。
[0173] 参照图5、8。槽44f-44j在上下方向Z上排列成1列。槽44f、44g、44h、44i、44j依序从上到下配置。槽44f在槽44f-44j之中配置在最高位置。槽44j在槽44f-44j之中配置在最低位置。
[0174] 槽43与槽44排列在前后方向X。槽44配置在槽43的后方。具体来说,槽43a与槽44a排列在前后方向X。槽44a配置在槽43a的后方。槽44a配置在与槽43a相同的高度位置。同样地,槽43b-43e与槽44b-44e排列在前后方向X。槽44b-44e分别配置在槽43b-43e的后方。槽44b-44e分别配置在与槽43b-43e相同的高度位置。槽43f-43j与槽44f-44j排列在前后方向X。槽44f-44j分别配置在槽43f-43j的后方。槽44f-44j分别配置在与槽43f-43j相同的高度位置。
[0175] 参照图5、7。1个第1处理单元35具有相当于3个在上下方向Z上连续的槽43的大小。属于第1右处理部34R的第1处理单元35横跨槽43a-43c而设置。将槽43a、43b隔开的水平壁部、及将槽43b、43c隔开的水平壁部被省略。属于第1左处理部34L的第1处理单元35横跨槽
43f-43h而设置。将槽43f、43g隔开的水平壁部、及将槽43g、43h隔开的水平壁部被省略。
[0176] 槽43d、43e、43j空出。第1处理单元35及第2载置部41均未设置在槽43d、43e、43j。
[0177] 参照图5、7、8。1个第2处理单元38具有相当于1个槽44的大小。第2处理单元38在槽44a-44h、44j各设有1个。
[0178] 第2载置部41横跨槽43i与槽44i而设置。第2载置部41横跨槽43i与槽44i而设置。将槽43i与槽44i隔开的垂直的壁部被省略。第2载置部41的第1部分41a收容在槽43i内。第2载置部41的第2部分41b收容在槽44i内。第2载置部41的第3部分41c从槽43i及槽44i鼓出。
[0179] 槽43f-43j是本发明中的第1槽的示例。尤其是,第1槽中的3个(具体来说为槽43f-43h)是本发明中的处理用第1槽的示例。第1槽的另一个(具体来说为槽43i)是本发明中的载置用第1槽的示例。槽44f-44j是本发明中的第2槽的示例。尤其是,第2槽中的4个(具体来说为槽44f-44h、44j)是本发明中的处理用第2槽的示例。第2槽的另一个(具体来说为槽
44i)是本发明中的载置用第2槽的示例。
[0180] 参照图6、9。图9是第1区块31的俯视图。第1搬送机构46具备第1支柱47a、47b、第1升降部47c、第1旋转部47d及第1保持部47e、47f。第1支柱47a、47b在上下方向Z上延伸。第1支柱47a、47b以排列在宽度方向Y的方式配置。第1支柱47a、47b被设置为固定。因此,第1支柱47a、47b无法移动。具体来说,第1支柱47a、47b被固定在第1框架32。第1支柱47a、47b无法相对于第1框架32移动。第1升降部47c支撑在第1支柱47a、47b。第1升降部47c无法相对于第1支柱47a、47b移动。第1升降部47c能够在上下方向Z上移动。第1升降部47c无法在水平方向上移动。第1旋转部47d支撑在第1升降部47c。第1旋转部47d能够相对于第1升降部47c旋转。
第1旋转部47d能够绕第1轴线A1旋转。第1轴线A1与上下方向Z平行。第1旋转部47d无法在水平方向上移动。第1轴线A1无法在水平方向上移动。第1保持部47e、47f支撑在第1旋转部
47d。第1保持部47e、47f能够相对于第1旋转部47d在水平方向上进退移动。第1保持部47e、
47f能够独立地进退移动。第1保持部47e、47f分别与衬底W接触。第1保持部47e、47f分别将1片衬底W以水平姿势予以保持。
[0181] 参照图6、8、9。第2搬送机构48具备第2支柱49a、49b、第2升降部49c、第2旋转部49d及第2保持部49e、49f。第2支柱49a、49b在上下方向Z上延伸。第2支柱49a、49b以排列在宽度方向Y的方式配置。第2支柱49a、49b被设置为固定。因此,第2支柱49a、49b无法移动。具体来说,第2支柱49a、49b被固定在第1框架32。第2支柱49a、49b无法相对于第1框架32移动。第2升降部49c支撑在第2支柱49a、49b。第2升降部49c能够相对于第2支柱49a、49b移动。第2升降部49c能够在上下方向Z上移动。第2升降部49c无法在水平方向上移动。第2旋转部49d支撑在第2升降部49c。第2旋转部49d能够相对于第2升降部49c旋转。第2旋转部49d能够绕第2轴线A2旋转。第2轴线A2与上下方向Z平行。第2旋转部49d无法在水平方向上移动。第2轴线A2无法在水平方向上移动。第2保持部49e、49f支撑在第2旋转部49d。第2保持部49e、49f能够相对于第2旋转部49d在水平方向上进退移动。第2保持部49e、49f能够独立地进退移动。第2保持部49e、49f分别与衬底W接触。第2保持部49e、49f分别将1片衬底W以水平姿势予以保持。
[0182] 参照图5、7。各第1处理单元35在侧视下,配置在与第1轴线A1重叠的位置。也就是说,所有第1处理单元35在侧视下均与第1轴线A1重叠。各第2处理单元38在侧视下配置在与第2轴线A2重叠的位置。也就是说,所有第2处理单元38在侧视下均与第2轴线A2重叠。
[0183] 参照图9。图9表示连结第1轴线A1与第2轴线A2的假想直线L。假想直线L在俯视下与前后方向X平行。第2载置部41在俯视下,配置在不与假想直线L重叠的位置。第2载置部41在俯视下,配置在假想直线L的左方。
[0184] 在俯视下,第1轴线A1与第2轴线A2之间的距离D1为衬底W的半径r的5倍以下。在俯视下,第1轴线A1与第2轴线A2之间的距离D1为衬底W的半径r的4倍以上。
[0185] 在俯视下,第2载置部41配置在距第1轴线A1及第2轴线A2大致等距离的位置。具体来说,在俯视下,第1轴线A1与第2载置部41的距离和第2轴线A2与第2载置部41的距离大致相等。
[0186] 将载置在第2载置部41的衬底W的中心点称作“点P1”。在俯视下,第1轴线A1与点P1之间的距离D2和第2轴线A2与点P1之间的距离D3大致相等。例如,距离D2与距离D3的差为衬底W的半径r以下。
[0187] 在俯视下,第1轴线A1配置在距第2载置部41及第1处理部34大致等距离的位置。具体来说,在俯视下,第1轴线A1与第2载置部41的距离和第1轴线A1与第1处理部34的距离大致相等。
[0188] 将载置在旋转保持部36a的衬底W的中心点称作“点P2”。在俯视下,第1轴线A1与点P1的距离D2和第1轴线A1与点P2的距离D4大致相等。距离D2与距离D4的差为衬底W的半径r以下。
[0189] 在俯视下,第2轴线A2配置在距第2载置部41及第2处理部37大致等距离的位置。具体来说,在俯视下,第2轴线A2与第2载置部41的距离和第2轴线A2与第2处理部37的距离大致相等。
[0190] 将载置在第1平板39a的衬底W的中心点称作“点P3”。在俯视下,第2轴线A2与点P1的距离D3和第2轴线A2与点P3的距离D5大致相等。距离D3与距离D5的差为衬底W的半径r以下。
[0191] 参照图4、9。衬底处理装置1还具备空间E。空间E形成在第1区块31。空间E配置在第2处理部37的后方。空间E配置在搬送空间45的侧方。
[0192] 空间E包含空间E1、E2。空间E1形成在第2右处理部37R的后方且搬送空间45的右方。空间E2形成在第2左处理部37L的后方且搬送空间45的左方。
[0193] <第2区块61>
[0194] 参照图4-7、10。图10是表示第2区块61的构成的后视图。第2区块61具有大致箱形状。第2区块61在俯视、侧视及前视下为大致矩形。
[0195] 第2区块61具有第2框架62。第2框架62被设置作为第2区块61的骨架(skeleton)。第2框架62划定第2区块61的形状。第2框架62例如为金属制。
[0196] 第2框架62连结在第1框架32。第2框架62支撑第3处理部64与第3搬送机构68。
[0197] 衬底处理装置1具备搬送空间67。搬送空间67形成在第2区块61。搬送空间67形成在第3处理部64的侧方。更具体来说,搬送空间67形成在宽度方向Y上的第2区块61的中央部。搬送空间67在前后方向X上延伸。搬送空间67从第2区块61的前部延伸到第2区块61的后部。搬送空间67与搬送空间45相接。搬送空间67与第3处理部64排列在宽度方向Y。
[0198] 第3搬送机构68设置在搬送空间67。第3搬送机构68配置在第2搬送机构48的后方。第1搬送机构46、第2搬送机构48及第3搬送机构68以在前后方向X上排列成1列的方式配置。
第2搬送机构48配置在第1搬送机构46与第3搬送机构68之间。
[0199] 第3处理部64配置在第3搬送机构68的侧方。更详细来说,第3处理部64与第3搬送机构46排列在宽度方向Y。第3处理部64配置在第3搬送机构68的右方的位置及第3搬送机构68的左方的位置。将配置在第3搬送机构68的右方的位置的第3处理部64称作“第3右处理部
64R”。将配置在第3搬送机构68的左方的位置的第3处理部64称作“第3左处理部64L”。第3右处理部64R、第3搬送机构68及第3左处理部64L排列在宽度方向Y。第3搬送机构68配置在第3右处理部64R与第3左处理部64L之间。
[0200] 前后方向X上的第3右处理部64R的长度G1比前后方向X上的第3左处理部64L的长度G2小。前后方向X上的第3右处理部64R的长度G1优选比前后方向X上的第3左处理部64L的长度G2小500[mm]以上。也就是说,长度G1与长度G2的差优选为500[mm]以上。长度G2例如为长度G1的约1.5倍。
[0201] 第3右处理部64R是本发明中的第3短处理部的示例。第3左处理部64L是本发明中的第3长处理部的示例。
[0202] 衬底处理装置1具备空间F。空间F形成在第2区块61。空间F与第3右处理部64R排列在前后方向X。空间F配置在第3右处理部64R的前方。空间F配置在第3搬送空间67的侧方。空间F与第3搬送空间67排列在宽度方向Y。空间F配置在搬送空间67的右方。空间F配置在第3搬送机构68的侧方。空间F与第3搬送机构68排列在宽度方向Y。空间F配置在第3搬送机构68的右方。空间F、搬送空间67及第3左处理部64L排列在宽度方向Y。空间F隔着搬送空间67与第3左处理部64L相向。搬送空间67配置在空间F与第3左处理部64L之间。空间F优选具有能够供人(例如衬底处理装置1的操作员)进入的程度的大小。
[0203] 空间F是本发明中的保养空间的示例。
[0204] 第2处理部37与第3处理部64排列在前后方向X。第3处理部64配置在第2处理部37的后方。第2右处理部37R与第3右处理部64R排列在前后方向X。第3右处理部64R配置在第2右处理部37R的后方。第1右处理部34R、第2右处理部37R及第3右处理部64R在前后方向X上排列成1列。第2左处理部37L与第3左处理部64L排列在前后方向X。第3左处理部64L配置在第2左处理部37L的后方。第1左处理部34L、第2左处理部37L及第3左处理部64L在前后方向X上排列成1列。
[0205] 空间E与空间F配置在第2处理部37与第3处理部64之间。空间E1与空间F配置在第2右处理部37R与第3右处理部64R之间。第2右处理部37R、空间E1、空间F及第3右处理部64R排列在前后方向X。第2右处理部37R、空间E1、空间F及第3右处理部64R依序排列成一列。空间E2配置在第2左处理部37L与第3左处理部64L之间。第2左处理部37L、空间E2及第3左处理部64L排列在前后方向X。第2左处理部37L、空间E2及第3左处理部64L依序排列成一列。
[0206] 空间E与空间F是本发明中的隔热空间的示例。空间F是本发明中的保养空间的例子,且是本发明中的隔热空间的示例。也就是说,空间F兼作为本发明中的保养空间及隔热空间。
[0207] 衬底处理装置1具有检验口71及盖部72。检验口71形成在第2区块61。检验口71是形成在第2区块61的右壁部的开口。检验口71优选大到能够供作业者通过的程度。盖部72安装在第2区块61。盖部72安装在第2区块61的右壁部。盖部72能够相对于第2区块61旋动。盖部72能够使检验口71开闭。
[0208] 第3处理部64具备将衬底W逐片进行处理的多个(例如10个)第3处理单元65。各第3处理单元65对1片衬底W进行液体处理。更详细来说,各第3处理单元65对1片衬底W进行显影处理。
[0209] 参照图7。4个第3处理单元65配置在第3搬送机构68的右方。配置在第3搬送机构68的右方的所有第3处理单元65属于第3右处理部64R。
[0210] 属于第3右处理部64R的第3处理单元65在前后方向X及上下方向Z上呈矩阵状配置。2个第3处理单元65配置在第3右处理部64R的上段。剩余的2个第3处理单元65配置在第3右处理部64R的下段。配置在第3右处理部64R的上段的2个第3处理单元65以排列在前后方向X的方式配置。配置在第3右处理部64R的下段的2个第3处理单元65以排列在前后方向X的方式配置。配置在第3右处理部64R的下段的2个第3处理单元65在俯视下与配置在第3右处理部64R的上段的2个第3处理单元65重叠。
[0211] 参照图5。6个第3处理单元65配置在第3搬送机构68的左方。配置在第3搬送机构68的左方的所有第3处理单元65均属于第3左处理部64L。
[0212] 属于第3左处理部64L的第3处理单元65在前后方向X及上下方向Z上呈矩阵状配置。3个第3处理单元65配置在第3左处理部64L的上段。剩余的3个第3处理单元65配置在第3左处理部64L的下段。配置在第3左处理部64L的上段的3个第3处理单元65以排列在前后方向X的方式配置。配置在第3左处理部64L的下段的3个第3处理单元65以排列在前后方向X的方式配置。配置在第3左处理部64L的下段的3个第3处理单元65在俯视下与配置在第3左处理部64L的上段的3个第3处理单元65重叠。
[0213] 各第3处理单元65具备旋转保持部66a、喷嘴66b及承杯66c。旋转保持部66a将1片衬底W以水平姿势予以保持。旋转保持部66a能够使所保持的衬底W旋转。衬底W的旋转轴线与上下方向Z大致平行。喷嘴66b将处理液喷出到衬底W。处理液例如为显影液。喷嘴66b以能够移动到处理位置与退避位置的方式设置。处理位置是保持在旋转保持部66a的衬底W的上方的位置。处理位置是在俯视下与保持在旋转保持部66a的衬底W重叠的位置。退避位置是在俯视下不与保持在旋转保持部66a的衬底W重叠的位置。承杯66c配置在旋转保持部66a的周围。承杯66c将处理液回收。
[0214] 衬底处理装置1具备多个腔室(壳体)72a-72d。腔室72a-72d配置在搬送空间67的侧方。
[0215] 参照图7、10。腔室72a、72b配置在搬送空间67的右方的位置。腔室72a、72b以排列在上下方向Z的方式配置。腔室72b配置在腔室72a的下方。腔室72a收容配置在第3右处理部64R的上段的2个第3处理单元65。腔室72b收容配置在第3右处理部64R的下段的2个第3处理单元65。
[0216] 参照图5、10。腔室72c、72d配置在搬送空间67的左方的位置。腔室72c、72d以排列在上下方向Z的方式配置。腔室72d配置在腔室72c的下方。腔室72c收容配置在第3左处理部64L的上段的3个第3处理单元65。腔室72d收容配置在第3左处理部64L的下段的3个第3处理单元65。
[0217] 参照图4、6、10。第3搬送机构68具备第3支柱69a、69b、第3升降部69c、第3水平移动部69d、第3旋转部69e及第3保持部69f、69g。第3支柱69a、69b在上下方向Z上延伸。第3支柱69a、69b以排列在前后方向X的方式配置。第3支柱69a、69b配置在与第3右处理部64R相比靠近第3左处理部64L的位置。第3支柱69a配置在搬送空间67的左前部。第3支柱69b配置在搬送空间67的左后部。第3支柱69a、69b被设置为固定。因此,第3支柱69a、69b无法移动。具体来说,第3支柱69a、69b固定在第2框架62。第3支柱69a、69b无法相对于第2框架62移动。第3升降部69c在前后方向X上延伸。第3升降部69c支撑在第3支柱69a、69b。第3升降部69c无法相对于第3支柱69a、69b移动。第3升降部69c能够在上下方向Z上移动。第3升降部69c无法在水平方向上移动。第3水平移动部69d支撑在第3升降部69c。第3水平移动部69d能够相对于第3升降部69c移动。第3水平移动部69d能够在水平方向(具体来说为前后方向X)上移动。第
3旋转部69e支撑在第3水平移动部69d。因此,第3旋转部69e能够在水平方向(具体来说为前后方向X)上移动。第3旋转部69e能够相对于第3水平移动部69d旋转。第3旋转部69e的旋转轴线与上下方向Z平行。第3旋转部69e的旋转轴线能够在前后方向X上移动。第3保持部69f、
69g支撑在第3旋转部69e。第3保持部69f、69g能够相对于第3旋转部69e在水平方向上进退移动。第3保持部69f、69g能够独立地进退移动。第3保持部69f、69g分别与衬底W接触。第3保持部69f、69g分别将1片衬底W以水平姿势予以保持。
[0218] <第1载置部21与第3载置部51>
[0219] 第1载置部21配置在装载部11与第1搬送机构46之间。第1载置部21横跨装载部11与第1区块31而配置。第1载置部21横跨装载部11的搬送空间13与第1区块31的搬送空间45而配置。第1载置部21的一部分配置在装载部11的搬送空间13。第1载置部21的剩余部分配置在第1区块31的搬送空间45。
[0220] 第1载置部21配置在装载用搬送机构14A与装载用搬送机构14B之间。第1载置部21配置在装载用搬送机构14A的后方且左方。第1载置部21配置在装载用搬送机构14B的后方且右方。第1载置部21配置在距装载用搬送机构14A、14B大致等距离的位置。具体来说,在俯视下,装载用搬送机构14A与第1载置部21之间的距离和装载用搬送机构14B与第1载置部21之间的大致距离相等。
[0221] 第1载置部21与第1搬送机构46排列在前后方向X。第1载置部21配置在第1搬送机构46的前方。第1载置部21、第1搬送机构46及第2搬送机构48在前后方向X上排列成1列。如图9所示,第1载置部21在俯视下配置在与假想直线L重叠的位置。
[0222] 第3载置部51配置在第2搬送机构48与第3搬送机构68之间。第3载置部51横跨第1区块31与第2区块61而配置。第3载置部51横跨第1区块31的搬送空间45与第2区块61的搬送空间67而配置。第3载置部51的一部分配置在第1区块31的搬送空间45。第3载置部51的剩余部分配置在第2区块61的搬送空间67。
[0223] 第3载置部51配置在第2搬送机构48的后方。第1搬送机构46、第2搬送机构48及第3载置部51在前后方向X上排列成一列。如图9所示,第3载置部51在俯视下配置在与假想直线L重叠的位置。
[0224] 第3载置部51配置在第3搬送机构68的前方。第2搬送机构48、第3载置部51及第3搬送机构68在前后方向X上排列成一列。
[0225] 参照图6。第1载置部21具有多个平板22a、22b。各平板22a、22b将1片衬底W以水平姿势予以载置。平板22a、22b以排列在上下方向Z的方式配置。平板22b配置在平板22a的下方。平板22b在俯视下与平板22a重叠。
[0226] 第3载置部51具有多个平板52a、52b。各平板52a、52b将1片衬底W以水平姿势予以载置。平板52a、52b以排列在上下方向Z的方式配置。平板52b配置在平板52a的下方。平板52b在俯视与平板52a重叠。
[0227] <搬送机构>
[0228] 参照图4。将第1、第2、第3搬送机构46、48、68能够接近的载置部及处理部汇总到下文。进而,将各第1、第2、第3搬送机构46、48、68无法接近的载置部及处理部汇总到下文。
[0229] 第1搬送机构46能够接近第1载置部21。第1搬送机构46能够接近第1载置部21的平板22a、22b。第1搬送机构46能够接近各第1处理单元35。第1搬送机构46能够接近各第1处理单元35的旋转保持部36a。第1搬送机构46能够接近第2载置部41。第1搬送机构46能够接近第2载置部41的平板42a、42b。
[0230] 第2搬送机构48能够接近第2载置部41。第2搬送机构48能够接近第2载置部41的平板42a、42b。第2搬送机构48能够接近各第2处理单元38。第2搬送机构48能够接近各第2处理单元38的第1平板39a。第2搬送机构48能够接近第3载置部51。第2搬送机构48能够接近第3载置部51的平板52a、52b。
[0231] 第3搬送机构68能够接近第3载置部51。第3搬送机构68能够接近第3载置部51的平板52a、52b。第3搬送机构68能够接近各第3处理单元65。第3搬送机构68能够接近各第3处理单元65的旋转保持部66a。
[0232] 图4是以一点链线表示第1搬送机构46能够搬送衬底W的第1区域B1。第1搬送机构46无法将衬底W搬送到第1区域B1之外。衬底W是通过第1搬送机构46在第1区域B1内移动。第
1区域B1在俯视下为大致圆形。第1区域B1的中心在俯视下与第1轴线A1大致一致。第1载置部21、第1处理部34及第2载置部41配置在第1区域B1内。第2处理部37的第1平板39a的至少一部分配置在第1区域B1之外。像这样,第2处理部37实质上配置在第1搬送机构46的第1区域B1之外。也就是说,第1搬送机构46无法接近第2处理部37。同样地,第3处理部64在俯视下配置在第1区域B1之外。也就是说,第1搬送机构46无法接近第3处理部64。第3载置部51在俯视下配置在第1区域B1之外。也就是说,第1搬送机构46无法接近第3载置部51。
[0233] 图4是以一点链线表示第2搬送机构48能够搬送衬底W的第2区域B2。第2区域B2在俯视下为大致圆形。第2区域B2的中心在俯视下与第2轴线A2大致一致。第2载置部41、第2处理部37及第3载置部51配置在第2区域B2内。第1处理部34的旋转保持部36a配置在第2搬送机构48的第2区域B2之外。也就是说,第2搬送机构48无法接近第1处理部34。同样地,第3处理部64在俯视下配置在第2区域B2之外。也就是说,第2搬送机构48无法接近第3处理部64。第1载置部21在俯视下配置在第2区域B2之外。也就是说,第2搬送机构48无法接近第1载置部21。
[0234] 图4是以一点链线表示第3搬送机构68能够搬送衬底W的第3区域B3。第3区域B3在俯视下在前后方向X上较长。在俯视下,前后方向X上的第3区域B3的长度比宽度方向Y上的第3区域B3的长度大。第3载置部51与第3处理部64配置在第3区域B3内。第1处理部34及第2处理部37配置在第3搬送机构68的第3区域B3之外。也就是说,第3搬送机构68无法接近第1处理部34及第2处理部37。同样地,第1载置部21及第2载置部41配置在第3区域B3之外。也就是说,第3搬送机构68无法接近第1载置部21及第2载置部41。
[0235] <第1实施方式的其它效果>
[0236] 第1实施方式的主要效果如上所述。以下,说明第1实施方式的其它效果。
[0237] 第1处理部34配置在第2区域B2之外。因此,第1搬送机构46能够不与第2搬送机构48干涉地接近第1处理部34。
[0238] 第1处理部34配置在第3区域B3之外。因此,第1搬送机构46能够不与第3搬送机构68干涉地接近第1处理部34。
[0239] 第2处理部37配置在第1区域B1之外。由此,第2搬送机构48能够不与第1搬送机构46干涉地接近第2处理部37。
[0240] 第2处理部37配置在第3区域B3之外。由此,第2搬送机构48能够不与第3搬送机构68干涉地接近第2处理部37。
[0241] 第3处理部64配置在第1区域B1之外。由此,第3搬送机构68能够不与第1搬送机构46干涉地接近第3处理部64。
[0242] 第3处理部64配置在第2区域B2之外。由此,第3搬送机构68能够不与第2搬送机构48干涉地接近第3处理部64。
[0243] 第1载置部21配置在第2区域B2及第3区域B3之外。由此,第1搬送机构46能够不与第2搬送机构48及第3搬送机构68干涉地接近第1载置部21。
[0244] 第2载置部41配置在第3区域B3之外。由此,第1搬送机构46与第2搬送机构48能够不与第3搬送机构68干涉地接近第2载置部41。
[0245] 第3载置部51配置在第1区域B1之外。由此,第2搬送机构48与第3搬送机构68能够不与第1搬送机构46干涉地接近第3载置部51。
[0246] 第1区域B1在俯视下为大致圆形。因此,第1搬送机构46能够高效率地进行第1接近动作、第2接近动作及第3接近动作。由此,第1搬送机构46能够高效率地进行第1循环动作。也就是说,第1搬送机构46的搬送效率更高。
[0247] 第2搬送机构48的第2区域B2在俯视下为大致圆形。因此,第2搬送机构48能够高效率地进行第4接近动作、第5接近动作及第6接近动作。由此,第2搬送机构48能够高效率地进行第2循环动作。也就是说,第2搬送机构48的搬送效率更高。
[0248] 第1搬送机构46配置在装载部11与第2搬送机构48之间。因此,能够在装载部11与第1搬送机构46之间适宜地搬送衬底W,且能够在第1搬送机构46与第2搬送机构48之间适宜地搬送衬底W。具体来说,第1搬送机构46配置在装载部11的后方。因此,能够在装载部11与第1搬送机构46之间适宜地搬送衬底W。第2搬送机构48配置在第1搬送机构46的后方。因此,能够在第1搬送机构46与第2搬送机构48之间适宜地搬送衬底W。
[0249] 第2搬送机构48配置在第1搬送机构46与第3搬送机构68之间。具体来说,第3搬送机构68配置在第2搬送机构48的后方。因此,能够在第2搬送机构48与第3搬送机构68之间适宜地搬送衬底W。
[0250] 第1载置部21配置在装载部11与第1搬送机构46之间。因此,装载部11与第1搬送机构46能够容易地接近第1载置部21。第2载置部41配置在第1搬送机构46与第2搬送机构48之间。因此,第1搬送机构46与第2搬送机构48能够容易地接近第2载置部41。第3载置部51配置在第2搬送机构48与第3搬送机构68之间。因此,第2搬送机构48与第3搬送机构68能够容易地接近第3载置部51。
[0251] 第1处理部34配置在第1搬送机构46的侧方。因此,第1搬送机构46能够容易地接近第1处理部34。第2处理部37配置在第2搬送机构48的侧方。因此,第2搬送机构48能够容易地接近第2处理部37。第3处理部64配置在第3搬送机构68的侧方。因此,第3搬送机构68能够容易地接近第3处理部64。
[0252] 第1搬送机构46配置在第1右处理部34R与第1左处理部34L之间。因此,第1搬送机构46能够容易地接近第1右处理部34R与第1左处理部34L。第2搬送机构48配置在第2右处理部37R与第2左处理部37L之间。因此,第2搬送机构48能够容易地接近第2右处理部37R与第2左处理部37L。第3搬送机构68配置在第3右处理部64R与第3左处理部64L之间。因此,第3搬送机构68能够容易地接近第3右处理部64R与第3左处理部64L。
[0253] 第1搬送机构46、第2搬送机构48及第2载置部41在俯视下呈三角配置。据此,能够使第1搬送机构46与第2搬送机构48的间隔距离变小。由此,能够使衬底处理装置1的设置面积(占据面积)变小。
[0254] 第2载置部41配置在第1搬送机构46的侧方且后方的位置。第2载置部41配置在第2搬送机构48的侧方且前方的位置。据此,能够使前后方向X上的第1搬送机构46与第2搬送机构48的间隔距离变小。由此,能够使衬底处理装置1的设置面积(占据面积)变小。
[0255] 第1旋转部47d被设置为无法在水平方向上移动。因此,第1搬送机构46能够高效率地进行第1接近动作、第2接近动作及第3接近动作。由此,第1搬送机构46能够高效率地进行第1循环动作。
[0256] 各第1处理单元35在侧视下配置在与第1搬送机构46的第1轴线A1重叠的位置。因此,第1搬送机构46能够容易地接近第1处理部34。
[0257] 第2旋转部49d被设置为无法在水平方向上移动。因此,第2搬送机构48能够高效率地进行第4接近动作、第5接近动作及第6接近动作。由此,第2搬送机构48能够高效率地进行第2循环动作。
[0258] 各第2处理单元38在侧视下,配置在与第2搬送机构48的第2轴线A2重叠的位置。因此,第2搬送机构48能够容易地接近第2处理部37。
[0259] 第2处理单元38为热处理单元。热处理单元以排列在上下方向Z的方式配置。因此,第2搬送机构48能够容易地接近各热处理单元。
[0260] 属于第2右处理部37R的5个第2处理单元38以在上下方向Z上排列成1列的方式配置在第2搬送机构48的右方的位置。由此,第2搬送机构48能够容易地接近配置在第2搬送机构48的右方的各第2处理单元38。此处,第2处理单元38为热处理单元。由此,第2搬送机构48能够容易地接近配置在第2搬送机构48的右方的各热处理单元。
[0261] 属于第2左处理部37L的4个第2处理单元38以在上下方向Z上排列成1列的方式配置在第2搬送机构48的左方的位置。由此,第2搬送机构48能够容易地接近配置在第2搬送机构48的左方的各热处理单元。
[0262] 在俯视下,第1轴线A1与第2轴线A2之间的距离D1为衬底W的半径r的5倍以下。因此,能够使第1搬送机构46与第2搬送机构48的间隔距离变小。由此,能够使衬底处理装置1的设置面积变小。
[0263] 第2载置部41在俯视下,配置在不和连结第1轴线A1与第2轴线A2的假想直线L重叠的位置。因此,能够适宜地使第1搬送机构46与第2搬送机构48的间隔距离变小。
[0264] 在俯视下,第1轴线A1与第2载置部41之间的距离和第2轴线A2与第2载置部41之间的距离大致相等。因此,第1搬送机构46及第2搬送机构48能够分别容易地接近第2载置部41。
[0265] 第2载置部41具有在俯视下与第1处理部34重叠的第1部分41a、及在俯视下与第2处理部37重叠的第2部分41b。因此,能够使第1搬送机构46与第2搬送机构48的间隔距离变小。结果,能够减少衬底处理装置1的占据面积。进而,第1搬送机构46及第2搬送机构48能够分别容易地接近第2载置部41。
[0266] 第2载置部41具有在俯视下不与第1处理部34及第2处理部37重叠的第3部分41c。因此,第1搬送机构46及第2搬送机构48能够分别更容易地接近第2载置部41。
[0267] 第2载置部41的第3部分41c在俯视下与供设置第1搬送机构46及第2搬送机构48的搬送空间45重叠。因此,第1搬送机构46及第2搬送机构48能够分别更容易地接近第2载置部41。
[0268] 衬底处理装置1具备槽43a-43c及43f-43h,所以能够适宜地设置第1处理部34(具体来说为第1处理单元35)。
[0269] 衬底处理装置1具备槽44a-44h、44j,所以能够适宜地设置第2处理部37(具体来说为第2处理单元38)。
[0270] 衬底处理装置1具备槽43i及槽44i,所以能够适宜地设置第2载置部41。
[0271] 槽43f-43j配置在第1搬送机构46的侧方。槽43f-43j在上下方向Z上排列成1列。第1处理部34(第1左处理部34L)设置在槽43f-43h。第2载置部41设置在槽43i。槽44f-44j配置在第2搬送机构48的侧方。槽44f-44j在上下方向Z上排列成1列。第2处理部37(第2左处理部
37L)设置在槽44f-44h、44j。第2载置部41也设置在槽44i。槽44i配置在与槽43i相同的高度位置。第2载置部41横跨槽43i与槽44i而设置。像这样,能够有效运用槽43a-43j的一部分及槽44a-44j的一部分,适宜地设置第2载置部41。
[0272] 槽43f-43j排列在上下方向Z。槽43i在槽43f-43j之中并非配置在最高位置且并非配置在最低位置。换句话来说,槽43i在槽43f-43j之中配置在除最高位置及最低位置以外的位置。槽44f-44j排列在上下方向Z。槽44i在槽44f-44j之中并非配置在最高位置且并非配置在最低位置。换句话来说,槽44i在槽44f-44j之中配置在除最高位置及最低位置以外的位置。因此,第1搬送机构46能够更容易地接近第2载置部41。具体来说,能够使向第2载置部41接近时的第1搬送机构46的升降量变小。同样地,第2搬送机构48能够更容易地接近第2载置部41。
[0273] 第1处理部34为边缘曝光处理部。第2处理部37为热处理部。第3处理部64为液体处理部。因此,能够在相对靠近装载部11的位置设置边缘曝光处理部及热处理部。能够在距装载部11相对较远的位置设置液体处理部。
[0274] 衬底处理装置1具备将第3处理部64与第2处理部37隔开的空间E、F。因此,能够有效地减少第3处理部64从第2处理部37受到的热影响。
[0275] 衬底处理装置1具备空间F。因此,能够适宜地将衬底处理装置1予以保养。
[0276] 前后方向X上的第3右处理部64R的长度G1比前后方向X上的第3左处理部64L的长度G2小。空间F与第3右处理部64R排列在前后方向X。由此,能够容易地确保空间F。
[0277] 第1区块31收容第1处理部34及第2处理部37。第2区块61收容第3处理部64。也就是说,热处理部(第2处理部37)与液体处理部(第3处理部64)未收容在相同的区块。由此,能够分别适宜地配置热处理部(第2处理部37)与液体处理部(第3处理部64)。
[0278] 衬底处理装置1具备第1框架32。因此,能够利用第1框架32适宜地构成第1区块31。
[0279] 衬底处理装置1具备第2框架62。因此,能够利用第2框架62适宜地构成第2区块61。
[0280] [第2实施方式]
[0281] 参照附图对第2实施方式的衬底处理装置1进行说明。此外,对与第1实施方式相同的构成标注相同符号,由此省略详细的说明。
[0282] <衬底处理装置的概要>
[0283] 图11A、11B分别为第2实施方式的衬底处理装置1的俯视图。第2实施方式的衬底处理装置1具有阶层构造。衬底处理装置1具备上阶层90T及下阶层90B。下阶层90B配置在上阶层90T的下方。下阶层90B在俯视下与上阶层90T重叠。
[0284] 上阶层90T及下阶层90B分别具备第1搬送机构46、第2搬送机构48、第3搬送机构68、第1处理部34、第2处理部37、第3处理部64、第1载置部21、第2载置部41及第3载置部51。
上阶层90T与下阶层90B分别同时执行衬底W的搬送及针对衬底W的处理。
[0285] <装载部11>
[0286] 参照图11A、11B、12、13、14。图12是表示衬底处理装置1左部的构成的左侧视图。图13是表示宽度方向Y上的衬底处理装置1中央部的构成的左侧视图。图14是表示衬底处理装置1右部的构成的右侧视图。装载部11除具备载具载置部12A、12B以外,还具备载具载置部
12C、12D。载具载置部12C配置在载具载置部12A的上方。载具载置部12D配置在载具载置部
12B的上方。载具载置部12C、12D分别载置1个载具C。
[0287] 将载具载置部12C上的载具C适当地记载为“载具CC”。将载具载置部12D上的载具C适当地记载为“载具CD”。
[0288] 装载用搬送机构14A向载置在载具载置部12A、12C载具CA、CC接近。装载用搬送机构14B向载置在载具载置部12B、12D的载具CB、CD接近。
[0289] 图11A所示的装载用搬送机构14A与图11B所示的装载用搬送机构14A为同一物体。图11A所示的装载用搬送机构14B与图11B所示的装载用搬送机构14B为同一物体。
[0290] <第1区块31>
[0291] 参照图11A、11B、12、13、14、15。图15是表示第1区块31的构成(具体来说为第2处理部37与第2搬送机构48)的前视图。衬底处理装置1具备2台第1搬送机构46。2台第1搬送机构46以排列在上下方向Z的方式配置。将上方的第1搬送机构46记载为“第1上搬送机构46T”,将下方的第1搬送机构46记载为“第1下搬送机构46B”。
[0292] 衬底处理装置1具备2台第2搬送机构48。2台第2搬送机构48以排列在上下方向Z的方式配置。将上方的第2搬送机构48记载为“第2上搬送机构48T”,将下方的第2搬送机构48记载为“第2下搬送机构48B”。
[0293] 参照图13、15。衬底处理装置1具备间隔壁91。间隔壁91设置在第1区块31的搬送空间45。间隔壁91具有水平的板形状。间隔壁91将搬送空间45与上搬送空间45T及下搬送空间45B分离。上搬送空间45T配置在下搬送空间45B的上方。第1上搬送机构46T与第2上搬送机构48T配置在上搬送空间45T。第1下搬送机构46B与第2下搬送机构48B配置在下搬送空间
45B。
[0294] 参照图11A、11B。第1处理部34配置在第1上搬送机构46T的侧方及第1下搬送机构46B的侧方。将配置在第1上搬送机构46T的侧方的第1处理部34称作“第1上处理部34T”。将配置在第1下搬送机构46B的侧方的第1处理部34称作“第1下处理部34B”。
[0295] 第2处理部37配置在第2上搬送机构48T的侧方及第2下搬送机构48B的侧方。将配置在第2上搬送机构48T的侧方的第2处理部37称作“第2上处理部37T”。将配置在第2下搬送机构48B的侧方的第2处理部37称作“第2下处理部37B”。
[0296] 第2载置部41配置在第1上搬送机构46T与第2上搬送机构48T之间、及第1下搬送机构46B与第2下搬送机构48B之间。将配置在第1上搬送机构46T与第2上搬送机构48T之间的第2载置部41称作“第2上载置部41T”。将配置在第1下搬送机构46B与第2下搬送机构48B之间的第2载置部41称作“第2下载置部41B”。
[0297] 参照图12、14。第1上处理部34T配置在间隔壁91的上方。第1上搬送机构46T向第1上处理部34T接近。第1下处理部34B配置在间隔壁91的下方。第1下搬送机构46B向第1下处理部34B接近。
[0298] 参照图12、14、15。第2上处理部37T配置在间隔壁91的上方。第2上搬送机构48T向第2上处理部37T接近。第2下处理部37B配置在间隔壁91的下方。第2下搬送机构48B向第2下处理部37B接近。
[0299] 参照图15。第2上载置部41T配置在间隔壁91的上方。第1上搬送机构46T与第2上搬送机构48T向第2上载置部41T接近。第2上载置部41T供载置在第1上搬送机构46T与第2上搬送机构48T之间被搬送的衬底W。第2下载置部41B配置在间隔壁91的下方。第1下搬送机构46B与第2下搬送机构48B向第2下载置部41B接近。第2下载置部41B供载置在第1下搬送机构
46B与第2下搬送机构48B之间被搬送的衬底W。
[0300] <第2区块61>
[0301] 参照图11A、11B、12、13、14、16。图16是表示第2区块61的构成的后视图。衬底处理装置1具备2台第3搬送机构68。2台第3搬送机构68以排列在上下方向Z的方式配置。将上方的第3搬送机构68记载为“第3上搬送机构68T”,将下方的第3搬送机构68记载为“第3下搬送机构68B”。
[0302] 参照图13、16。衬底处理装置1具备间隔壁92。间隔壁92设置在搬送空间67。间隔壁92具有水平的板形状。间隔壁92将搬送空间67分离成上搬送空间67T与下搬送空间67B。上搬送空间67T配置在下搬送空间67B的上方。第3上搬送机构68T配置在上搬送空间67T。第3下搬送机构68B配置在下搬送空间67B。
[0303] 参照图11A、11B。第3处理部64配置在第3上搬送机构68T的侧方及第3下搬送机构68B的侧方。将配置在第3上搬送机构68T的侧方的第3处理部64称作“第3上处理部64T”。将配置在第3下搬送机构68B的侧方的第3处理部64称作“第3下处理部64B”。
[0304] 参照图12、14、16。第3上处理部64T配置在间隔壁92的上方。第3上搬送机构68T向第3上处理部64T接近。第3下处理部64B配置在间隔壁92的下方。第3下搬送机构68B向第3下处理部64B接近。
[0305] <第1载置部21>
[0306] 参照图11A、11B。第1载置部21配置在装载部11与第1上搬送机构46T之间、及装载部11与第1下搬送机构46B之间。将配置在装载部11与第1上搬送机构46T之间的第1载置部21称作“第1上载置部21T”。将配置在装载部11与第1下搬送机构46B之间的第1载置部21称作“第1下载置部21B”。
[0307] 第1上载置部21T横跨装载部11的搬送空间13与第1区块31的上搬送空间45T而配置。第1下载置部21B横跨装载部11的搬送空间13与第1区块31的下搬送空间45B而配置。装载用搬送机构14A向第1上载置部21T及第1下载置部21B接近。装载用搬送机构14B向第1上载置部21T及第1下载置部21B接近。第1上搬送机构46T向第1上载置部21T接近。第1下搬送机构46B向第1下载置部21B接近。第1上载置部21T供载置在装载部11(也就是装载用搬送机构14A、14B)与第1上搬送机构46T之间被搬送的衬底W。第1下载置部21B供载置在装载部11(也就是装载用搬送机构14A、14B)与第1下搬送机构46B之间被搬送的衬底W。
[0308] <第3载置部51>
[0309] 第3载置部51配置在第2上搬送机构48T与第3上搬送机构68T之间、及第2下搬送机构48B与第3下搬送机构68B之间。将配置在第2上搬送机构48T与第3上搬送机构68T之间的第3载置部51称作“第3上载置部51T”。将配置在第2下搬送机构48B与第3下搬送机构68B之间的第3载置部51称作“第3下载置部51B”。第3上载置部51T横跨第1区块31的上搬送空间45T与第2区块61的上搬送空间67T而配置。第3下载置部51B横跨第1区块31的下搬送空间
45B与第2区块61的下搬送空间67B而配置。第2上搬送机构48T与第3上搬送机构68T向第3上载置部51T接近。第2下搬送机构48B与第3下搬送机构68B向第3下载置部51B接近。第3上载置部51T供载置在第2上搬送机构48T与第3上搬送机构68T之间被搬送的衬底W。第3下载置部51B供载置在第2下搬送机构48B与第3下搬送机构68B之间被搬送的衬底W。
[0310] 上阶层90T包含第1上搬送机构46T、第2上搬送机构48T、第3上搬送机构68T、第1上载置部21T、第2上载置部41T、第3上载置部51T、第1上处理部34T、第2上处理部37T及第3上处理部64T。下阶层90B包含第1下搬送机构46B、第2下搬送机构48B、第3下搬送机构68B、第1下载置部21B、第2下载置部41B、第3下载置部51B、第1下处理部34T、第2下处理部37B及第3下处理部64B。
[0311] <控制部81>
[0312] 控制部81(例如参照图1)对装载部11、第1处理部34、第1搬送机构46、第2处理部37、第2搬送机构48、第3处理部64及第3搬送机构68进行控制。
[0313] <各搬送机构的循环动作>
[0314] 图17是示意性地表示搬送机构的循环动作的图。
[0315] 装载用搬送机构14A反复执行包含下述2个接近动作的循环动作。
[0316] ·向载具CA、CC的接近动作
[0317] ·向第1载置部21(第1上载置部21T及第1下载置部21B)的接近动作
[0318] 装载用搬送机构14B反复执行包含下述2个接近动作的循环动作。
[0319] ·向载具CB、CD的接近动作
[0320] ·向第1载置部21(第1上载置部21T及第1下载置部21B)的接近动作
[0321] 第1上搬送机构46T反复执行包含下述3个接近动作的第1循环动作。
[0322] ·向第1上载置部21T接近的第1接近动作
[0323] ·向第1上处理部34T接近的第2接近动作
[0324] ·向第2上载置部41T接近的第3接近动作
[0325] 第1下搬送机构46B反复执行包含下述3个接近动作的第1循环动作。
[0326] ·向第1下载置部21B接近的第1接近动作
[0327] ·向第1下处理部34B接近的第2接近动作
[0328] ·向第2下载置部41B接近的第3接近动作
[0329] 第2上搬送机构48T反复执行包含下述3个接近动作的第2循环动作。
[0330] ·向第2上载置部41T接近的第4接近动作
[0331] ·向第2上处理部37T接近的第5接近动作
[0332] ·向第3上载置部51T接近的第6接近动作
[0333] 第2下搬送机构48B反复执行包含下述3个接近动作的第2循环动作。
[0334] ·向第2下载置部41B接近的第4接近动作
[0335] ·向第2下处理部37B接近的第5接近动作
[0336] ·向第3下载置部51B接近的第6接近动作
[0337] 第3上搬送机构68T反复执行包含下述2个接近动作的第3循环动作。
[0338] ·向第3上载置部51T接近的第7接近动作
[0339] ·向第3上处理部64T接近的第8接近动作
[0340] 第3下搬送机构68B反复执行包含下述2个接近动作的第3循环动作。
[0341] ·向第3下载置部51B接近的第7接近动作
[0342] ·向第3下处理部64B接近的第8接近动作
[0343] <动作例>
[0344] 图18是示意性地表示衬底的搬送路径的图。衬底处理装置1例如以如下方式动作。
[0345] <装载部11的动作(1)>
[0346] 装载部11将衬底W交替地搬送到第1上载置部21T与第1下载置部21B。
[0347] 具体来说,在装载用搬送机构14A的1个循环动作中,装载用搬送机构14A从载具CA、CC的任一个搬出衬底W,且将衬底W载置在第1上载置部21T。在装载用搬送机构14A的下一循环动作中,装载用搬送机构14A从载具CA、CC的任一个搬出衬底W,且将衬底W载置在第1下载置部21B。
[0348] <第1区块31及第2区块61的动作>
[0349] 上阶层90T中的动作与下阶层90B中的动作类似。因此,以下说明上阶层90T中的动作,省略下阶层90B中的动作的说明。关于下阶层90B中的动作,在以下说明中,相当于将第1、第2、第3上搬送机构46T、48T、68T分别改称作第1、第2、第3下搬送机构46B、48B、68B,将第
1、第2、第3上载置部21T、41T、51T分别改称作第1、第2、第3下载置部21B、41B、51B,将第1、第
2、第3上处理部34T、37T、64T分别改称作第1、第2、第3下处理部34B、37B、64B。
[0350] 第1上搬送机构46T获取第1上载置部21T上的衬底W(第1接近动作)。第1上搬送机构46T将衬底W搬入到第1上处理部34T(第2接近动作)。第1上处理部34T对衬底W进行处理(边缘曝光处理)。第1上搬送机构46T从第1上处理部34T搬出衬底W(第2接近动作)。第1上搬送机构46T将衬底W载置在第2上载置部41T(第3接近动作)。
[0351] 第2上搬送机构48T获取第2上载置部41T上的衬底W(第4接近动作)。第2上搬送机构48T将衬底W载置在第3上载置部51T(第6接近动作)。
[0352] 第3上搬送机构68T获取第3上载置部51T上的衬底W(第7接近动作)。第3上搬送机构68T将衬底W搬入到第3上处理部64T(第8接近动作)。第3上处理部64T对衬底W进行处理(液体处理)。第3上搬送机构68T从第3上处理部64T搬出衬底W(第8接近动作)。第3上搬送机构68T将衬底W载置在第3上载置部51T(第7接近动作)。
[0353] 第2上搬送机构48T获取第3上载置部51T上的衬底W(第6接近动作)。第2上搬送机构48T将衬底W搬入到第2上处理部37T(第5接近动作)。第2上处理部37T对衬底W进行处理(热处理)。第2上搬送机构48T从第2上处理部37T搬出衬底W(第5接近动作)。第2上搬送机构48T将衬底W载置在第2上载置部41T(第4接近动作)。
[0354] 第1上搬送机构46T获取第2上载置部41T上的衬底W(第3接近动作)。第1上搬送机构46T将衬底W载置在第1上载置部21T(第1接近动作)。
[0355] <装载部11的动作(2)>
[0356] 装载部11交替地从第1上载置部21T与第1下载置部21B获取衬底W。
[0357] 具体来说,在装载用搬送机构14B的1个循环动作中,装载用搬送机构14B获取第1上载置部21T上的衬底W,且将衬底W搬入到载具CB、CD的任一个。在装载用搬送机构14B的下一循环动作中,装载用搬送机构14B获取第1下载置部21B上的衬底W,且将衬底W搬入到载具CB、CD的任一个。
[0358] <第2实施方式的效果>
[0359] 根据第2实施方式,也发挥与第1实施方式相同的效果。例如,第1搬送机构46(46T、46B)的各第1循环动作包含3个接近动作。第2搬送机构48(48T、48B)的各第2循环动作包含3个接近动作。第3搬送机构68(68T、68B)的各第3循环动作包含2个接近动作。因此,能够适宜地提高衬底处理装置1的产量。
[0360] 第2载置部41(41T、41B)具有在俯视下与第1处理部34(34T、34B)重叠的第1部分41a、及在俯视下与第2处理部37(37T、37B)重叠的第2部分41b。因此,能够使第1搬送机构46与第2搬送机构48的间隔距离变小。进而,第1搬送机构46及第2搬送机构48能够分别容易地接近第2载置部41。
[0361] 进而,根据第2实施方式,发挥以下效果。与第1处理部34对应地设有2个第1搬送机构46(46T、46B)。与第2处理部37对应地设有2个第2搬送机构48(48T、48B)。与第3处理部64对应地设有2个第3搬送机构68(68T、68B)。因此,能够使衬底处理装置1的产量倍增。
[0362] 第1上搬送机构46T与第1下搬送机构46B以排列在上下方向Z的方式配置。因此,能够适宜地抑制衬底处理装置1的设置面积(占据面积)增大。
[0363] 第2上搬送机构48T与第2下搬送机构48B以排列在上下方向Z的方式配置。因此,能够适宜地抑制衬底处理装置1的设置面积(占据面积)增大。
[0364] 第3上搬送机构68T与第3下搬送机构68B以排列在上下方向Z的方式配置。因此,能够适宜地抑制衬底处理装置1的设置面积(占据面积)增大。
[0365] 上阶层90T与下阶层90B以排列在上下方向Z的方式配置。因此,能够适宜地抑制衬底处理装置1的设置面积(占据面积)增大。
[0366] 本发明并不限于所述实施方式,能够以如下方式变化并实施。
[0367] (1)在所述第1实施方式及第2实施方式中,第2载置部41在俯视下,配置在不和连结第1轴线A1与第2轴线A2的假想直线L重叠的位置。但,并不限定于此。也可为将第2载置部41配置在俯视下和连结第1轴线A1与第2轴线A2的假想直线L重叠的位置。
[0368] 图19是变化实施方式的衬底处理装置1的俯视图。此外,对与第1实施方式相同的构成标注相同符号,由此省略详细的说明。第2载置部41配置在不与第1处理部34重叠的位置。第2载置部41配置在不与第2处理部37重叠的位置。第2载置部41全部配置在搬送空间45。第2载置部41配置在和连结第1轴线A1与第2轴线A2的假想直线L重叠的位置。第1搬送机构46、第2载置部41及第2搬送机构48在前后方向X上排列成1列。
[0369] (2)在所述第1实施方式及第2实施方式中,处理部的数量为3个(具体来说为第1-第3处理部34、37、64)。但,并不限定于此。例如,处理部的数量也可为2个。例如,处理部的数量也可为4个以上。
[0370] 例如,在省略第3处理部64的情况下,能够省略第3载置部51。进而,能够省略第6接近动作。结果,第2搬送机构48的第2循环动作包含2个接近动作。也就是说,第2循环动作中所包含的接近动作的数量为2个。具体来说,第2循环动作中所包含的2个接近动作如下。
[0371] ·向第2载置部41接近的第4接近动作
[0372] ·向第2处理部37接近的第5接近动作
[0373] (3)在所述第1实施方式及第2实施方式中,衬底处理装置1未连接在将衬底W曝光的曝光机。但,并不限定于此。例如,也可将曝光机连接在衬底处理装置1。
[0374] 例如,也可将曝光机连接在第2区块61的后部。在该情况下,衬底处理装置1也可具备供载置在第3搬送机构68与曝光机之间被搬送的衬底W的第4载置部。在本变化实施方式中,第3搬送机构68反复执行包含下述3个接近动作的第3循环动作。
[0375] ·向第3载置部51接近的第7接近动作
[0376] ·向第3处理部64接近的第8接近动作
[0377] ·向第4载置部接近的第9接近动作
[0378] 在本变化实施方式中,第3循环动作中所包含的接近动作的数量为3个。因此,第3搬送机构68的搬送效率依然较高。由此,能够提高衬底处理装置1的产量。
[0379] 或者,第3搬送机构68也可直接将衬底W搬送到曝光机。在本变化实施方式中,第3搬送机构68反复执行包含下述3个接近动作的第3循环动作。
[0380] ·向第3载置部51接近的第7接近动作
[0381] ·向第3处理部64接近的第8接近动作
[0382] ·向曝光机接近的第9接近动作
[0383] 在本变化实施方式中,第3循环动作中所包含的接近动作的数量为3个。因此,第3搬送机构68的搬送效率依然较高。由此,能够提高衬底处理装置1的产量。
[0384] (4)在所述第1实施方式及第2实施方式中,衬底处理装置1不具备用来将衬底W搬送到曝光机的接口部。但,并不限定于此。例如,衬底处理装置1也可具备接口部。
[0385] 例如,接口部连接在第2区块61的后部。在该情况下,衬底处理装置1也可具备供载置在第3搬送机构68与接口部之间被搬送的衬底W的第4载置部。在本变化实施方式中,第3搬送机构68反复执行包含下述3个接近动作的第3循环动作。
[0386] ·向第3载置部51接近的第7接近动作
[0387] ·向第3处理部64接近的第8接近动作
[0388] ·向第4载置部接近的第9接近动作
[0389] 在本变化实施方式中,第3循环动作中所包含的接近动作的数量为3个。因此,第3搬送机构68的搬送效率依然较高。由此,能够提高衬底处理装置1的产量。
[0390] (5)在所述第1实施方式及第2实施方式中,第1处理部34为边缘曝光处理部,第2处理部37为热处理部。但,并不限定于此。第1处理部34也可为热处理部。第2处理部也可为边缘曝光处理部。
[0391] 在所述第1实施方式及第2实施方式中,第1处理单元35为边缘曝光处理单元,第2处理单元38为热处理单元。但,并不限定于此。第1处理单元35也可为热处理单元。第2处理单元38也可为边缘曝光处理单元。
[0392] (6)在所述第1实施方式及第2实施方式中,第3处理部64所进行的液体处理为显影处理。但,并不限定于此。第3处理部64所进行的液体处理例如也可为涂布处理。涂布处理是将涂膜材料涂布在衬底W,在衬底W形成涂膜的处理。涂膜例如为抗蚀膜或抗反射膜。第3处理部64所进行的液体处理例如也可为清洗处理。清洗处理是对衬底W供给清洗液的处理。
[0393] (7)在所述第1实施方式中,第1搬送机构46具备2个第1支柱47a、47b。但,并不限定于此。例如也可省略第1支柱47a、47b中的一个。同样地,在所述第1实施方式中,第2搬送机构48具备2个第2支柱49a、49b。但,并不限定于此。例如,也可省略第2支柱49a、49b中的一个。
[0394] (8)在所述第1实施方式及第2实施方式中,第1处理部34配置在搬送空间45的右方的位置及搬送空间45的左方的位置。但,并不限定于此。例如,也可将第1处理部34配置在搬送空间45的右方的位置及搬送空间45的左方的位置中的仅任一位置。关于第2处理部37与第3处理部64,也可同样地予以变更。
[0395] (9)在所述第1实施方式及第2实施方式中,第2处理单元38也可还具备安装在第1平板39a且调节第1平板39a的温度的调温机器。例如,第1平板39a也可调整衬底W的温度。例如,第1平板39a也可将经第2平板39b加热的衬底W冷却。
[0396] 或者,第2处理单元38也可还具备安装在局部搬送机构且调节局部搬送机构的温度的调温机器。例如,局部搬送机构也可调整衬底W的温度。例如,局部搬送机构也可将经第2平板39b加热的衬底W冷却。
[0397] (10)在所述第1实施方式及第2实施方式中,第2载置部41在俯视下,配置在与第1左处理部34L及第2左处理部37L重叠的位置。但,并不限定于此。也可为第2载置部41在俯视下,配置在与第1右处理部34R及第2右处理部37R重叠的位置。
[0398] (11)在所述第1实施方式及第2实施方式中,空间F配置在第3右处理部64R的前方的位置。但,并不限定于此。空间F也可配置在第3右处理部64R的后方的位置。空间F也可配置在第3右处理部64R前方的位置及后方的位置。
[0399] (12)在所述第1实施方式及第2实施方式中,前后方向X上的第3右处理部64R的长度G1比前后方向X上的第3左处理部64L的长度G2小。但,并不限定于此。长度G2也可比长度G1小。本变化实施方式的情况下,第3右处理部64R为本发明中的第3长处理部的示例。第3左处理部64L为本发明中的第3短处理部的示例。在本变化实施方式中,空间F与第3左处理部64L排列在前后方向X。在本变化实施方式中,也可适当地变更空间F的配置。
[0400] (13)在所述第1实施方式中,未详细叙述装载部11的动作。以下,例示装载部11的动作。例如,装载部11也可从载具载置部12A上的载具CA搬出衬底W,且将衬底W搬入到载具载置部12B上的载具CB。在该情况下,也可为在将载具载置部12A上的载具CA内的所有衬底W搬出后,将载具载置部12A上的载具CA搬送到载具载置部12B。装载部11也可不将衬底W搬入到载具载置部12A上的载具CA。装载部11也可不从载具载置部12B上的载具CB搬出衬底W。
[0401] (14)也可将在所述实施例及所述(1)至(13)中所说明的各变化实施例的各构成以适当组合的方式予以变更。
[0402] 本发明能够不脱离它的思想或本质而以其它具体的形式实施,因此,作为表示发明的范围者,应当参照所附加的权利要求书而非以上说明。
[0403] [符号的说明]
[0404] 1                    衬底处理装置
[0405] 11                   装载部
[0406] 12A、12B、12C、12D    载具载置部
[0407] 13                   搬送空间
[0408] 14A、14B              装载用搬送机构
[0409] 21                   第1载置部
[0410] 21T                  第1上载置部
[0411] 21B                  第1下载置部
[0412] 22a、22b              平板
[0413] 31                   第1区块
[0414] 32                   第1框架
[0415] 34                   第1处理部
[0416] 34R                  第1右处理部
[0417] 34L                  第1左处理部
[0418] 34T                  第1上处理部
[0419] 34B                  第1下处理部
[0420] 35                   第1处理单元
[0421] 36a                  旋转保持部
[0422] 36b                  光照射部
[0423] 37                   第2处理部
[0424] 37R                  第2右处理部
[0425] 37L                  第2左处理部
[0426] 37T                  第2上处理部
[0427] 37B                  第2下处理部
[0428] 38                   第2处理单元
[0429] 39a                  第1平板
[0430] 39b                  第2平板
[0431] 41                   第2载置部(载置部)
[0432] 41a                  第1部分
[0433] 41b                  第2部分
[0434] 41c                  第3部分
[0435] 41T                  第2上载置部
[0436] 41B                  第2下载置部
[0437] 42a、42b              平板
[0438] 43、44                槽
[0439] 43f-43j              槽(第1槽)
[0440] 43f-43h              槽(处理用第1槽)
[0441] 43i                  槽(载置用第1槽)
[0442] 44f-44j              槽(第2槽)
[0443] 44f-44h、44j          槽(处理用第2槽)
[0444] 44i                  槽(载置用第2槽)
[0445] 45                   搬送空间
[0446] 45T                  上搬送空间
[0447] 45B                  下搬送空间
[0448] 46                   第1搬送机构
[0449] 46T                  第1上搬送机构
[0450] 46B                  第1下搬送机构
[0451] 47a、47b              第1支柱
[0452] 47c                  第1升降部
[0453] 47d                  第1旋转部
[0454] 47e、47f              第1保持部
[0455] 48                   第2搬送机构
[0456] 48T                  第2上搬送机构
[0457] 48B                  第2下搬送机构
[0458] 49a、49b              第2支柱
[0459] 49c                  第2升降部
[0460] 49d                  第2旋转部
[0461] 49e、49f              第2保持部
[0462] 51                   第3载置部
[0463] 51T                  第3上载置部
[0464] 51B                  第3下载置部
[0465] 52a、52b              平板
[0466] 61                   第2区块
[0467] 62                   第2框架
[0468] 64                   第3处理部
[0469] 64R                  第3右处理部(第3短处理部)
[0470] 64L                  第3左处理部(第3长处理部)
[0471] 64T                  第3上处理部
[0472] 64B                  第3下处理部
[0473] 65                   第3处理单元
[0474] 66a                  旋转保持部
[0475] 66b                  喷嘴
[0476] 66c                  承杯
[0477] 67                   搬送空间
[0478] 67T                  上搬送空间
[0479] 67B                  下搬送空间
[0480] 68                   第3搬送机构
[0481] 68T                  第3上搬送机构
[0482] 68B                  第3下搬送机构
[0483] 69a、69b              第3支柱
[0484] 69c                  第3升降部
[0485] 69d                  第3水平移动部
[0486] 69e                  第3旋转部
[0487] 69f、69g              第3保持部
[0488] 71                   检验口
[0489] 72                   盖部
[0490] 81                   控制部
[0491] 90T                  上阶层
[0492] 90B                  下阶层
[0493] 91                   间隔壁
[0494] 92                   间隔壁
[0495] A1                   第1轴线
[0496] A2                   第2轴线
[0497] B1                   第1区域
[0498] B2                   第2区域
[0499] B3                   第3区域
[0500] C、CA、CB、CC、CD     载具
[0501] D1                   第1轴线A1与第2轴线A2之间的距离
[0502] D2                   俯视下第1轴线A1与点P1之间的距离
[0503] D3                   俯视下第2轴线A2与点P1之间的距离
[0504] D4                   俯视下第1轴线A1与点P2之间的距离
[0505] D5                   俯视下第2轴线A2与点P3的距离
[0506] E、E1、E2             空间(隔热空间)
[0507] F                    空间(隔热空间、保养空间)
[0508] G1                   前后方向上的第3右处理部的长度
[0509] G2                   前后方向上的第3左处理部的长度
[0510] L                    假想直线
[0511] P1                   载置在第2载置部的衬底的中心点
[0512] P2                   载置在第1处理部(旋转保持部36a)的衬底的中心点[0513] P3                   载置在第2处理部(第1平板39a)的衬底的中心点[0514] r                    衬底半径
[0515] W                    衬底
[0516] X                    前后方向
[0517] Y                    宽度方向
[0518] Z                    上下方向
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