技术领域
[0001] 本实用新型涉及光伏组件制备技术领域,尤其涉及一种湿法槽式设备。
背景技术
[0002] 湿法槽式设备为晶体
硅太阳能电池生产的过程中的重要设备,该设备广泛应用于
硅片的清洗和制绒。清洗可以去除硅表面的硅粉、脏污、有机物等杂质,为后续获得高效
太阳能电池打下
基础;制绒可以降低太阳光在硅表面的反射率,增加硅对太阳光的吸收,增加产生
电子空穴对的几率,有利于提高太阳能电池的
短路电流,进而提高电池的效率。
[0003] 一般湿法槽式设备中,反应过后的硅片通过清洗液清洗表面残留的反应液,使得反应液和清洗液用量均较大,化学成本高。因此,亟需一种湿法槽式设备以降低对反应液和清洗液的用量需求。实用新型内容
[0004] 本实用新型的目的在于提出一种湿法槽式设备,可以减少反应液和清洗液的用量需求,有利于降低成本。
[0005] 为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
[0006] 一种湿法槽式设备,包括:
[0007] 反应槽,所述反应槽能够盛放反应液;
[0008] 清洗槽,所述清洗槽能够盛放清洗液;及
[0009] 过渡槽,所述过渡槽设置于所述反应槽和所述清洗槽之间且与所述反应槽连通,所述过渡槽能够承接由所述反应槽中取出的
工件上的残留反应液。
[0010] 其中,所述反应槽包括外槽以及嵌于所述外槽内的内槽,所述外槽能够向所述内槽补充反应液,所述过渡槽与所述外槽连通。
[0011] 其中,所述湿法槽式设备还包括:
[0013] 循环管道,所述外槽、所述
循环泵和所述内槽通过所述循环管道依次连通。
[0014] 其中,所述过渡槽的底面高于所述反应槽底面,所述过渡槽的下端与所述反应槽连通。
[0015] 其中,所述过渡槽的底面为斜面,所述斜面沿靠近所述反应槽的方向向下倾斜。
[0016] 其中,所述过渡槽内设置有过滤装置。
[0017] 其中,所述过滤装置包括至少两层过滤层,所述过滤层设置有过滤孔,相邻两层所述过滤层上的所述过滤孔错开设置。
[0018] 其中,所述过滤装置由耐酸
碱材料制成。
[0019] 其中,所述过滤装置与所述过渡槽可拆卸连接。
[0020] 其中,所述湿法槽式设备还包括:
[0021] 机械手,所述机械手被配置为将工件在所述反应槽、所述过渡槽和所述清洗槽之间传送。
[0022] 本实用新型的有益效果:
[0023] 本实用新型提供了一种湿法槽式设备,反应槽和清洗槽之间设置有过渡槽,在反应槽内反应后的工件,可以移动至过渡槽内沥干,减少其表面残留的反应液,之后在进入清洗槽内清洗,可以减少对清洗槽内的清洗液用量;工件上残留的反应液聚集在过渡槽内,且可以再次进入反应槽内,实现反应液的重复利用,有利于节约成本。
附图说明
[0024] 图1是本实用新型提供的湿法槽式设备的结构示意图;
[0025] 图2是本实用新型提供的过滤装置的结构示意图。
[0026] 其中:
[0027] 11、内槽;12、外槽;2、清洗槽;3、过渡槽;31、斜面;32、通孔;41、循环泵;42、循环管道;5、过滤装置;51、过滤层。
具体实施方式
[0028] 下面详细描述本实用新型的
实施例,实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
[0029] 在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“
水平”、“内”、“外”等指示的方位或
位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。其中,术语“第一位置”和“第二位置”为两个不同的位置。
[0030] 除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
[0031] 除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一特征和第二特征直接
接触,也可以包括第一特征和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0032] 下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。
[0033] 本实施例提供了一种湿法槽式设备,可以用于太阳能电池片制备过程中,硅片的制绒和清洗。如图1所示,湿法槽式设备包括反应槽和清洗槽2,反应槽内盛放有反应液,清洗槽2内盛放有清洗液。硅片在加工过程中,首先将硅片放入反应槽内与反应液反应,完成制绒;制绒后,硅片放入清洗槽2内,去除硅片表面的反应液。
[0034] 现有的湿法槽式设备中,反应液的用量较大,反应液的消耗主要包括与硅片反应消耗、反应液
蒸发以及附着在硅片表面的残留液。经研究发现,反应液的消耗中,随硅片进入清洗槽2中的残留液比重较大,不仅造成反应液浪费,而且还会增大清洗液的消耗量。
[0035] 为解决上述问题,本实施例中,湿法槽式设备还包括过渡槽3,过渡槽3位于反应槽和清洗槽2之间,过渡槽3用于承接由反应槽中取出的硅片上的残留的反应液。湿法槽式设备工作时,硅片由反应槽中取出后,放入过渡槽3内或位于过渡槽3的上方,硅片表面的残留的反应液滴入到过渡槽3内,可以减少硅片表面残留的反应液,之后再放入清洗槽2内清洗。通过设置过渡槽3,可以将硅片表面残留的反应液收集在过渡槽3内,减少进入清洗槽2内的反应液的量,不仅可以减少反应液的消耗,而且还可以减少清洗液的消耗,使用较少的清洗液即可将硅片清洗干净,有利于节约成本。
[0036] 为了进一步减少反应液的浪费,过渡槽3内聚集的反应液可以重复利用。具体地,过渡槽3可以与反应槽连通,可以将过渡槽3内收集的反应液回流至反应槽内,实现反应液的循环利用。
[0037] 可选地,反应槽包括外槽12以及嵌入外槽12内的内槽11,内槽11内设置有反应液,用于与硅片反应;外槽12用于在内槽11内反应液不足时,向内槽11补充反应液。过渡槽3可以与外槽12连通,以便将过渡槽3内汇集的反应液导入外槽12内,以便重复利用。
[0038] 通过将反应槽分为内槽11和外槽12,可以避免过渡槽3和内槽11直接连通,可以减少一次性放入内槽11内的反应液的量,有利于节约成本。
[0039] 可选地,反应槽内可以设置有将其内槽体分隔为内槽11和外槽12的隔板。可选地,隔板可以为环形结构,也可以为并行设置有两个板体。可选地,环形的隔板可以为具有三侧
侧壁的三
角形环、矩形环或圆环。当隔板包括并行设置的两个板体时,两个板体可以将反应槽内的空间分割为三部分,其中,位于中间的槽体可以作为与硅片反应的内槽11,位于内槽11两侧的槽体可以作为外槽12,过渡槽3与任一外槽12连通。
[0040] 为了实现外槽12向内槽11补充反应液,湿法槽式设备还包括循环组件。循环组件包括循环泵41和循环管道42,内槽11、外槽12和循环泵41通过循环管道42依次连通。当需要向内槽11补充反应液时,循环泵41启动,将外槽12内的反应液抽入内槽11内,实现内槽11内反应液的补充。
[0041] 为了方便过渡槽3内的反应液流入外槽12内,过渡槽3的底面可以高于外槽12的底面,且过渡槽3的下端设置有通孔32,通孔32与外槽12连通。过渡槽3的底面高于外槽12的底面,有利于反应液顺利流入外槽12内。通孔32设置在过渡槽3的下端,可以避免过渡槽3内的反应液残留。
[0042] 可选地,过渡槽3的底面可以为斜面31,斜面31的高度沿靠近外槽12的方向逐渐降低。过渡槽3内的反应液可以在斜面31的导向作用下流入外槽12内,可以进一步减少过渡槽3内反应液残留。
[0043] 为了避免杂质通过过渡槽3进入反应槽内,过渡槽3内设置有过滤装置5。过滤装置5可以过滤由硅片表面沥下的反应液,过滤其中的碎片以及不溶物副产物,避免进入内槽11内,可以有效增加反应液的使用寿命。
[0044] 为了避免过滤装置5与反应液反应,过滤装置5可以由耐酸碱材料制成,保证过滤装置5的使用效果。可选地,耐酸碱材料可以为聚醚醚
酮(Poly Ether Ether Ketone,PEEK)、聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene,PTFE)或(聚己二酰丁二胺。
[0045] 可选地,如图2所示,过滤装置5可以包括至少两层过滤层51,每层过滤层51上均设置有多个过滤孔,反应液通过过滤孔穿过过滤层51。相邻的两层过滤层51上的过滤孔错开设置,避免反应液直接通过过滤孔,有利于提高过滤装置5的过滤效果。
[0046] 可选地,过滤孔可以为圆形、正方形、菱形等规则图形,也可以为不规则图形。每层过滤层51上的多个过滤孔可以均匀分布,有利于提高反应液的过滤效果。
[0047] 可选地,相邻的两层过滤层51上的过滤孔的形状可以不同,不同的过滤孔形状,可以提高过滤装置5对碎片等杂质的过滤效果。由于碎片等杂质的形状各异,若均设置为相同形状的过滤孔,例如圆形过滤孔,对不同形状的杂质的拦截效果不同,存在有杂质通过过滤孔的情况。通过设置不同形状的过滤孔,可以提高对杂质的拦截效果,避免杂质通过。
[0048] 可选地,相邻的两层过滤层51上的过滤孔的孔径可以不同,以便拦截不同尺寸的杂质。优选地,多层过滤层51中,过滤孔的大小沿反应液的流动方向逐渐减小。通过多层过滤层51的层层过滤,可以提高过滤效果。
[0049] 可选地,过滤装置5可以遮挡过滤槽的开口,也可以设置在过滤槽底端的通孔32处,只要可以保证过滤后的反应液进入外槽12内即可。
[0050] 为了保证过滤装置5的过滤效果,过滤装置5可以与过渡槽3可拆卸连接,以便在过滤装置5使用一段时间后更换过滤装置5,保证过滤装置5的过滤效果。
[0051] 可选地,过渡槽3至少两侧相对的侧壁上设置有托板,过滤装置5搭接在托板上。过滤装置5的尺寸和大小可以与过渡槽3的开口的尺寸和大小相同,过滤装置5放在托板上后,可以遮挡过渡槽3的开口,使得进入过渡槽3内的反应液通过过滤装置5过滤后,再进入外槽12内。通过设置托板,使得过滤装置5的拆装更方便,方便定期清洗或更换过滤装置5。
[0052] 在其他实施例中,过渡槽3和过滤装置5也可以通过卡扣和卡槽的配合实现可拆卸连接。
[0053] 可选地,湿法槽式设备还包括机械手,机械手可以将硅片在反应槽、过渡槽3和清洗槽2之间传送。为了提高硅片制绒和清洗效率,硅片在加工时可以放入花篮内,机械手通过带动花篮移动,实现硅片的移动。花篮可以承载多张硅片,提高一次性加工量。
[0054] 以上内容仅为本实用新型的较佳实施例,对于本领域的普通技术人员,依据本实用新型的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,本
说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。