技术领域
[0001] 本
发明涉及显示技术领域，具体涉及一种柔性显示面板及其制造方法以及柔性显示终端。
背景技术
[0002] 随着柔性显示技术的不断发展，用户对柔性显示产品的抗弯折性与可靠性的要求越来越高。在柔性显示面板的动态弯折过程中，位于弯折区域的
像素支撑柱(SPC，Spacer)容易顶破
薄膜封装层，进而导致出现黑斑等显示不良现象，影响显示面板的可靠性。
发明内容
[0003] 有鉴于此，本发明
实施例提供了一种柔性显示面板以解决
现有技术中柔性显示面板的弯折区域的像素支撑柱容易顶破薄膜封装层导致屏体出现黑斑等显示不良现象的技术问题。
[0004] 根据本发明的一个方面，本发明一实施例提供的一种柔性显示面板，所述柔性显示面板被划分为弯折区域与非弯折区域；所述柔性显示面板包括：阵列
基板；设置在所述阵列基板上的多个显示发光单元与像素限定层，所述像素限定层包括多个像素隔离柱，所述显示发光单元位于相邻的两个所述像素隔离柱之间；
覆盖所述多个显示发光单元与所述像素限定层的薄膜封装层；以及位于所述非弯折区域的像素限定层与位于所述非弯折区域的薄膜封装层之间设置的多个像素支撑柱。
[0005] 在一个实施例中，所述多个像素支撑柱与所述多个像素隔离柱一一对应。
[0006] 在一个实施例中，所述多个像素支撑柱呈阵列排布。
[0007] 在一个实施例中，所述像素支撑柱在所述阵列基板上的正投影面积小于所述像素隔离柱在所述阵列基板上的正投影面积。
[0008] 在一个实施例中，所述像素支撑柱的厚度大于等于0.5μm小于等于1μm。
[0009] 在一个实施例中，所述像素支撑柱的材料为有机胶。
[0010] 在一个实施例中，所述像素支撑柱的与所述薄膜封装层
接触的一面呈弧形状。
[0011] 根据本发明的另一个方面，本发明一实施例提供的一种柔性显示面板的制造方法，
[0012] 所述柔性显示面板被划分为弯折区域与非弯折区域；所述制造方法包括：提供阵列基板；在所述阵列基板上制备多个显示发光单元与像素限定层，所述像素限定层包括多个像素隔离柱，在非弯折区的像素隔离柱上制备多个像素支撑柱；在相邻的两个所述像素隔离柱之间制备显示发光单元；以及在所述像素限定层、所述多个显示发光单元以及所述多个像素支撑柱上制备薄膜封装层。
[0013] 在一个实施例中，所述在位于所述非弯折区域的像素限定层上制备多个像素支撑柱，包括：非弯折区域的所述像素隔离柱与多个所述像素支撑柱一一对应设置。
[0014] 根据本发明的又一个方面，本发明一实施例提供的一种柔性显示终端，包括：前述任一所述的柔性显示面板。
[0015] 本发明实施例提供的一种柔性显示面板，通过只在位于非弯折区域的像素限定层与位于非弯折区域的薄膜封装层之间设置像素支撑柱，取消位于弯折区域的像素限定层与位于弯折区域的薄膜封装层之间设置的像素支撑住，保证弯折区域的弯折性与可靠性。由于屏体的弯折半径很小，即使取消屏体弯折区域的像素支撑柱，非弯折区域的像素支撑柱仍然可以支撑整个掩膜版，不影响蒸
镀效果。此外，取消弯折区域像素支撑柱的设置，避免弯折区域掩膜版与像素支撑柱发生摩擦，有效降低弯折区域像素支撑柱出现不光滑等破损的概率，进而避免不光滑等破损的像素支撑柱在屏体动态弯折过程中顶破薄膜封装层，提高弯折区域的可靠性。
附图说明
[0016] 图1所示为本发明一实施例提供的一种柔性显示面板的结构示意图。
[0017] 图2所示为本发明一实施例提供的一种柔性显示面板的制造方法的流程示意图。
具体实施方式
[0018] 正如背景技术所述，现有技术中存在柔性显示面板的弯折区域的像素支撑柱容易顶破薄膜封装层导致屏体出现黑斑等显示不良现象的技术问题。出现这种问题的原因在于如下。现有柔性显示面板
制造过程中，像素限定层之上会设置多个像素支撑柱用于支撑掩膜版，从掩膜版的开口处向像素隔离柱围成的区域中蒸镀有机发光材料形成显示
发光层。像素支撑柱与掩膜版接触不可避免地会造成像素支撑柱出现不光滑等破损现象，像素支撑柱出现不光滑等破损也会导致薄膜封装层覆盖性差，降低薄膜封装层的可靠性，进而影响柔性显示面板的可靠性。此外，在柔性显示面板的动态弯折过程中，位于弯折区域的不光滑等破损的像素支撑柱受
挤压力向薄膜封装层方向行进，容易顶破薄膜封装层，造成封装失效，进而使显示面板出现黑斑等显示不良现象，影响显示面板的可靠性。
[0019] 为了解决上述问题，
发明人研究发现，只在位于非弯折区域的像素限定层与位于非弯折区域的薄膜封装层之间设置像素支撑柱，取消位于弯折区域的像素限定层与位于弯折区域的薄膜封装层之间设置的像素支撑柱，可以保证弯折区域的弯折性与可靠性。由于屏体的弯折半径很小，弯折区面积足够小，即使取消屏体弯折区域的像素支撑柱，非弯折区域的像素支撑柱仍然可以支撑整个掩膜版，不影响蒸镀效果。此外，取消弯折区域像素支撑柱的设置，避免掩膜版与弯折区域的像素支撑柱发生摩擦，有效降低弯折区域像素支撑柱出现不光滑等破损现象的概率，进而避免不光滑等破损的像素支撑柱在屏体动态弯折过程中顶破薄膜封装层，提高弯折区域的可靠性。
[0020] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0021] 图1所示为本发明一实施例提供的一种柔性显示面板的结构示意图。如图1所示，柔性显示面板被划分为弯折区域与非弯折区域；柔性显示面板包括：阵列基板1；设置在阵列基板1上的多个显示发光单元2与像素限定层3，像素限定层3包括多个间隔设置的像素隔离柱31，显示发光单元2位于相邻的两个像素隔离柱31之间；覆盖多个显示发光单元2与像素限定层3的薄膜封装层4；以及位于非弯折区域的像素限定层3与位于非弯折区域的薄膜封装层4之间设置的多个像素支撑柱5。
[0022] 本发明实施例中，取消弯折区域像素支撑柱5的设置，避免弯折区域掩膜版与像素支撑柱5发生摩擦，有效降低弯折区域像素支撑柱5出现不光滑等破损的概率，进而避免不光滑等破损的像素支撑柱5在屏体动态弯折过程中顶破薄膜封装层4，提高弯折区域的可靠性。此外，由于屏体的弯折半径很小，即使取消屏体弯折区域的像素支撑柱5，非弯折区域的像素支撑柱5仍然可以支撑整个掩膜版，既不影响蒸镀效果，又能节省材料。
[0023] 应当理解，柔性显示面板被划分为弯折区域与非弯折区域，弯折区域是指该柔性显示面板构造的柔性显示装置在弯折时被弯折拉伸的区域，非弯折区域该柔性显示面板构造的柔性显示装置在弯折时没有被弯折的区域。弯折区域与非弯折区域可以根据不同的柔性显示面板型号以及不同的应用场景而划分，本发明实施例对弯折区域与非弯折区域的具体划分不做限定。
[0024] 还应当理解，阵列基板1可以是包括衬底基板以及设置于衬底基板上的
薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)层。当然，该基板还可以包括平坦化层、
钝化层等膜层的多层结构，本发明实施例对阵列基板1的具体结构不做限定。薄膜封装层4可以是包括依次层叠的有机层与无机层的多层结构，发明实施例对薄膜封装层4的具体结构不做限定。
[0025] 显示发光单元2包括
阴极和
阳极，以及位于阴极和阳极之间的有机发光层，有机发光层可以包括依次
叠加的空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、有机材料发光层(EML)、
电子传输层(ETL)以及电子注入层(EIL)。显示发光单元2只要可以实现显示发光即可，本发明对显示发光单元2的具体结构不做限定。
[0026] 像素限定层3包括多个像素隔离柱31，像素隔离柱31围绕形成的区域用于制备有机发光单元。在制作时，将蒸镀源中的有机材料透过蒸镀掩膜版(例如，可以为精细金属掩膜版FMM)上的镂空图案，蒸镀至像素隔离柱31围绕形成的区域内，从而形成有机发光层；在蒸镀过程中，像素支撑柱5对蒸镀掩膜版进行支撑，以保证有机发光层的正常制作。由于掩膜版为一整张的结构，取消屏体弯折区域的像素支撑柱5，非弯折区域的像素支撑柱5仍然可以支撑整个掩膜版，既不影响蒸镀效果，又能节省材料。
[0027] 像素支撑柱31可以通过蒸镀、沉积或者喷墨打印等工艺形成，本发明实施例对像素隔离柱31的具体制备工艺不做限定。像素支撑柱31形状可以是圆柱体，也可以是立方体，本发明实施例对像素支撑柱的具体形状不做限定。
[0028] 在一个实施例中，多个像素支撑柱5与多个像素隔离柱31一一对应设置。非弯折区域的像素支撑柱5与像素隔离柱31一一对应，有效支撑掩膜版，使有机材料蒸镀到像素隔离柱31围绕形成的区域内。
[0029] 在一个进一步实施例中，多个像素支撑柱5呈阵列排布。由于只在非弯折区域设置像素支撑柱5，非弯折区域的像素支撑柱5呈阵列排布，在柔性显示面板弯折过程中，非弯折区域的像素支撑柱5向上顶薄膜封装层4的力可以是均匀的，避免薄膜封装层4某一处受力过大产生撕裂。此外，由于像素支撑柱5与像素隔离柱31一一对应，像素支撑柱5呈阵列排布，像素隔离柱31也成阵列排布，显示发光单元2也呈阵列排布，在蒸镀过程中，成阵列排布的像素隔离柱31对掩膜版各个部分的支撑力也较为均匀，有利于提高蒸镀效果，进而保证柔性面板显示效果更加均匀。
[0030] 在一个实施例中，像素支撑柱5在阵列基板1上的正投影面积小于像素隔离柱31在阵列基板1上的正投影面积。像素支撑柱5的面积越大，在柔性显示面板弯折时，薄膜封装层4受到的压强越小，封装效果越好。但像素支撑柱5在阵列基板1上的正投影尺寸要小于像素隔离柱31在阵列基板1上的正投影尺寸，否则会影响有机发光层的沉积，影响柔性显示面板的显示发光效果。
[0031] 在一个实施例中，像素支撑柱5的厚度大于等于0.5μm小于等于1μm。像素支撑柱5太薄，起不到支撑掩膜版的作用；像素支撑柱5太厚，由于弯折区域取消设置像素支撑柱5，弯折区域的掩膜版容易塌陷，像素支撑柱5太厚，尽管非弯折区遭受的弯折
应力较小，但非弯折区域的像素支撑柱5也容易顶破薄膜封装层4。像素支撑柱5的厚度设置在此范围内，弯折区域的掩膜版不容易塌陷，也不会影响非弯折区域的封装
稳定性，另外，由于像素支撑柱5是嵌设在薄膜封装层4中的，像素支撑柱5厚度越厚，在像素支撑柱5与薄膜封装层4接触的
位置越容易形成
支点效应，如此，在弯折过程中，非弯折区靠近弯折区部分的像素支撑柱5厚度越厚，
支点效应越强，能够
加速薄膜封装层4与像素支撑柱5的分离，因此，设置像素支撑柱5的厚度大于等于0.5μm小于等于1μm，在保证柔性显示面板弯折可靠性的同时，也有利于提高膜层之间的粘附力。
[0032] 在一个实施例中，像素支撑柱5的材料为有机胶。有机胶容易获得，制备工艺成熟，经济成本低。
[0033] 在一个实施例中，像素支撑柱5的与薄膜封装层4接触的一面呈弧形状。通过将像素支撑柱5与薄膜封装接触的一面设置为弧形状，降低了像素支撑柱5与薄膜封装层4之间的支点效应，从而减少或避免了像素支撑柱5与薄膜封装层4之间由于支点效应而造成的膜层分离，进而减少弯折区域的膜层分离。有效提高柔性显示面板的稳定性与抗弯折性。
[0034] 根据本发明的另一个方面，图2所示为本发明一实施例提供的一种柔性显示面板的制造方法的流程示意图。如图2所示，制造方法包括如下步骤。
[0035] 步骤201：提供阵列基板；
[0036] 步骤202：在阵列基板上制备多个显示发光单元与像素限定层，所述限定层包括多个间隔设置的像素隔离柱；
[0037] 步骤202：在非弯折区的像素隔离柱上制备多个像素支撑柱；
[0038] 步骤203：在相邻的两个所述像素隔离柱之间制备显示发光单元；
[0039] 步骤204：在所述像素限定层、所述多个显示发光单元以及所述多个像素支撑柱上制备薄膜封装层。
[0040] 本发明实施例中，只在位于非弯折区域的像素限定层上制备像素支撑柱，取消在弯折区域的像素限定层上制备像素支撑柱，避免弯折区域掩膜版与像素支撑柱发生摩擦，有效降低弯折区域像素支撑柱出现不光滑等破损的概率，进而避免不光滑等破损的像素支撑柱在屏体动态弯折过程中顶破薄膜封装层，提高弯折区域的可靠性。
[0041] 如图2所示，步骤202：在位于非弯折区域的像素隔离柱上制备像素支撑柱。在非弯折区域的像素隔离柱上制备像素支撑柱，既能利用非弯折区域的像素支撑柱支撑起整个掩膜版，不影响有机发光层的蒸镀，又能提高弯折区域的抗弯折性与稳定性。
[0042] 本发明实施例中，通过采用上述柔性显示面板构造柔性显示终端，增强柔性显示终端的弯折区域的抗弯折性能，减少柔性显示终端在弯折时像素支撑柱顶破薄膜封装层导致屏体出现黑斑等显示不良现象。从而提高柔性显示终端的抗弯折性与稳定性，延长显示终端使用寿命。
[0043] 以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本
说明书记载的范围。
[0044] 以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何
修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。
