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植物生长营养液循环散热装置

阅读:1025发布:2020-05-20

专利汇可以提供植物生长营养液循环散热装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型公开了 植物 生长 营养液 循环 散热 装置,包括栽培架和散热箱,所述栽培架的内部设置有营养液存储槽,且营养液存储槽的一侧通过导流支管连接有导流主管,所述导流主管的一端位于散热箱的顶部安装有 水 泵 。本实用新型中,在栽培架的一侧设置了散热箱,并且在散热箱的内部安装了螺旋管和散热扇,在对营养液散热作业的过程中,当营养液存储槽内部的 温度 升高时,温度 传感器 就会对其温度进行感应,并将感应的 信号 传递给PLC 控制器 ,并通过PLC控制器启动水泵将营养液存储槽内部的营养液,经导流主管进入散热箱的螺旋管内,并通过螺旋管与散热扇的相互配合,可以延长营养液到导流路径,增大营养液的散热面积,大大提高了营养液散热的工作效率。(ESM)同样的 发明 创造已同日 申请 发明 专利,下面是植物生长营养液循环散热装置专利的具体信息内容。




1.植物生长营养液循环散热装置,包括栽培架(1)和散热箱(9),其特征在于,所述栽培架(1)的内部设置有营养液存储槽(4),且营养液存储槽(4)的一侧通过导流支管(6)连接有导流主管(7),所述导流主管(7)的一端位于散热箱(9)的顶部安装有(8),且水泵(8)的另一端连接有螺旋管(13),所述散热箱(9)的内部安装有散热扇(15),所述营养液存储槽(4)的一侧安装有温度传感器(5),所述散热箱(9)的一侧设置有过滤箱(10)。






2.根据权利要求1所述的植物生长营养液循环散热装置,其特征在于,所述过滤箱(10)的内部设置有过滤网(16),且过滤网(16)的一侧位于过滤箱(10)的内部设置有活性炭吸附层(17),并且活性炭吸附层(17)的一侧设置有生物滤膜层(18)。






3.根据权利要求1所述的植物生长营养液循环散热装置,其特征在于,所述过滤箱(10)的一侧螺纹连接有回流主管(11),且回流主管(11)的表面安装有循环泵(12),所述回流主管(11)的一端贯通连接有回流支管(2)。






4.根据权利要求1所述的植物生长营养液循环散热装置,其特征在于,所述栽培架(1)共设有多个,且多个栽培架(1)之间连接有支撑柱(3),并且支撑柱(3)共设有多个。






5.根据权利要求1所述的植物生长营养液循环散热装置,其特征在于,所述散热扇(15)共设有多个,且多个散热扇(15)关于散热箱(9)的中轴线对称。






6.根据权利要求1所述的植物生长营养液循环散热装置,其特征在于,所述散热箱(9)的内部安装有PLC控制器(14),且PLC控制器(14)的输出端与水泵(8)、循环泵(12)、散热扇(15)的输入端电性连接。


说明书全文

植物生长营养液循环散热装置

技术领域



本实用新型涉及营养液散热技术领域,尤其涉及植物生长营养液循环散热装置。


背景技术



营养液无土栽培的过程中,植物根际温度对其分代谢、矿物质吸收、植物激素代谢、生长发育、光合作用等具有显着影响,根系对高温逆境的胁迫表现最为敏感,尤其是吸收根,当营养液在受光照等因素温度升高时,就会对其植物根系造成影响甚至死亡,并且在营养液使用的过程中内部会沉积有大量根系脱落物质,长时间就会造成营养液的变质和生物的滋生,对植物根系造成侵蚀。


实用新型内容


本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的植物生长营养液循环散热装置。


为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:植物生长营养液循环散热装置,包括栽培架和散热箱,所述栽培架的内部设置有营养液存储槽,且营养液存储槽的一侧通过导流支管连接有导流主管,所述导流主管的一端位于散热箱的顶部安装有水,且水泵的另一端连接有螺旋管,所述散热箱的内部安装有散热扇,所述营养液存储槽的一侧安装有温度传感器,所述散热箱的一侧设置有过滤箱。


优选的,所述过滤箱的内部设置有过滤网,且过滤网的一侧位于过滤箱的内部设置有活性炭吸附层,并且活性炭吸附层的一侧设置有生物滤膜层。


优选的,所述过滤箱的一侧螺纹连接有回流主管,且回流主管的表面安装有循环泵,所述回流主管的一端贯通连接有回流支管。


优选的,所述栽培架共设有多个,且多个栽培架之间连接有支撑柱,并且支撑柱共设有多个。


优选的,所述散热扇共设有多个,且多个散热扇关于散热箱的中轴线对称。


优选的,所述散热箱的内部安装有PLC控制器,且PLC控制器的输出端与水泵、循环泵、散热扇的输入端电性连接。


综上所述,由于采用了上述技术方案,本实用新型的有益效果是:


1、本实用新型中,在栽培架的一侧设置了散热箱,并且在散热箱的内部安装了螺旋管和散热扇,在对营养液散热作业的过程中,当营养液存储槽内部的温度升高时,温度传感器就会对其温度进行感应,并将感应的信号传递给PLC控制器,并通过PLC控制器启动水泵将营养液存储槽内部的营养液,经导流主管进入散热箱的螺旋管内,并通过螺旋管与散热扇的相互配合,可以延长营养液到导流路径,增大营养液的散热面积,大大提高了营养液散热的工作效率,避免了营养液在种植的过程中,因温度过高对植物根系造成伤害。


2、本实用新型中,在过滤箱的内部设置了过滤网、活性炭吸附层和生物滤膜层,在散热冷却后的营养液在循环泵在吸附带动下,经过滤网对营养液中的沉淀物进行过滤,并通过活性炭吸附层和生物滤膜层可以有效对营养液中的悬浮物和异味进行吸附净化,大大提高了营养液的洁净度,避免微生物的滋生造成植物根系的腐烂。


附图说明


图1为本实用新型提出的植物生长营养液循环散热装置的结构示意图;


图2为本实用新型提出的植物生长营养液循环散热装置散热箱内部结构示意图;


图3为本实用新型提出的植物生长营养液循环散热装置过滤箱内部结构示意图。


图例说明:


1、栽培架;2、回流支管;3、支撑柱;4、营养液存储槽;5、温度传感器;6、导流支管;7、导流主管;8、水泵;9、散热箱;10、过滤箱;11、回流主管;12、循环泵;13、螺旋管;14、PLC控制器;15、散热扇;16、过滤网;17、活性炭吸附层;18、生物滤膜层。


具体实施方式



下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。


在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制;术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性;此外,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。


实施例一,由图1-3给出,本实用新型包括栽培架1和散热箱9,栽培架1的内部设置有营养液存储槽4,且营养液存储槽4的一侧通过导流支管6连接有导流主管7,导流主管7的一端位于散热箱9的顶部安装有水泵8,且水泵8的另一端连接有螺旋管13,散热箱9的内部安装有散热扇15,营养液存储槽4的一侧安装有温度传感器5,散热箱9的一侧设置有过滤箱10,导流支管6共设有三个。


实施例二,在实施例一的基础上,过滤箱10的内部设置有过滤网16,且过滤网16的一侧位于过滤箱10的内部设置有活性炭吸附层17,并且活性炭吸附层17的一侧设置有生物滤膜层18。


实施例三,在实施例一的基础上,过滤箱10的一侧螺纹连接有回流主管11,且回流主管11的表面安装有循环泵12,回流主管11的一端贯通连接有回流支管2,且回流支管2共设有三个。


实施例四,在实施例一的基础上,栽培架1共设有多个,且多个栽培架1之间连接有支撑柱3,并且支撑柱3共设有多个。


实施例五,在实施例一的基础上,散热扇15共设有多个,且多个散热扇15关于散热箱9的中轴线对称。


实施例六,在实施例一的基础上,散热箱9的内部安装有PLC控制器14,且PLC控制器14的输出端与水泵8、循环泵12、散热扇15的输入端电性连接。


工作原理:在对营养液散热作业的过程中,当营养液存储槽4内部的温度升高时,温度传感器5就会对其温度进行感应,并将感应的信号传递给PLC控制器14,并通过PLC控制器14启动水泵8将营养液存储槽4内部的营养液,经导流主管7进入散热箱9的螺旋管13内,并通过螺旋管13与散热扇15的相互配合,可以延长营养液到导流路径,增大营养液的散热面积,大大提高了营养液散热的工作效率,避免了营养液在种植的过程中,因温度过高对植物根系造成伤害,并且在散热冷却后的营养液在循环泵12在吸附带动下,经过滤网16对营养液中的沉淀物进行过滤,并通过活性炭吸附层17和生物滤膜层18可以有效对营养液中的悬浮物和异味进行吸附净化,大大提高了营养液的洁净度,避免微生物的滋生造成植物根系的腐烂,最后散热过滤后的营养液在循环泵12的带动下经回流主管11进入回流支管2的内部,再由回流支管2进入营养液存储槽4内实现循环利用。


以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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