一种曝光调节方法、装置、电子设备及其存储介质
阅读：972发布：2020-05-08
专利汇可以提供一种曝光调节方法、装置、电子设备及其存储介质专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 实施例 公开了一种曝光调节方法、装置、 电子 设备及存储介质，其中，所述方法包括：通过 色温 传感器 采集当前环境中的至少两个 光源 频率 和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度；根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率；获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，并通过所述目标曝光参数进行曝光处理。，下面是一种曝光调节方法、装置、电子设备及其存储介质专利的具体信息内容。
1.一种曝光调节方法，其特征在于，所述方法包括：
通过色温传感器采集当前环境中的至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度；
根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率；
获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，并通过所述目标曝光参数进行曝光处理。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过色温传感器采集当前环境中的至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，包括：
通过所述色温传感器感应当前空间环境中的环境光，得到电信号；
通过指定的采样频率对所述电信号进行采样，得到采样信号；
对所述采样信号进行时频转换，得到至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率，包括：
根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度确定各光源频率对应的稳定程度；
将对应的稳定程度满足稳定性条件的光源频率确定为所述目标光源频率。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度确定各光源频率对应的稳定程度，包括：
对于所述至少两个光源频率中各光源频率进行以下处理：
确定所述光源频率对应的第一指定次数的频率强度的方差，得到所述光源频率对应的稳定程度。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述稳定性条件包括：小于指定阈值；所述将对应的稳定程度满足稳定性条件的光源频率确定为所述目标光源频率，包括：
将对应的方差小于所述指定阈值的光源频率确定为所述目标光源频率。
6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度确定各光源频率对应的稳定程度，包括：
对于所述至少两个光源频率中各光源频率进行以下处理：
确定所述光源频率对应的第二指定次数的频率强度中，频率强度大于指定强度阈值的目标次数；
确定所述目标次数与所述第二指定次数的比值。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述稳定性条件包括：大于指定比值；所述将对应的稳定程度满足稳定性条件的光源频率确定为所述目标光源频率，包括：
将对应的比值大于所述指定比值的光源频率确定为所述目标光源频率。
8.根据权利要求1至7任一项所述的方法，其特征在于，在根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率之前，所述方法还包括：
根据频率强度从大到小的顺序对所述至少两个光源频率进行排序；
根据所述排序结果，将所述至少两个光源频率中，位于指定次序以外的光源频率从所述至少两个光源频率中筛除。
9.根据权利要求1至7所述的方法，其特征在于，所述曝光参数包括：曝光时间；当存在至少两个目标光源频率，所述获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，包括：
获取所述至少两个目标光源频率中各目标光源频率对应的光源周期；
将各目标光源频率对应的所述光源周期的最小公倍数的整数倍确定为所述曝光时间。
10.根据权利要求1至7任一项所述的方法，其特征在于，获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，并通过所述目标曝光参数进行曝光处理，包括：
当所述目标光源频率由第一目标光源频率变化为第二目标光源频率，获取所述第二目标光源频率对应的第二曝光参数，并将进行曝光处理的目标曝光参数由所述第一目标光源频率对应的第一曝光参数切换为所述第二曝光参数，以通过所述第二曝光参数进行曝光处理。
11.一种曝光调节装置，其特征在于，所述装置包括：
采集单元，用于通过色温传感器采集当前环境中的至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度；
选择单元，用于根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率；
收敛单元，用于获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，并通过所述目标曝光参数进行曝光处理。
12.根据权利要求11所述的装置，其特征在于，所述采集单元，包括：
色温传感器模块，用于感应当前空间环境中的环境光，得到电信号；
采样模块，用于通过指定的采样频率对所述电信号进行采样，得到采样信号；
转换模块，用于对所述采样信号进行时频转换，得到至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度。
13.根据权利要求11所述的装置，其特征在于，所述选择单元，包括：
第一确定模块，用于根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度确定各光源频率对应的稳定程度；
第二确定模块，用于将对应的稳定程度满足稳定性条件的光源频率确定为所述目标光源频率。
14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，
所述第一确定模块，用于对于所述至少两个光源频率中各光源频率进行以下处理：
确定所述光源频率对应的第一指定次数的频率强度的方差，得到所述光源频率对应的稳定程度；
所述第二确定模块，用于将对应的方差小于所述指定阈值的光源频率确定为所述目标光源频率。
15.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，
所述第一确定单元，用于对于所述至少两个光源频率中各光源频率进行以下处理：
确定所述光源频率的第二指定次数的频率强度中，频率强度大于指定强度阈值的目标次数；
确定所述目标次数与所述第二指定次数的比值；
所述第二确定单元，用于将对应的比值大于所述指定比值的光源频率确定为所述目标光源频率。
16.根据权利要求11至15任一项所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：筛除单元，用于：
在根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率之前，根据频率强度从大到小的顺序对所述至少两个光源频率进行排序；
根据所述排序结果，将所述至少两个光源频率中，位于指定次序以外的光源频率从所述至少两个光源频率中筛除。
17.根据权利要求11至15任一项所述的装置，其特征在于，所述收敛单元，还用于：
当存在至少两个目标光源频率，获取所述至少两个光源频率中各光源频率对应的光源周期；
将各光源频率对应的所述光源周期的最小公倍数的整数倍确定为所述曝光参数所包括的曝光时间。
18.根据权利要求11至15任一项所述的装置，其特征在于，所述收敛单元，还用于：
当所述目标光源频率由第一目标光源频率变化为第二目标光源频率，获取所述第二目标光源频率对应的第二曝光参数，并将进行曝光处理的目标曝光参数由所述第一目标光源频率对应的第一曝光参数切换为所述第二曝光参数，以通过所述第二曝光参数进行曝光处理。
19.一种电子设备，其特征在于，包括处理器和配置为存储能够在处理器上运行的计算机程序的存储器，其中，所述处理器配置为运行所述计算机程序时，执行上述权利要求1至
10任一项所述的曝光调节方法的步骤。
20.一种存储介质，存储有可执行程序，其特征在于，所述可执行程序被处理器执行时，实现上述权利要求1至10任一项所述的曝光调节方法。
一种曝光调节方法、装置、电子设备及其存储介质
技术领域
背景技术
[0002] 当前手机、平板电话和数码相机等电子设备已经成为人们日常必需品，用户在生活和工作当中经常需要利用电子设备来进行拍照、录像等拍摄等。而在拍摄过程中，需要通过自动曝光装置消除图像的闪烁。现有的曝光调节方案比较固定，只对50HZ交流电(国内)或者60HZ交流电(国外)进行抗闪烁抑制，也是根据具体环境进行单独配置。但实际拍摄场景中，会存在不同频率的光源。比如：城市路灯使用的发光二极管(Light Emitting Diode，LED)灯，氙气灯等，工作频率一般在100HZ～200HZ不等。又比如：室内使用的LED电子屏幕，也存在工作频率在30HZ～75HZ不等。因此，现有的自动曝光装置无法在存在多个频率的光源的场景下实施准确曝光。
发明内容
[0003] 本发明实施例提供一种曝光调节方法、装置、电子设备及其存储介质，在存在多个频率的光源的场景下实施准确曝光。
[0004] 本发明实施例的技术方案是这样实现的：
[0005] 第一方面，本发明实施例提供一种曝光调节方法，所述方法包括：
[0007] 根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率；
[0008] 获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，并通过所述目标曝光参数进行曝光处理。
[0009] 第二方面，本发明实施例提供一种曝光调节装置，所述装置包括：
[0010] 采集单元，用于通过色温传感器采集当前环境中的至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度；
[0011] 选择单元，用于根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频；
[0012] 收敛单元，用于获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，并通过所述目标曝光参数进行曝光处理。
[0014] 第四方面，本发明实施例提供一种存储介质，存储有可执行程序，所述可执行程序被处理器执行时，实现上述电子设备所执行的曝光调节方法。
[0015] 本发明实施例提供的曝光调节方法，包括：通过色温传感器采集当前环境中的至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度；根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率；获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，并通过所述目标曝光参数进行曝光处理，从而通过色温传感器获得真实环境下的多个光源频率，并根据各光源的频率强度从多个光源频率中选择进行曝光条件的目标光源频率，基于目标光源频率进行闪烁消除的曝光处理，从而适应多光源或一个光源存在多个频率的复杂光源场景，在存在多个频率的光源的场景下实施准确曝光。附图说明
[0016] 图1是本发明实施例提供的曝光调节方法的一个可选的流程示意图；
[0017] 图2是本发明实施例提供的曝光调节方法的一个可选的流程示意图；
[0019] 图4是本发明实施例提供的曝光调节方法的一个可选的流程示意图；
[0020] 图5是本发明实施例提供的曝光调节方法的一个可选的流程示意图；
[0021] 图6是本发明实施例提供的曝光调节方法的一个可选的流程示意图；
[0022] 图7是本发明实施例提供的曝光调节方法的一个可选的流程示意图；
[0023] 图8为本发明实施例提供的电子设备的一个可选的结构示意图；
[0024] 图9是本发明实施例提供的电子设备的一个可选的结构示意图。
具体实施方式
[0025] 为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，所描述的实施例不应视为对本发明的限制，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
[0026] 在本发明的各种实施例中：通过色温传感器采集当前环境中的至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度；根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率；获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，并通过所述目标曝光参数进行曝光处理。
[0028] 当然，本发明实施例不局限于提供为方法和硬件，还可有多种实现方式，例如提供为存储介质(存储有用于执行本申请实施例提供的对象处理方法的指令)。
[0029] 本发明实施例提供一种曝光调节方法，如图1所示，包括：
[0030] S101、通过色温传感器采集当前环境中的至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度。
[0031] 电子设备中设置有色温传感器，能够通过色温传感器采集空间环境中的光源的色温。
[0032] 可选地，当前空间环境中包括一个光源，且光源能够以多个光源频率工作。可选地，当前空间环境中包括多个光源，且不同光源的光源频率不同，一个光源的对应的光源频率可为一个或多个。
[0033] 本申请实施例中，当色温传感器采集到的光源的光源频率仅包括一个光源频率，电子设备将采集到的光源频率作为目标光源频率，直接执行S103。
[0034] 在一实施例中，S101的实施，如图2所示，包括：
[0035] S1011、通过所述色温传感器感应当前空间环境中的环境光，得到电信号。
[0036] 这里，电子设备通过色温传感器感应当前空间环境中的环境光，色温传感器将环境光信号转换为电信号。
[0038] 这里，指定的采样频率的大小可根据实际需求进行设置。
[0039] S1013、对所述采样信号进行时频转换，得到至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度。
[0040] 这里，进行时频转换采用的算法可为快速傅立叶变换(fast Fourier transform，FFT)等。本发明实施例中进行视频变换的所采用的算法可根据实际需求设定，本发明实施例对此不进行限定。
[0041] 在一示例中，一采样信号经过时频转换后的频域图如图3所示，采集到的光源频率包括：100、210、300、405以及510，各光源频率对应的频率强度分别为：105000、10800、300、200以及100。其中，图3中，横轴表征频率，纵轴表示频率强度。
[0042] S102、根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率。
[0043] 基于S101得到至少两个光源频率以及各光源频率对应的频率强度后，电子设备根据各光源频率对应的频率强度从至少两个光源频率中选取目标光源频率。
[0044] 本发明实施例中，基于目标光源选取策略从至少两个光源频率中选取目标光源频率，其中，光源选取策略可基于频率强度、频率强度的持续时长、光源稳定程度设定。比如：将最强的频率强度对应的光源频率作为目标光源频率、将在当前频率强度保持的时长最长的光源频率作为目标光源频率、将稳定程度最高的光源频率作为目标光源频率。
[0045] 以将最强的频率强度对应的光源频率作为目标光源频率为例，将至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度进行比较，将在当前频率强度保持的时长最长的光源频率作为目标光源频率。比如：光源频率包括：100、210、300、405以及510，各光源频率对应的频率强度分别为：105000、10800、300、200以及100，则将光源频率100作为目标光源频率。
[0046] 以将在当前频率强度保持的时长最长的光源频率作为目标光源频率为例，确定指定时间段内各光源频率持保持在当前频率强度的时长，并将时长最长的光源频率作为目标光源频率。其中，指定时间段可为采样周期。在一示例中，在10s内，光源频率100持续在频率强度105000的时长为2s、光源频率210持续在频率强度10800的时长为6s、光源频率300持续在频率强度300为5s、光源频率405持续在频率强度200的时长为2s，以及光源频率510持续在频率强度100的时长为1s，则将光源频率210作为目标光源频率。
[0047] 以将稳定程度最高的光源频率作为目标光源频率为例，S102的实施，如图4所示，包括：
[0048] S1021、根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度确定各光源频率对应的稳定程度。
[0049] S1022、将对应的稳定程度满足稳定性条件的光源频率确定为所述目标光源频率。
[0050] 光源频率的稳定程度的计算方式可包括以下之一：
[0051] 方式一、光源频率的频率强度的方差；
[0052] 方式二、光源频率对应的当前频率强度在所包括的频率强度中所占的比值。
[0053] 以光源频率的稳定程度的计算方式为方式一为例，S1021包括：对于所述至少两个光源频率中各光源频率进行以下处理：确定所述光源频率对应的第一指定次数的频率强度的方差，得到所述光源频率对应的稳定程度。
[0054] 这里，获取每一光源频率的第一指定次数的频率强度，并对于每一光源频率，计算第一指定次数的频率强度的方差，得到每一光源频率对应的稳定程度。其中，第一指定次数可根据实际需求进行设定，比如：5次、10次。
[0055] 本发明实施例中，每个采样信号基于时频变换得到对应的频率数据，频率数据包括：光源频率和各光源频率对应的频率强度。对于一光源频率，最近第一指定个采样信号对应的频率数据中，包括有该光源频率对应的第一指定次数的频率强度。其中，确定一光源频率对应的频率强度时，当某次频率数据中不存在该光源频率，则确定该光源频率此次的频率强度为0。
[0056] 在一示例中，当前的光源频率包括：光源频率A、光源频率B，光源频率A、光源频率B当前对应的频率强度分别为SA1和SB1，当第一指定次数为5，光源频率A最近的5次频率强度分别为：SA1、SA2、SA3、SA4和SA5，光源频率B最近的5次频率强度分别为：SB1、SB2、SB3、SB4和SB5，则计算SA1、SA2、SA3、SA4和SA5的方差得到DA，计算SB1、SB2、SB3、SB4和SB5的方差得到DB，则光源频率A对应的稳定程度为DA、光源频率B对应的稳定程度为DB。
[0057] 此时，所述稳定性条件包括：小于指定阈值；S1022包括：将对应的方差小于所述指定阈值的光源频率确定为所述目标光源频率。
[0058] 在一示例中，同上例，当DA和DB都小于指定阈值Dref，则目标光源频率包括：光源频率A和光源频率B；当DA小于指定阈值Dref，DB大于指定阈值Dref，则目标光源频率包括：光源频率A。
[0059] 以光源频率的稳定程度的计算方式为方式二为例，S1021包括：
[0060] 对于所述至少两个光源频率中各光源频率进行以下处理：
[0061] 确定所述光源频率的第二指定次数的频率强度中，频率强度大于指定强度阈值的目标次数；确定所述目标次数与所述第二指定次数的比值。
[0062] 这里，获取每一光源频率的第二指定次数的频率强度，并对于每一光源频率，计算第二指定次数中频率强度大于指定强度阈值的目标次数，将每一光源频率对应的目标次数与第二指定次数的比值作为相应的光源频率对应的稳定程度。其中，第二指定次数可根据实际需求进行设定，比如：5次、10次。本发明实施例中，第二指定次数与第一指定次数可相同，也可不同。
[0063] 本发明实施例中，每个采样信号基于时频变换得到对应的频率数据，频率数据包括：光源频率和各光源频率对应的频率强度。对于一光源频率，最近第二指定个采样信号对应的频率数据中，包括有该光源频率对应的第二指定次数的频率强度。其中，确定一光源频率对应的频率强度时，当某次频率数据中不存在该光源频率，则确定该光源频率此次的频率强度为0。
[0064] 在一示例中，当前的光源频率包括：光源频率A、光源频率B，光源频率A、光源频率B当前对应的频率强度分别为SA1和SB1，当第二指定次数为5，光源频率A最近的5次频率强度分别为：SA1、SA2、SA3、SA4和SA5，且SA1、SA2、SA3、SA4和SA5中大于指定强度阈值T的频率强度包括：SA1、SA2、SA3和SA5，SA4小于指定强度阈值T，则目标次数为4，目标次数与所述第二指定次数的比值为：80％，此时，光源频率A对应的稳定性程度可为80％；光源频率B最近的5次频率强度分别为：SB1、SB2、SB3、SB4和SB5，且SB1、SB2、SB3、SB4和SB5中大于指定强度阈值T的频率强度包括：SB1、SB4和SB5，SB2和SB3小于指定强度阈值T，目标次数为3，光源频率B稳定性程度为：60％。
[0065] 本发明实施例中，指定强度阈值T的大小可根据实际需求设置，本发明实施例对此不进行限制。
[0066] 此时，所述稳定性条件包括：大于指定阈值；S1022包括：将对应的比值大于所述指定比值的光源频率确定为所述目标光源频率。
[0067] 本发明实施例中，指定比值的大小可根据实际需求设置，本发明实施例对此不进行限制。
[0068] 在一示例中，同上例，当指定比值为50％，光源频率A对应的比值80％和频率B对应的比值60％都大于指定比值，则目标光源频率包括：光源频率A和光源频率B；当指定比值为70％，光源频率A对应的比值80％大于指定比值，且光源频率B对应的比值60％小于指定比值，则目标光源频率包括：光源频率A。
[0069] 本发明实施例中，确定的目标光源的数量可为一个或多个。
[0070] 本发明实施例中，当稳定程度为第一指定次数的频率强度的方差，则稳定性与方差成反比例关系，方差越小，光源频率越稳定。当稳定程度为目标次数与第二指定次数的比值，则稳定性与比值成正比例关系，比值越大，光源频率越稳定。
[0071] S103、获取所述目标光源的光源频率对应的目标曝光参数，并通过所述目标曝光参数进行曝光处理。
[0072] 在确定目标光源频率后，电子设备基于光源频率和曝光参数的对应关系获取目标光源频率对应的目标曝光参数，以通过目标曝光参数进行曝光处理。
[0073] 本发明实施例中，电子设备设定多个对应关系，且不同的对应关系中所包括的光源频率不同和曝光参数不同。
[0074] 在一实施例中，所述曝光参数包括：曝光时间；当存在至少两个目标光源频率，所述获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，包括：获取所述至少两个目标光源频率中各目标光源频率对应的光源周期；将各目标光源频率对应的所述光源周期的最小公倍数的整数倍确定为所述曝光时间。
[0075] 当仅存在一个目标光源频率，曝光时间为目标光源频率对应的光源周期的整数倍。
[0076] 光源周期可根据目标光源频率f计算得到。在一示例中，光源周期t通过公式(1)计算得到：
[0077] t＝1/f 公式(1)。
[0078] 比如：目标光源频率包括f1和f2，其对应的光源周期分别为t1和t2，其中，t1＝1/f1，t2＝1/f2，则曝光时间为t1和t2的最小公倍数的整数倍。这里，光源频率f1对应的交流电的工作频率为f1/2，光源频率f2对应的交流电的工作频率为f2/2。
[0079] 比如：目标光源频率为100HZ，则对应的光源周期为1/100＝0.01即10ms，100HZ的光源频率对应的曝光时间为10ms的整数倍。这里，当光源频率为100HZ，则对应的交流电的工作频率为50HZ。
[0080] 本发明实施例中，可将各光源频率对应的对应关系以曝光表的形式存储，这里，可将曝光表标识为exp。比如：光源频率A对应的曝光表标识为expA，光源频率100HZ对应的曝光表标识为exp100，将光源频率A和光源频率B对应的曝光表标识为expAB。
[0081] 本发明实施例中，曝光参数还包括：增益等控制曝光收敛的参数。
[0082] 本发明实施例中，在同一环境条件下条，当需要曝光的亮度的相同时，曝光时间和增益成反比例。当曝光时间增大，则增益减小；当曝光时间减小，则增益增大。
[0083] 本发明实施例提供的曝光调节方法，通过色温传感器获得真实环境下的多个光源频率，并根据各光源的频率强度从多个光源频率中选择进行曝光条件的目标光源频率，基于目标光源频率进行闪烁消除的曝光处理，从而适应多光源或一个光源存在多个频率的复杂光源场景，在存在多个频率的光源的场景下实施准确曝光。
[0084] 本发明实施例中，S103可以实施为：当所述目标光源频率由第一目标光源频率变化为第二目标光源频率，获取所述第二目标光源频率对应的第二曝光参数，并将进行曝光处理的目标曝光参数由所述第一目标光源频率对应的第一曝光参数切换为所述第二曝光参数，以通过所述第二曝光参数进行曝光处理。
[0085] 第一目标光源频率中光源频率的数量可为一个或多个；第二目标光源频率中光源频率的数量可为一个或多个。在一示例中，目标光源频率由光源频率A变化为光源频率A和光源频率B。在一示例中，目标光源频率由光源频率A变化为光源频率B和光源频率100。
[0086] 这里，在曝光过程中，可通过色温传感器实时采集当前空间环境的光源的光源频率和各光源频率对应的频率强度，并实时地从所采集的一个或多个光源频率中确定目标光源。当光源频率或光源频率对应的频率强度发生变化，导致电子设备所确定的目标光源发生变化时，都进行曝光处理的目标曝光参数进行调整，由原来的第一光源频率对应的第一曝光参数调整为新确定的第二源频率对应的第二曝光参数，从而使得电子设备快速地适应空间环境中光源频率的变化，进行曝光的快速稳定切换。
[0087] 本发明实施例提供的曝光调节方法，引入的色温传感器获得真实环境下光源的频率数据，可以获取当前光源的多个光源频率，既可以对单一的光源频率设定曝光表，进行消除闪烁的曝光处理，也可同时设定复杂环境光的多个曝光表，便于光源频率发生主动性变化时，进行曝光的快速稳定切换，使覆盖场景更加广泛。
[0088] 在一实施例中，如图5所示，在S102之前，还包括：
[0089] S104、根据频率强度从大到小的顺序对所述至少两个光源频率进行排序。
[0090] S105、根据所述排序结果，将所述至少两个光源频率中，位于指定次序以外的光源频率从所述至少两个光源频率中筛除。
[0091] 这里，在S101得到空间环境中存在的光源频率以及各光源频率对应的频率强度，根据各光源频率对应的频率强度从色温传感器采集到的多个光源频率中筛除频率强度较小的光源频率，仅保留频率强度较大的光源频率，此时，S102执行为：根据保留的至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从保留的至少两个光源频率中选择目标光源频率。
[0092] 在一示例中，色温传感器采集到多个光源频率以及各光源频率对应的频率强度如图3所示，采集到的光源频率包括：100、210、300、405以及510，各光源频率对应的频率强度分别为：105000、10800、300、200以及100；根据频率强度对光源频率进行排序得到的排序结果为：100、210、300、405以及510，当指定次序为2，则将300、405以及510筛除，仅保留100和210，并基于100和210执行S102和S103。
[0093] 在一实施例中，在进行排序时，对色温传感器采集的光源频率中，频率强度大于指定频率强度阈值的光源频率进行排序。比如：当指定频率强度阈值为1000，采集到的光源频率包括：100、210、300、405以及510，各光源频率对应的频率强度分别为：105000、10800、300、200以及100；则仅对100和210进行排序，当指定次序为2，则将300、405以及510筛除。
[0094] 本发明实施例提供的曝光调节方法，对采集到的光源频率进行综合分析，选取比较稳定的光源频率进行曝光收敛，提出更切实际的曝光策略，实现快速、稳定曝光。
[0095] 下面，以具体的应用场景对本发明实施例提供的曝光调节方法进行举例说明。
[0096] 电子设备利用色温传感器采集的频率信号协助曝光调节，实现流程如图6所示，包括：
[0097] S601、通过色温传感器采集数据。
[0098] S602、计算光源频率。
[0099] S603、曝光收敛。
[0100] 在S601中，通过色传感器将环境光信号转换为电信号，并基于设置的固定的采样频率对电信号进行采样得到采样数据，并进行采样数据的传输和存储。
[0101] 在S602中，对采样数据进行FFT变换，输出环境光所包含的多个光源频率Hi(i＝0,1,2，...,N)和频率强度Si(i＝0,1,2，...,N)，对频率强度大于指定频率强度阈值S_Th的光源频率根据频率强度进行排序，按照频率强度依次输出对应的光源频率H_A、H_B及对应的频率强度S_A和S_B。
[0102] 在一示例中，当S_Th＝100，采样得到的光源频率以及对应的频率强度如图3所示，则输出的光源频率以及对应的频率强度包括：H_A＝100、S_A＝105000，H_B＝210、S_B＝10800。
[0103] 在S603中，对输出的光源频率进行综合分析，选取比较稳定的光源频率进行曝光设计，提出更切实际的曝光策略，实现快速、稳定曝光。
[0104] 本发明实施例提供的曝光调节方法的实施可如图7所示，包括：
[0105] S701、设置光源频率对应的曝光表。
[0106] 这里，设置的曝光表包括：expA、expB、expAB和exp100。其中，expA是光源频率H_A对应的曝光表，expA中的曝光时间是光源频率H_A对应光源周期的整数倍，expB是光源频率H_B对应的曝光表，expB中的曝光时间是光源频率H_B对应光源周期的整数倍，expAB是光源频率H_A和H_B对应的曝光表，expAB中的曝光时间是光源频率H_A对应的光源周期和光源频率H_B对应的光源周期的最小公倍周期的整数倍。exp100是光源频率100HZ对应的曝光表，exp100中的曝光时间是10ms的整数倍。
[0107] S702、获取连续N次的光源频率以及对应的频率强度。
[0108] S703、判断光源频率H_A对应的光源是否稳定。
[0109] 当光源频率H_A稳定，则执行S704；当光源频率H_A不稳定，则执行S705。
[0110] S704、判断光源频率H_B对应的光源是否稳定。
[0111] 当光源频率H_B稳定，则执行S706将曝光表切换至expAB；当光源频率H_B不稳定，则执行S707将曝光表切换至expA。
[0112] S705、判断光源频率H_B对应的光源是否稳定。
[0113] 当光源频率H_B稳定，则执行S708将曝光表切换至expB；当光源频率H_B不稳定，则执行S709将曝光表切换至exp50。
[0114] S710、通过曝光表进行曝光收敛。
[0115] 需要说明的是，本申请实施例中，通过稳定性条件判断光源频率是否稳定。基于稳定性条件，判断方式包括以下之一：
[0116] (1)、对N次的光源频率的进行方差分析，选取方差较小的光源频率作为比较稳定的光源频率；
[0117] (2)、光源频率HA>0；
[0118] (3)、将连续N次光源频率的频率强度作为光源频率稳定性的考虑因素。如果N次中存在N/5(N>＝5)次频率强度小于指定强度阀值T时，就评定当前光源频率不稳定。这里，如果N次中存在N/5(N>＝5)次频率强度小于指定阀值T，则表征光源弱。
[0119] 本发明实施例中，基于稳定性的频率光源进行曝光收敛，能够避免多种光源频率反复波动导致曝光不稳定，从而适应以下场景：出现多种光源频率共存且会出现瞬时的强光源频率的场景，例如汽车尾灯的瞬时闪烁等。
[0120] 本申请实施例中，曝光时间是光源周期的整数倍，从而消除图像闪烁问题。不同的光源频率对应不同的曝光表。在实际应用中，光源频率越高，曝光表可调节的范围越大。光源的频率越低，曝光表可以调节的范围越小。当曝光表调节范围较大时，采用大的曝光补偿进行迭代曝光，加快曝光时间；曝光调节范围较小时，采用小的曝光补偿进行迭代，提高平稳性，从而满足快速、准确的曝光调节。
[0121] 为实现上述曝光调节方法，本发明实施例还提供一种实施于电子设备上的曝光调节装置，所述曝光调节装置的组成结构，如图8所示，曝光调节装置800包括：
[0122] 采集单元801，用于通过色温传感器采集当前环境中的至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度；
[0123] 选择单元802，用于根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率；
[0124] 收敛单元803，用于获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，并通过所述目标曝光参数进行曝光处理。
[0125] 本发明实施例中，采集单元801，包括：
[0126] 色温传感器模块，用于感应当前空间环境中的环境光，得到电信号；
[0127] 采样模块，用于通过指定的采样频率对所述电信号进行采样，得到采样信号；
[0128] 转换模块，用于对所述采样信号进行时频转换，得到至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度。
[0129] 本发明实施例中，选择单元802，包括：
[0130] 第一确定模块，用于根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度确定各光源频率对应的稳定程度；
[0131] 第二确定模块，用于将对应的稳定程度满足稳定性条件的光源频率确定为所述目标光源频率。
[0132] 本发明实施例中，所述第一确定模块，用于对于所述至少两个光源频率中各光源频率进行以下处理：
[0133] 确定所述光源频率对应的第一指定次数的频率强度的方差，得到所述光源频率对应的稳定程度；
[0134] 所述第二确定模块，用于将对应的方差小于所述指定阈值的光源频率确定为所述目标光源频率。
[0135] 本发明实施例中，所述第一确定单元，用于对于所述至少两个光源频率中各光源频率进行以下处理：
[0136] 确定所述光源频率的第二指定次数的频率强度中，频率强度大于指定强度阈值的目标次数；
[0137] 确定所述目标次数与所述第二指定次数的比值；
[0138] 所述第二确定单元，用于将对应的比值大于所述指定比值的光源频率确定为所述目标光源频率。
[0139] 本发明实施例中，所述装置还包括：筛除单元，用于：
[0140] 在根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率之前，根据频率强度从大到小的顺序对所述至少两个光源频率进行排序；
[0141] 根据所述排序结果，将所述至少两个光源频率中，位于指定次序以外的光源频率从所述至少两个光源频率中筛除。
[0142] 本发明实施例中，收敛单元803，还用于：
[0143] 当存在至少两个目标光源频率，获取所述至少两个光源频率中各光源频率对应的光源周期；将各光源频率对应的所述光源周期的最小公倍数的整数倍确定为所述曝光参数所包括的曝光时间。
[0144] 本发明实施例中，收敛单元803，还用于：
[0145] 当所述目标光源频率由第一目标光源频率变化为第二目标光源频率，获取所述第二目标光源频率对应的第二曝光参数，并将进行曝光处理的目标曝光参数由所述第一目标光源频率对应的第一曝光参数切换为所述第二曝光参数，以通过所述第二曝光参数进行曝光处理。
[0146] 本发明实施例提供的曝光调节装置中的色温传感模块可基于色温传感器实现。
[0147] 本发明实施例还提供一种电子设备，包括处理器和用于存储能够在处理器上运行的计算机程序的存储器，其中，所述处理器用于运行所述计算机程序时，执行上述电子设备执行的曝光调节方法的步骤。
[0148] 图9是本发明实施例的电子设备的硬件组成结构示意图，电子设备900包括：至少一个处理器901、存储器902和至少一个网络接口904。电子设备900中的各个组件通过总线系统905耦合在一起。可理解，总线系统905用于实现这些组件之间的连接通信。总线系统905除包括数据总线之外，还包括电源总线、控制总线和状态信号总线。但是为了清楚说明起见，在图9中将各种总线都标为总线系统905。
[0149] 可以理解，存储器902可以是易失性存储器或非易失性存储器，也可包括易失性和非易失性存储器两者。其中，非易失性存储器可以是ROM、可编程只读存储器(PROM，Programmable Read-Only Memory)、可擦除可编程只读存储器(EPROM，Erasable Programmable Read-Only Memory)、电可擦除可编程只读存储器(EEPROM，Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory)、磁性随机存取存储器(FRAM，ferromagnetic random access memory)、快闪存储器(Flash Memory)、磁表面存储器、光盘、或只读光盘(CD-ROM，Compact Disc Read-Only Memory)；磁表面存储器可以是磁盘存储器或磁带存储器。易失性存储器可以是随机存取存储器(RAM，Random Access Memory)，其用作外部高速缓存。通过示例性但不是限制性说明，许多形式的RAM可用，例如静态随机存取存储器(SRAM，Static Random Access Memory)、同步静态随机存取存储器(SSRAM，Synchronous Static Random Access Memory)、动态随机存取存储器(DRAM，Dynamic Random Access Memory)、同步动态随机存取存储器(SDRAM，Synchronous Dynamic Random Access Memory)、双倍数据速率同步动态随机存取存储器(DDRSDRAM，Double Data RateSynchronous Dynamic Random Access Memory)、增强型同步动态随机存取存储器(ESDRAM，Enhanced Synchronous Dynamic Random Access Memory)、同步连接动态随机存取存储器(SLDRAM，SyncLink Dynamic Random Access Memory)、直接内存总线随机存取存储器(DRRAM，Direct Rambus Random Access Memory)。本发明实施例描述的存储器902旨在包括但不限于这些和任意其它适合类型的存储器。
[0150] 本发明实施例中的存储器902用于存储各种类型的数据以支持电子设备900的操作。这些数据的示例包括：用于在电子设备900上操作的任何计算机程序，如应用程序9021。实现本发明实施例方法的程序可以包含在应用程序9021中。
[0151] 上述本发明实施例揭示的方法可以应用于处理器901中，或者由处理器901实现。处理器901可能是一种集成电路芯片，具有信号的处理能力。在实现过程中，上述方法的各步骤可以通过处理器901中的硬件的集成逻辑电路或者软件形式的指令完成。上述的处理器901可以是通用处理器、数字信号处理器(DSP，Digital Signal Processor)，或者其他可编程逻辑器件、分立门或者晶体管逻辑器件、分立硬件组件等。处理器901可以实现或者执行本发明实施例中的公开的各方法、步骤及逻辑框图。通用处理器可以是微处理器或者任何常规的处理器等。结合本发明实施例所公开的方法的步骤，可以直接体现为硬件译码处理器执行完成，或者用译码处理器中的硬件及软件模块组合执行完成。软件模块可以位于存储介质中，该存储介质位于存储器902，处理器901读取存储器902中的信息，结合其硬件完成前述方法的步骤。
[0152] 在示例性实施例中，电子设备900可以被一个或多个应用专用集成电路(ASIC，Application Specific Integrated Circuit)、DSP、可编程逻辑器件(PLD，Programmable LogicDevice)、复杂可编程逻辑器件(CPLD，Complex Programmable Logic Device)、FPGA、通用处理器、控制器、MCU、MPU、或其他电子元件实现，用于执行前述方法。
[0153] 本发明实施例还提供了一种存储介质，用于存储计算机程序。
[0154] 可选地，该存储介质可应用于本发明实施例中的电子设备，并且该计算机程序使得计算机执行本发明实施例的各个方法中的相应流程，为了简洁，在此不再赘述。
[0155] 本发明是参照根据本发明实施例的方法、设备(系统)、和计算机程序产品的流程图和/或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和/或方框图中的每一流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中的流程和/或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理设备的处理器以产生一个机器，使得通过计算机或其他可编程数据处理设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的装置。
[0156] 这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理设备以特定方式工作的计算机可读存储器中，使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品，该指令装置实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能。
[0157] 这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理设备上，使得在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理，从而在计算机或其他可编程设备上执行的指令提供用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。
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