包含无裂缝气溶胶的光学元件
阅读：842发布：2021-12-02
专利汇可以提供包含无裂缝气溶胶的光学元件专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种制造在其表面上包含填充有 气溶胶 的池的光学元件的方法，所述气溶胶在其制造期间，或在随后用液体浸渍气溶胶的步骤期间不会破裂。本发明还涉及使用所述方法可获得的光学元件。，下面是包含无裂缝气溶胶的光学元件专利的具体信息内容。
1.制造透明光学元件的方法，其包括如下相继步骤：
a)提供在其表面上包含至少一个开放池的光学元件；
b)进行所述池的表面处理以提高其表面的润湿性；
c)制备包含如下组分的溶液：
-有机-含水溶剂；
-至少一种可溶于所述溶剂中的有机聚合物，其重均分子量为大于10 000g/mol；
-至少一种选自(C1-C3烷基)三(C1-C3烷氧基)硅烷和四(C1-C3烷氧基)硅烷及其混合物的烷氧基硅烷；
d)将酸或碱水解催化剂加入溶液中以得到溶胶；
e)在达到溶胶的胶凝点以前将溶胶沉积到预处理过的池中并使用膜密封经填充的池；
f)使光学元件保持在醇气氛中15分钟至5小时以得到凝胶的熟化；
g)在醇介质中除去密封所述池的膜；
h)在高压釜中对所述池中所含的凝胶进行超临界干燥以得到气溶胶。
2.根据权利要求1的方法，其中光学元件包含在该光学元件表面上的数个开放池，所述池的开口最大尺寸为10-10 000μm(微米)。
3.根据权利要求1的方法，其中步骤b)中进行的表面处理用低压氧等离子体进行。
4.根据权利要求1的方法，其中溶液中包含的聚合物选自聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇、聚(乙酸乙烯酯-co-乙烯醇)共聚物；聚氧乙烯；聚氧丙烯及其混合物。
5.根据权利要求1的方法，其中溶液中包含的烷氧基硅烷为四甲氧基硅烷。
6.根据权利要求中1的方法，其中在步骤d)结束时得到的溶胶包含：-0.5-20重量％的聚乙酸乙烯酯，
-20-60重量％的四甲氧基硅烷，
溶剂由水/乙醇混合物组成。
7.根据权利要求1的方法，其中在步骤d)结束时得到的溶胶还包含选自胶态二氧化硅颗粒和导电颗粒的添加剂。
8.根据权利要求7的方法，其中所述导电颗粒选自氧化铟锡(ITO)颗粒、氧化锡颗粒和金属颗粒。
9.根据权利要求8的方法，其中所述金属颗粒是金或银颗粒。
10.根据权利要求1的方法，其中干燥步骤h)用超临界CO2进行。
11.根据权利要求1的方法，其还包括在超临界干燥步骤h)以后的步骤i)：在取出光学元件以前用无水气体清洗进行干燥的高压釜。
12.根据权利要求1的方法，其还包括步骤j)：将步骤h)或任选步骤i)结束时得到的光学元件放入其中气氛湿度被控制的室中。
13.能通过根据权利要求1-12中任一项的方法得到的光学元件。
14.浸渍根据权利要求13的光学元件的方法，其包括如下步骤：
将光学元件的所述至少一个池中所含的气溶胶用液体浸渍；然后
采用用于隔离和保护所述池的内容物以防外部气氛的措施密封经浸渍的池。
15.能通过根据权利要求14的方法得到的经浸渍的透明光学元件。
包含无裂缝气溶胶的光学元件
[0001] 本发明技术领域
[0002] 本发明涉及制造光学元件的方法，所述光学元件在其表面上包含填充有无裂缝气溶胶的池（cell）。
[0004] 有利地，该物质可以为液体或几种液体的混合物，其折射率具有固定值。如果池填充有具有不同折射率的液体，则可产生具有空间上变化的折射率的光学元件。光学元件折射率的这一空间变化的幅度则取决于填充所述池的液体之间的折射率最大差值。为具有折射率具有大变化的光学元件，因此需要具有折射率差别大的液体。然而，目前常规可用的液体可得到的折射率的差至多等于0.2至0.3。
[0005] 预期实现更大的折射率差值的一种方案为使某些池为空的。这样液体与空气的折射率之间的所得差值更大，为约0.6-0.7。
[0006] 然而，试验表明，空池，即仅填充有空气的池的存在，导致池密封步骤期间的技术问题。
[0007] 申请人提出用气溶胶填充所述池。气溶胶为超多孔材料，其孔隙率通常达到其体积的至少75%。这种大孔隙率赋予这些固体有利的性能，特别是接近空气(n<1.35)的非常低的折射率，它们也非常轻。有利地，二氧化硅气溶胶可以为透明的。事实上，已知气溶胶的透明度与凝胶的合成条件直接相关，且本领域技术人员已知如何进行合适的工艺以得到透明气溶胶。气溶胶然后可通过具有预定折射率的各种液体选择性浸渍，或者可保持它们为空的，即用空气填充，以产生大的折射率差值。现有技术
[0009] 超临界干燥是众所周知的干燥，通过使溶剂从液相转到超临界相，然后转到气相而将溶剂蒸发。流体的超临界相位于该流体的临界温度以上和临界压力以上。超临界相中流体的物理性能，特别是它的密度和它的粘度介于液体的物理性能与气体的物理性能之间。
[0010] 凝胶孔中所含溶剂可具有比凝胶的容器能承受的高得多的临界点(临界温度(Tc)和临界压力(Pc)配对)。在这些情况下，常规地，将凝胶孔中所含溶剂用另一更合适的溶剂，特别是CO2，有时乙醇和水替代。这些溶剂具有如下临界点：
[0011] -水：Tc=373℃，Pc=221巴
[0012] -乙醇：Tc=241℃，Pc=61巴
[0013] -CO2：Tc=31℃，Pc=74巴。
[0014] 该超临界干燥技术使得得到具有极轻结构的固体成为可能，而几乎没有固体的收缩。现有技术中所述的方法使得得到具有大于95%，有时可达到99%或更大的非常高的孔隙率的气溶胶成为可能。
[0015] 然而，由于它们非常高的孔隙率，认为气溶胶为脆性材料。气溶胶的常规制造及其应用可伴随破裂。裂纹例如可呈现在气溶胶表面上可见的龟裂的形式。
[0016] 裂纹可在气溶胶制造期间，更特别是在凝胶的超临界干燥期间出现在气溶胶中。
[0017] 在用液体浸渍气溶胶期间可出现新裂纹或者先前存在的裂纹可扩大。事实上，液体渗入气溶胶中可产生足够的毛细张力以诱发气溶胶的破裂。
[0018] 然而，对于光学领域中的应用，需要避免气溶胶的破裂以保证材料可能最好的透明度。
[0019] 例如描述于专利US5948482中的另一技术使得不使用超临界干燥而制造膜形式的气溶胶型材料成为可能。该技术在于由烷氧基硅烷溶胶制备凝胶，然后使该凝胶与衍生化试剂，优选硅烷在己烷中反应，以及通过浸渍(浸涂)或离心(旋涂)以膜的形式沉积所得流体。
[0020] 然而，根据该技术得到的材料具有大约60%的孔隙率，以及因此对所需应用而言太高的折射率。可通过在450℃下进行热处理而将孔隙率提高至90%的水平。然而，这种热处理会损害其上需要产生气溶胶的光学元件，如果该光学元件含有有机聚合物的话特别如此。
[0021] 因此，本发明的目的是开发一种制造在其表面上包含填充有气溶胶的池的光学元件的方法，所述气溶胶在其制造期间，或在随后用液体浸渍气溶胶的步骤期间不会破裂。
[0022] 发明概述
[0023] 因此，本发明的一个主题是制造透明光学元件的方法，所述方法包括如下相继步骤：
[0024] a)提供在其表面上具有至少一个开放池的光学元件；
[0026] c)制备包含如下组分的溶液：
[0027] -有机-含水溶剂，优选水和水溶性醇的混合物，更优选水/乙醇混合物；
[0028] -至少一种可溶于所述溶剂中的有机聚合物，其重均分子量为大于10000g/mol，优选30000-1000000g/mol；
[0029] -至少一种选自(C1-C3烷基)三(C1-C3烷氧基)硅烷和四(C1-C3烷氧基)硅烷及其混合物的烷氧基硅烷；
[0030] d)将酸或碱水解催化剂加入溶液中以得到溶胶；
[0031] e)在达到溶胶的胶凝点以前将溶胶沉积到预处理过的池中并使用膜密封经填充的池；
[0032] f)使光学元件保持在醇气氛中15分钟至5小时以得到凝胶的熟化；
[0033] g)在醇介质中除去密封所述池的膜；
[0034] h)在高压釜中对所述池中所含的凝胶进行超临界干燥以得到气溶胶。
[0035] 本发明的另一主题是能通过该方法得到的光学元件。
[0036] 还可使该光学元件经受也是本发明一个主题的方法，所述方法包括如下步骤：将光学元件的所述至少一个池中所含的气溶胶用液体浸渍，然后用用于隔离和保护池的内容物以防外部气氛的措施密封经浸渍的池。
[0037] 含有能通过该方法得到的经浸渍的气溶胶的透明光学元件也是本发明的一个主题。
[0038] 发明详述
[0040] 本发明方法的步骤a)在于提供在其表面上包含至少一个开放池的光学元件。这类光学元件已描述在现有技术中，特别是专利申请FR2872589、EP1904884、EP1904885、EP1904887、EP1904888中。本领域技术人员会在这些文件中找到制造或得到这类光学元件的足够信息。它们可以为光学透镜，特别是硬或软的，非矫正或校正眼用透镜。
[0041] 该光学元件在该元件表面上具有至少一个开放池，优选数个开放池。优选，池彼此并置，并通过相互平行的池间壁隔开。优选，所述池的开口最大尺寸为10-10000μm(微米)，特别是50-500μm。
[0042] 各池的底部可以为平的、凹或凸的。优选，池高度的最大值为1-100μm(微米)，优选5-50μm。
[0043] 光学元件还可包含透明支撑体。取决于光学元件的未来用途，该支撑体可以为挠性或刚性的。优选，支撑体选自无机玻璃、有机玻璃和聚合物膜。优选，池在由PET制成、由玻璃制成或由附着于支撑体上的硅制成的基底上形成。
[0044] 在步骤b)中使池表面经受表面处理以提高它的润湿性。因此，改进气溶胶在池壁上的附着。
[0045] 在本发明中，优选使用冷等离子体以便不会由于暴露于高温下而损害光学元件的材料。
[0046] 等离子体表面处理是本领域技术人员熟知的技术。它们特别可进行薄膜沉积、在表面的化学接枝、以及表面清洁和蚀刻。
[0047] 在本发明中，表面处理的目的是提高池表面的润湿性。这具有的效果是促进通过溶胶浸渍所述池，则随后能使得凝胶或气溶胶在池上更好的附着。
[0048] 优选，在本发明方法中，可使用清洁(或脱脂)等离子体和/或在表面上接枝OH基团的等离子体。优选，步骤b)中进行的表面处理用低压氧等离子体进行。还预期使用电晕处理，其为大气压力等离子体型处理，或者UV/臭氧表面处理。
[0049] 本发明方法的步骤c)在于制备包含如下组分的溶液：
[0050] -有机-含水溶剂；
[0051] -至少一种可溶于所述溶剂中的有机聚合物，其重均分子量为大于10000g/mol，优选30000-1000000g/mol；
[0052] -至少一种选自(C1-C3烷基)三(C1-C3烷氧基)硅烷和四(C1-C3烷氧基)硅烷及其混合物的烷氧基硅烷。
[0053] 优选，有机-含水溶剂为水和水溶性醇的混合物，所述醇特别是低级醇如甲醇、乙醇、丙醇和丁醇。更优选，有机-含水溶剂为水/乙醇混合物。
[0054] 存在于步骤c)中制备的溶液中的有机聚合物可溶于有机-含水溶剂中。其重均分子量大于10000g/mol，通过尺寸排阻色谱法(SEC)测定。
[0055] 有机聚合物优选选自聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇、聚(乙酸乙烯酯-co-乙烯醇)共聚物；聚氧乙烯；聚氧丙烯及其混合物。更优选聚合物为聚乙酸乙烯酯。
[0056] 烷氧基硅烷优选为四甲氧基硅烷(TMOS)。
[0057] 优选，搅拌溶液足够时间使得各化合物溶解，例如约10分钟。
[0058] 将酸或碱水解催化剂加入在步骤c)结束时所得的溶液中以得到溶胶。该催化剂可以为强碱或强酸。优选，在本发明方法中，使用强碱，优选无机碱，例如氢氧化铵。事实上，使用强碱，而不是强酸，能够得到更透明的气溶胶。在该催化剂的存在下，烷氧基硅烷经受水解，其后是形成的Si-OH基团的缩合反应。
[0059] 非常优选，在步骤d)结束时得到的溶胶包含：
[0060] -0.5-20重量%，优选2-15重量%，更优选4-13重量%，仍更优选6-12重量%的聚乙酸乙烯酯，
[0061] -20-60重量%，优选25-50重量%，仍更优选30-45重量%的四甲氧基硅烷，[0062] 溶剂由水/乙醇混合物组成。
[0063] 根据本发明的一个实施方案，在步骤d)结束时得到的溶胶还包含选自二氧化硅颗粒，优选胶态二氧化硅颗粒和导电颗粒的添加剂，所述导电颗粒优选选自氧化铟锡(ITO)颗粒、氧化锡颗粒和金属颗粒，特别是金或银颗粒。
[0064] 在水解催化剂的加入期间，优选将溶液保持在强力搅拌下。溶胶-凝胶转变在一定时间后发生，这取决于很多参数，其中可提到烷氧基硅烷和聚合物的性质和浓度、催化剂的性质和浓度、溶胶的温度和所施加的搅拌。发生该转变的时刻称为胶凝点。溶胶-凝胶转变由流体粘度的突然提高表明。
[0065] 本发明方法的步骤e)在于在达到溶胶的胶凝点以前将溶胶沉积于池中和使用膜密封经填充的池。该步骤e)必须从不在溶胶的胶凝点以后进行，因为后一情况中会太粘而不能适当地沉积于池中。
[0066] 溶胶可根据本领域技术人员已知的任何合适技术沉积于池中。一个优选的技术在于将一定量的溶胶沉积于试样上，然后将膜层压在池表面上。该技术例如描述于专利申请WO2007/1132116中。优选将池完全用溶胶填充。另外，如果光学元件包含数个池，则它们优选全部用相同量的溶胶填充。
[0067] 用膜将池密封能够将胶凝的溶胶包封在池中。用于将池密封的膜优选为挠性的，如果它通过层压沉积的话特别如此。它对醇而言不可透且不溶于溶胶的溶剂中。它优选为聚合物膜，例如由PET制成的膜。
[0068] 一般而言，溶胶与膜之间的表面张力足以保持膜在池表面上并确保池的密封。可使用其它措施，例如使用粘合剂或应用恒压。然而，由于膜随后需要除去，因此排除永久性附着膜。观察到池的非永久性密封的措施一般不能确保总的气体不可透性。
[0069] 在本发明方法的步骤f)期间，使包含包封在池中的溶胶的光学元件保持在醇气氛中15分钟至5小时以得到凝胶的熟化。表述“醇气氛”表示醇蒸气饱和的气氛。由于池密封的可能的不可透性缺陷，熟化期间可能发生溶剂的蒸发。醇气氛的有用性在于避免该蒸发。事实上，在熟化期间溶胶的溶剂的蒸气压力与醇气氛之间获得热力学平衡。如果池的密封是完全不可透的（这不是通常情况），则该熟化步骤f)可以以与本发明相同的方式，不用醇气氛进行。
[0070] 在熟化步骤f)结束时，得到填充有凝胶的池。将密封池的膜在本发明方法的步骤g)期间在醇介质中除去。该醇介质为液体。优选如果干燥步骤h)用超临界CO2进行，则醇介质为无水的，因为水和液体CO2是不溶混的。其优选为无水乙醇浴，包含池的光学元件浸入其中。由于凝胶为固体，它不溶于醇中。除去膜并将光学元件从浴中取出以便引入高压釜中。
[0071] 本发明方法的步骤h)在于在高压釜中对所述池中所含的凝胶进行超临界干燥以得到气溶胶。优选，干燥步骤h)用超临界CO2进行，因为CO2的临界温度和临界压力值低，因此避免过度的温度对光学元件的可能损害。
[0072] 干燥步骤h)优选分解成如下各个相继子步骤：
[0073] -将包含凝胶填充的池的光学元件引入高压釜中；
[0074] -将液体CO2引入高压釜中并用液体CO2置换凝胶的溶剂；
[0075] -提高温度和压力以达到，然后超过CO2的超临界条件(Tc=31℃，Pc=74巴)，优选至34-40℃的温度和80-150巴的压力；
[0076] -使压力降至大气压力；
[0077] -使温度降至环境温度。
[0078] CO2优选以液体形式引入高压釜中。为做到这一点以及取决于可用的设备，可有利的是在将光学元件引入高压釜中以前首先将高压釜冷却至3-8℃的温度。然后在液体CO2的引入期间将压力提高至约60巴。
[0079] 在超临界干燥步骤h)结束时，得到气溶胶。该气溶胶不包含或包含非常少的裂纹并适当地粘附于光学元件的池。
[0080] 然而，气溶胶保持为脆性材料。它的密度越低，它就越脆性。为防止任何破裂风险，本发明方法还优选包括在超临界干燥步骤h)以后的补充步骤i)：在取出光学元件以前用无水气体清洗进行干燥的高压釜。无水气体通常可以为纯氩气或氮气。该清洗的目的是除去仍可能存在于气溶胶的孔中的最后残留痕量溶剂，特别是醇的蒸气和CO2。清洗优选缓慢地进行以防止气溶胶破裂。
[0081] 另外，可以以步骤j)结束本发明方法，所述步骤j)在于将在步骤h)或任选步骤i)结束时得到的光学元件放入其中气氛的湿度被控制的室中。它可以例如为真空干燥器。
[0082] 能通过上述方法得到的光学元件也是本发明的一个主题。该光学元件在其表面上包含至少一个填充有二氧化硅基气溶胶的开放池，所述气溶胶包含至少一种重均分子量为大于10000g/mol的有机聚合物，优选聚乙酸乙烯酯。该气溶胶可描述为混杂气溶胶，因为它包含无机化合物和有机化合物。
[0083] 本发明气溶胶优选具有大于75%，更优选大于80%，仍更优选82-95%的孔隙率。气溶胶的孔隙率常规地可通过气体吸附和解吸或通过水银孔隙率计测量。该气溶胶的折射率可为1.05-1.35，优选1.1-1.25。
[0084] 气溶胶在其表面上不具有或具有非常少的肉眼或使用光学显微镜可见的裂纹。
[0085] 因此所得的光学元件可由本领域技术人员以各种方式使用。发现当将气溶胶用液体浸渍时是特别有利的用途。本发明的另一主题是浸渍能根据上述方法得到的光学元件的方法，所述方法包括步骤：将光学元件的所述至少一个池中所含的气溶胶用液体浸渍，然后采用用于隔离和保护池的内容物以防外部气氛的措施密封经浸渍的池。
[0086] 液体优选为具有低表面张力和/或低饱和蒸气压的液体。它可选自离子液体和油，例如硅油。在其中光学元件包含数个气溶胶填充的池的优选情况下，预期将气溶胶用各种液体，特别是用不具有相同折射率的液体浸渍，或者不浸渍所有气溶胶。这样可得到其表面具有大的折射率空间变化的光学元件。
[0087] 当气溶胶已被浸渍时，可将池通过本领域技术人员可得到的任何措施密封以隔离和保护池的内容物以防外部气氛。池的密封可以为临时性的，但有利地为永久性的。一种优选的措施在于将粘合剂涂覆的聚合物膜沉积于光学元件的表面上。另一预期措施在于在光学元件的表面上聚合膜。沉积聚合物膜的方法例如描述于专利申请EP1672394中。
[0088] 根据本发明方法制造的气溶胶的优点是在用液体浸渍期间不破裂。能通过上述方法得到的经浸渍的透明光学元件在其表面上不具有或具有非常少的肉眼或使用光学显微镜可见的裂纹。
[0089] 借助如下非限制性且纯说明性的实施例，与附图结合更好地理解本发明，其中图1-6为在将池用气溶胶填充以前，然后在根据各种方法将池用气溶胶填充以后，通过光学显微术获得的多个光学元件的照片。
实施例
实施例
[0090] 使用粘合在载玻片上的包含由玻璃制成或由PET制成的基底的光学元件举例说明本发明方法。将基底的表面用并置的六角形池网络覆盖，其开口为约200μm。池通过相互并行并垂直于基底的可光致固化树脂壁彼此隔开，高度为20μm。
[0091] 图1为通过光学显微术获得的所用光学元件的照片，其中可以看出六角形池。
[0092] 1)对比例
[0093] 将乙醇(50体积%)和四甲氧基硅烷(TMOS，33体积%)引入试样管中，同时搅拌。-2
在混合10分钟后，将氢氧化铵(5×10 摩尔/升，17体积%)加入混合物中，同时强力搅拌。
由此形成的溶胶的胶凝时间为约15分钟。
在混合10分钟后，将氢氧化铵(5×10 摩尔/升，17体积%)加入混合物中，同时强力搅拌。
由此形成的溶胶的胶凝时间为约15分钟。
[0094] 将一滴溶胶沉积于光学元件上，沉积在池侧。将一片PET膜置于顶部，并使用辊将PET膜片层压在光学元件上以将池包封。在将氢氧化铵加入TMOS溶液后的小于15分钟进行层压。
[0095] 将包含包封在池中的凝胶的光学元件引入高压釜中。将高压釜冷却至5-10℃的温度。然后将液体CO2引入高压釜的室中并将压力逐步提高以达到60巴。接着，将高压釜的温度提高至环境温度的值。当CO2置换陷入凝胶孔中的溶剂时，提高压力和温度以达到31.5℃和75巴。最后，使高压釜恢复大气压力，然后恢复环境温度。
[0096] 然后将光学元件从高压釜中取出，并仔细地除去PET膜。
[0097] 图2为通过光学显微术获得的通过以上对比例中所述方法得到的包含填充有气溶胶的池的光学元件的照片。
[0098] 观察到所有池的气溶胶都包含裂纹。另外，在该图中可以看出气溶胶与池壁脱离。
[0099] 2)根据本发明的实施例
[0100] 使包含并置的六角形池的光学元件经受射频氧等离子体表面处理90秒(氧流速=200ml/min，压力=15mmHg(即约2kPa)，环境温度)。
[0101] 使用重均分子量Mw≈167000g/mol(来自供应商的数据)的聚乙酸乙烯酯(PVAc)。将PVAc溶于96%乙醇中。聚合物在溶剂中的完全溶解需要使用超声波与强力机械搅拌交替混合1-4小时。所得溶液包含1重量%PVAc。
[0102] 将PVAc的该水醇溶液(50体积%)和四甲氧基硅烷(TMOS，33体积%)引入试样管-2中，同时搅拌。在混合10分钟后，将氢氧化铵(5×10 摩尔/升，17体积%)加入混合物中，同时强力搅拌。由此形成的溶胶的胶凝时间为约9分钟。
[0103] 将一滴溶胶沉积于光学元件上，沉积在池侧。将一片PET膜置于顶部，并使用辊将PET膜片层压在光学元件上以将池包封。在将氢氧化铵加入TMOS和PVAc的溶液后小于9分钟进行层压。
[0104] 将包含包封在池中的溶胶的光学元件引入一个室中，该室中的气氛被醇蒸气饱合。将凝胶保持在该气氛下2小时。
[0105] 将高压釜冷却至5-10℃的温度。
[0106] 在此期间，将光学元件浸入液体无水乙醇浴中并除去PET膜。
[0107] 将包含包封在池中的凝胶的光学元件放入冷却的高压釜中。然后将液体CO2引入高压釜的室中并将压力逐步提高以达到60巴。接着，将高压釜的温度恢复至环境温度的值。当CO2置换陷入凝胶孔中的溶剂时，提高压力和温度以达到31.5℃和75巴。最后，使高压釜恢复大气压力，然后恢复环境温度。
[0108] 在打开以前，将高压釜用氩气缓慢清洗。然后将光学元件从高压釜中取出并放入处于真空下的干燥器中。
[0109] 图3为通过光学显微术获得的通过上述本发明方法得到的包含填充有气溶胶的池的光学元件的照片。
[0110] 观察到气溶胶与池壁的脱离几乎消失。类似地，存在更少的可见裂纹。
[0111] 根据同样的程序制造三种含有更高PVAc浓度的新光学元件：将在以上实施例中为1重量%的起始水醇溶液中的PVAc浓度设置为5%，然后10%，最后20重量%。
[0112] 在加入水解催化剂以后产生的溶胶的组成如下：
[0113]
[0114] 所得光学元件显示于图4、5和6中，其为通过光学显微术获得的照片。
[0115] 观察到气溶胶不再具有可见裂纹并附着于池壁上。
[0117] 根据该方法，根据上述方法不用PVAc得到的气溶胶的杨氏模量为50MPa。发明人观察到PVAc的引入具有提高杨氏模量值的效果。由溶胶中2.1重量%的PVAc开始，气溶胶的杨氏模量达到80MPa的值。因此，PVAc的引入能够改进气溶胶的抗裂性。
[0118] 3)浸渍试验：
[0119] 使包含如上所述得到且PVAc在起始96%乙醇溶液中的浓度为20重量%的气溶胶的光学元件进行浸渍试验，用可由Intas Pharmaceutical Ltd得到的硅油 进行。由聚二甲基硅氧烷组成。
[0120] 观察到该液体的渗透不产生任何可见裂纹。因此，气溶胶为充分固体而能承受由液体在其孔中的渗透而导致的毛细力。
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