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一种蚀刻机

阅读:2发布:2022-03-12

专利汇可以提供一种蚀刻机专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种蚀刻机,该种蚀刻机包括 箱体 、腔体、产品放置容器、 真空 抽取 装置、氮气输送装置、二氟化氙输送装置和显示器,所述箱体前侧连接设置有腔体,腔体内放置有产品放置容器,产品放置容器底部连接有真空抽取装置,产品放置容器还连接有氮气输送装置和二氟化氙输送装置,箱体前端设有显示器,箱体内还设置有控制箱,显示器与控制箱电气连接。通过上述方式,本实用新型结构简单,能够对产品进行蚀刻处理,能够清除残留气体,保证管道内清洁,保证元器件不会受XeF2气体 腐蚀 ;确保蚀刻的真空环境;能够均匀蚀刻产品。,下面是一种蚀刻机专利的具体信息内容。

1.一种蚀刻机,其特征在于:该种蚀刻机包括箱体、腔体、产品放置容器、真空抽取装置、氮气输送装置、二氟化氙输送装置和显示器,所述箱体前侧连接设置有腔体,腔体内放置有产品放置容器,产品放置容器底部连接有真空抽取装置,产品放置容器还连接有氮气输送装置和二氟化氙输送装置,箱体前端设有显示器,箱体内还设置有控制箱,显示器与控制箱电气连接。
2.根据权利要求1所述的一种蚀刻机,其特征在于:所述腔体前侧设有开关,腔体采用304不锈
3.根据权利要求1所述的一种蚀刻机,其特征在于:所述产品放置容器由产品腔体和腔体上盖,所述产品腔体为柱形状,产品腔体内设有产品内置空间,产品腔体底部设有通气开口,产品腔体上装有与之配合使用的腔体上盖。
4.根据权利要求1所述的一种蚀刻机,其特征在于:所述真空抽取装置由连接管道、真空管道、真空和漏气,通气开口连接有连接管道,连接管道下端连接有平设置的真空管道,真空管道伸出端连接有真空泵,真空管道的另一端连接有漏气阀。
5.根据权利要求1所述的一种蚀刻机,其特征在于:所述氮气输送装置包括氮气管道、压调节阀、第一电磁阀、第二电磁阀和氮气进气管道,氮气管道外接氮气装置,氮气管道连接到压力调节阀,压力调节阀通过管道依次连接有第一电磁阀和第二电磁阀,第一电磁阀和第二电磁阀之间的管道通过氮气进气管道与真空管道接通。
6.根据权利要求1所述的一种蚀刻机,其特征在于:所述二氟化氙输送装置包括二氟化氙罐、二氟化氙管道、电磁阀和二氟化氙进气管道,所述二氟化氙罐设置于箱体内,二氟化氙罐通过二氟化氙管道连接到电磁阀,二氟化氙管道竖直设置,电磁阀通过二氟化氙进气管道连接到第一电磁阀和第二电磁阀之间的管道上,氮气进气管道位于二氟化氙进气管道上游。

说明书全文

一种蚀刻机

技术领域

[0001] 本实用新型涉及蚀刻技术领域,特别是涉及一种蚀刻机。

背景技术

[0002] “蚀刻”是将材料使用化学反映或物理撞击作用而移除的技术,XeF2即二氟化氙在压值为4Torr时由粉末状固体变成气体,XeF2气体能够对产品表面进行蚀刻,XeF2气体有一定的腐蚀性,蚀刻完成后,会对设备元件造成一定的腐蚀,长此以往损坏设备,目前人们使用的蚀刻机主要存在结构复杂,药不能及时排出,影响蚀刻速度,蚀刻不均匀等缺点,基于以上缺陷和不足,有必要对现有的技术予以改进,设计出一种蚀刻机。实用新型内容
[0003] 本实用新型主要解决的技术问题是提供一种蚀刻机,结构简单,能够对产品进行蚀刻处理,能够清除残留气体,保证管道内清洁,保证元器件不会受XeF2气体腐蚀;确保蚀刻的真空环境;能够均匀蚀刻产品。
[0004] 为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种蚀刻机,该种蚀刻机包括箱体、腔体、产品放置容器、真空抽取装置、氮气输送装置、二氟化氙输送装置和显示器,所述箱体前侧连接设置有腔体,腔体内放置有产品放置容器,产品放置容器底部连接有真空抽取装置,产品放置容器还连接有氮气输送装置和二氟化氙输送装置,箱体前端设有显示器,箱体内还设置有控制箱,显示器与控制箱电气连接。
[0005] 优选的是,所述腔体前侧设有开关,便于取放产品,腔体采用304不锈
[0006] 优选的是,所述产品放置容器由产品腔体和腔体上盖,所述产品腔体为柱形状,产品腔体内设有产品内置空间,产品腔体底部设有通气开口,产品腔体上装有与之配合使用的腔体上盖。
[0007] 优选的是,所述真空抽取装置由连接管道、真空管道、真空和漏气,通气开口连接有连接管道,连接管道下端连接有水平设置的真空管道,真空管道伸出端连接有真空泵,真空管道的另一端连接有漏气阀,蚀刻完成后,漏气阀打开,处于正常气压。
[0008] 优选的是,所述氮气输送装置包括氮气管道、压力调节阀、第一电磁阀、第二电磁阀和氮气进气管道,氮气管道外接氮气装置,氮气管道连接到压力调节阀,压力调节阀通过管道依次连接有第一电磁阀和第二电磁阀,第一电磁阀和第二电磁阀之间的管道通过氮气进气管道与真空管道接通。
[0009] 优选的是,所述二氟化氙输送装置包括二氟化氙罐、二氟化氙管道、电磁阀和二氟化氙进气管道,所述二氟化氙罐设置于箱体内,二氟化氙罐通过二氟化氙管道连接到电磁阀,二氟化氙管道竖直设置,电磁阀通过二氟化氙进气管道连接到第一电磁阀和第二电磁阀之间的管道上,氮气进气管道位于二氟化氙进气管道上游。
[0010] 与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
[0011] 结构简单,能够对产品进行蚀刻处理;
[0012] 氮气输送装置能够清除残留气体,保证管道内清洁,保证元器件不会受XeF2气体腐蚀;
[0013] 真空抽取装置能够及时抽出多余气体,确保蚀刻的真空环境;
[0014] 氮气输送装置和二氟化氙输送装置配合使用能够XeF2由粉末状变为气态,能够均匀蚀刻产品。附图说明
[0015] 图1为一种蚀刻机的结构示意图。
[0016] 图2为一种蚀刻机的内部结构示意图。
[0017] 图3为一种蚀刻机的产品放置容器结构示意图。

具体实施方式

[0018] 下面结合附图对本实用新型较佳实施例进行详细阐述,以使实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0019] 请参阅图1至图3,本实用新型实施例包括:
[0020] 一种蚀刻机,该种蚀刻机包括箱体1、腔体2、产品放置容器3、真空抽取装置4、氮气输送装置5、二氟化氙输送装置6和显示器7,所述箱体1前侧连接设置有腔体2,腔体2内放置有产品放置容器3,产品放置容器3底部连接有真空抽取装置4,产品放置容器3 还连接有氮气输送装置5和二氟化氙输送装置6,箱体1前端设有显示器7,箱体1内还设置有控制箱,显示器7与控制箱电气连接,电器元件均与控制箱电气连接。
[0021] 所述腔体2前侧设有开关门,便于取放产品,腔体2采用304不锈钢
[0022] 所述产品放置容器3由产品腔体31和腔体上盖32,所述产品腔体31为柱形状,产品腔体31内设有产品内置空间311,产品腔体31底部设有通气开口312,产品腔体31上装有与之配合使用的腔体上盖32。
[0023] 所述真空抽取装置4由连接管道41、真空管道42、真空泵43和漏气阀44,通气开口 312连接有连接管道41,连接管道41下端连接有水平设置的真空管道42,真空管道42伸出端连接有真空泵43,真空管道42的另一端连接有漏气阀44,蚀刻完成后,漏气阀44 打开,处于正常气压。
[0024] 所述氮气输送装置5包括氮气管道51、压力调节阀52、第一电磁阀53、第二电磁阀 54和氮气进气管道55,氮气管道51外接氮气装置,氮气管道51连接到压力调节阀52,压力调节阀52通过管道依次连接有第一电磁阀53和第二电磁阀54,第一电磁阀53和第二电磁阀54之间的管道通过氮气进气管道55与真空管道42接通。
[0025] 所述二氟化氙输送装置6包括二氟化氙罐61、二氟化氙管道62、电磁阀63和二氟化氙进气管道64,所述二氟化氙罐61设置于箱体1内,二氟化氙罐61通过二氟化氙管道 62连接到电磁阀63,二氟化氙管道62竖直设置,电磁阀63通过二氟化氙进气管道64连接到第一电磁阀53和第二电磁阀54之间的管道上,氮气进气管道55位于二氟化氙进气管道64上游。
[0026] 本实用新型一种蚀刻机工作时,将需要需蚀刻处理的产品放入产品腔体31内的产品内置空间311里,盖上腔体上盖32,氮气输送装置5工作将氮气通入产品腔体31内,保证管道内没有二氟化氙气体,保证产品放置容器3内干净清洁,冲氮气为了清除残留气体,保证元器件不会受腐蚀,然后真空抽取装置4工作对产品放置容器3进行抽真空处理,确保真空值为2.0*10-2torr,同时打开氮气输送装置5和二氟化氙输送装置6,二氟化氙为粉末状固体,在氮气的代入下进入产品放置容器3,当压力值为4Torr时,二氟化氙由粉末状固体变为气体,二氟化氙气体对产品表面进行蚀刻,蚀刻完成后,打开漏气阀44,产品放置容器3处于正常大气压,取出产品。
[0027] 本实用新型一种蚀刻机,结构简单,能够对产品进行蚀刻处理,能够清除残留气体,保证管道内清洁,保证元器件不会受XeF2气体腐蚀;确保蚀刻的真空环境;能够均匀蚀刻产品。
[0028] 以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
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