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掺铋的化钨近红外高反射粉体制备方法

阅读:496发布:2021-04-12

专利汇可以提供掺铋的化钨近红外高反射粉体制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及 近红外 高反射粉体,尤其涉及 氧 化钨近红外高反射粉体制备方法。一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,它包括下列步骤:步骤一,分别溶解铋盐和钨盐;且钨盐通过离子交换 树脂 配置成钨 酸溶液 ;步骤二,将钨酸和铋盐按照重量比1:0.01‑0.1投入反应 溶剂 内进行超声混合1‑3小时,得到 水 热反应前驱液;步骤三,调节前驱液的pH值4‑6;步骤四,将调节好pH值的前驱液投入带有搅拌的密闭水热反应釜内,在120℃‑250℃下持续反应5‑20小时;步骤五,将步骤四反应的沉淀物反复洗涤、干燥 粉碎 后 煅烧 即得到所述的掺铋的氧化钨近红外高反射粉体。本发明制备的粉体颗粒尺寸均匀,不易聚团,成本低。,下面是掺铋的化钨近红外高反射粉体制备方法专利的具体信息内容。

1.一种掺铋的化钨近红外高反射粉体制备方法,其特征在于,它包括下列步骤:
步骤一,分别溶解铋盐和钨盐;且钨盐通过离子交换树脂配置成钨酸溶液
步骤二,将钨酸和铋盐按照重量比1:0.01-0.1投入反应溶剂内进行超声混合1-3小时,得到热反应前驱液;
步骤三,调节前驱液的pH值4-6;
步骤四,将调节好pH值的前驱液投入带有搅拌的密闭水热反应釜内,在120℃-250℃下持续反应5-20小时;
步骤五,将步骤四反应的沉淀物反复洗涤、干燥粉碎煅烧即得到所述的掺铋的氧化钨近红外高反射粉体;所述步骤五的煅烧是在300℃-750℃下进行的,煅烧时间3-10h。
2.根据权利要求1所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,其特征在于,所述步骤一中的铋盐包括氯化铋、硝酸铋或硫酸铋中的一种或几种,所述钨盐包括钨酸、钨酸铵或钨酸钠中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,其特征在于,所述步骤二的溶剂包括:去离子水或无水乙醇
4.根据权利要求1所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,其特征在于,所述步骤三是通过稀盐酸、稀硝酸或乙酸调节pH值的。
5.根据权利要求1所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,其特征在于,所述步骤五中是采用去离子水或无水乙醇进行洗涤的。
6.根据权利要求1所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,其特征在于,所述步骤五中干燥的温度是90℃-150℃,干燥时间为6-24小时。
7.根据权利要求1所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,其特征在于,所述步骤五所述粉碎中,粉碎机转速2000rpm-15000rpm,粉碎时间5-30分钟。
8.根据权利要求1所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,其特征在于,所述步骤五中煅烧是在氩气或氦气的气氛中进行的。

说明书全文

掺铋的化钨近红外高反射粉体制备方法

技术领域

[0001] 本发明涉及近红外高反射粉体,尤其涉及氧化钨近红外高反射粉体制备方法。

背景技术

[0002] 氧化钨(WO3)是一种功能材料,在光致变色和气致变色方便有广泛的的研究。它在光催化、气体传感器领域有着广泛的应用。通过对掺杂铋的氧化钨材料的研究发现,该材料对近红外的反射率达95%以上。但是目前,该材料在生产的生产方法存在着不适合工业化生产的问题,且制备的粉末存在颗粒大小不均匀,容易聚团,成本高。

发明内容

[0003] 本发明旨在克服现有技术缺陷,提供一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法。本发明制备的粉体颗粒尺寸均匀,不易聚团,成本低。
[0004] 本发明一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,它包括下列步骤:
[0005] 步骤一,分别溶解铋盐和钨盐;且钨盐通过离子交换树脂配置成钨酸溶液
[0006] 步骤二,将钨酸和铋盐按照重量比1:0.01-0.1投入反应溶剂内进行超声混合1-3小时,得到热反应前驱液;
[0007] 步骤三,调节前驱液的pH值4-6;
[0008] 步骤四,将调节好pH值的前驱液投入带有搅拌的密闭水热反应釜内,在120℃-250℃下持续反应5-20小时;
[0009] 步骤五,将步骤四反应的沉淀物反复洗涤、干燥粉碎煅烧即得到所述的掺铋的氧化钨近红外高反射粉体。
[0010] 所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,所述步骤一中的铋盐包括氯化铋、硝酸铋或硫酸铋中的一种或几种,所述钨盐包括钨酸、钨酸铵或钨酸钠中的一种或几种。
[0011] 所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,所述步骤二的溶剂包括:去离子水或无水乙醇
[0012] 所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,所述步骤三是通过稀盐酸、稀硝酸或乙酸调节pH值的。
[0013] 所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,所述步骤五中是采用去离子水或无水乙醇进行洗涤的。
[0014] 所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,所述步骤五中干燥的温度是90℃-150℃,干燥时间为6-24小时。
[0015] 所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,所述步骤五所述粉碎中,粉碎机转速2000rpm-15000rpm,粉碎时间5-30分钟。
[0016] 所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,所述步骤五的煅烧是在300℃-750℃下进行的,煅烧时间3-10h。
[0017] 所述的一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,所述步骤五中煅烧是在氩气或氦气的气氛中进行的。。
[0018] 本发明的方法,适合大规模工业生产,所得到的粉体颗粒小,颗粒尺寸分布窄,不易聚团,稳定性好,对近红外的阻隔效率达到了95%,。本发明的制备方法工艺简单,设备简单。附图说明
[0019] 图1是本发明的钨酸铋粉体制成的薄膜的反射率示意图。

具体实施方式

[0020] 下面,结合具体实施方式对本发明作进一步的说明:
[0021] 实施例1
[0022] 一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,它包括下列步骤:
[0023] 步骤一,分别溶解氯化铋和钨酸钾;且钨盐通过离子交换树脂配置成钨酸溶液;
[0024] 步骤二,将钨酸和铋盐按照重量比1:0.02投入反应溶剂内进行超声混合1小时,得到水热反应前驱液;
[0025] 步骤三,加入稀盐酸调节前驱液的pH值4.5;
[0026] 步骤四,将调节好pH值的前驱液投入带有搅拌的密闭水热反应釜内,在150℃下持续反应6小时;
[0027] 步骤五,将步骤四反应的沉淀物反复洗涤、100℃干燥8h,5000rpm粉碎10min后,在氩气氛围下,400℃煅烧4h即得到所述的掺铋的氧化钨近红外高反射粉体。
[0028] 实施例2
[0029] 一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,它包括下列步骤:
[0030] 步骤一,分别溶解硝酸铋和钨酸钠;且钨盐通过离子交换树脂配置成钨酸溶液;
[0031] 步骤二,将钨酸和硝酸铋按照重量比1:0.01投入反应溶剂内进行超声混合2小时,得到水热反应前驱液;
[0032] 步骤三,加入稀盐酸调节前驱液的pH值4;
[0033] 步骤四,将调节好pH值的前驱液投入带有搅拌的密闭水热反应釜内,在150℃下持续反应6小时;
[0034] 步骤五,将步骤四反应的沉淀物反复洗涤、90℃干燥24h,6000rpm粉碎5min后,在氩气氛围下,300℃煅烧6h即得到所述的掺铋的氧化钨近红外高反射粉体。
[0035] 实施例3
[0036] 一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,它包括下列步骤:
[0037] 步骤一,分别溶解硫酸铋和钨酸胺;且钨盐通过离子交换树脂配置成钨酸溶液;
[0038] 步骤二,将钨酸和硫酸铋按照重量比1:0.01投入反应溶剂内进行超声混合2小时,得到水热反应前驱液;
[0039] 步骤三,加入稀盐酸调节前驱液的pH值6;
[0040] 步骤四,将调节好pH值的前驱液投入带有搅拌的密闭水热反应釜内,在150℃下持续反应6小时;
[0041] 步骤五,将步骤四反应的沉淀物反复洗涤、90℃干燥24h,6000rpm粉碎5min后,在氩气氛围下,300℃煅烧6h即得到所述的掺铋的氧化钨近红外高反射粉体。
[0042] 实施例4
[0043] 一种掺铋的氧化钨近红外高反射粉体制备方法,它包括下列步骤:
[0044] 步骤一,分别溶解硝酸铋和钨酸钾;且钨盐通过离子交换树脂配置成钨酸溶液;
[0045] 步骤二,将钨酸和硝酸铋按照重量比1:0.1投入反应溶剂内进行超声混合3小时,得到水热反应前驱液;
[0046] 步骤三,加入稀盐酸调节前驱液的pH值4;
[0047] 步骤四,将调节好pH值的前驱液投入带有搅拌的密闭水热反应釜内,在250℃下持续反应5小时;
[0048] 步骤五,将步骤四反应的沉淀物反复洗涤、150℃干燥6h,1500rpm粉碎5min后,在氩气氛围下,300℃煅烧10h即得到所述的掺铋的氧化钨近红外高反射粉体。
[0049] 上述个实施例的粉体制成的薄膜反射率图谱参见图1。
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