1.一种通过分解、解聚、剥离、净化、官能化、掺杂、修饰和/或修复粒子来处理所述粒子的方法，其中被处理的所述粒子是石墨粒子、富勒烯碳纳米粒子或包含石墨烯的碳纳米粒子，并且其中所述粒子在处理室经受等离子体处理，所述处理室包含多个在其中凸出的电极；其中等离子体通过所述电极产生，所述电极在所述等离子体处理期间被移动以搅动所述粒子，以及其中气体或气态混合物被引入到所述处理室中以维持所述等离子体，其中所述气体或气态混合物从每个电极被引入。
2.如权利要求1所述的方法，其中被处理的所述粒子为石墨粒子，并且所述石墨粒子被剥离以生产包含石墨烯的粒子。
3.如权利要求1所述的方法，其中被处理的所述粒子为石墨粒子，并且所述石墨粒子被剥离以生产石墨烯纳米片(GNPs)。
4.如权利要求1所述的方法，其中被处理的所述粒子为碳纳米管(CNTs)，或GNPs。
5.如前述任一项权利要求所述的方法，其中辉光放电等离子体通过所述电极产生。
6.如权利要求1所述的方法，其中在每个电极周围的局部化的区域中形成等离子体。
7.如权利要求1所述的方法，其中，
i)在所述处理室中的粒子经历依照前述任一项权利要求所述的第一方法，和ii)在步骤i)开始后且仍在所述处理室中，所述粒子或由步骤i)生产的粒子经历依照前述任一项权利要求的一个或多个另外的方法。
8.如权利要求7所述的方法，其中所述第一步骤为分解、解聚、剥离或净化。
9.如权利要求7或8所述的方法，其中所述另外的一个或多个方法包括修复、官能化、掺杂和修饰中的一个或多个。
10.如权利要求1所述的方法，其中所述电极以在所述等离子体处理过程期间变化的速度被移动，以控制由所述电极产生的所述等离子体和所述粒子之间的相互作用。
11.如权利要求1所述的方法，其中所述处理室包含多个铲状物，所述铲状物在所述等离子体处理期间被移动，以转移粒子离开所述等离子体。
12.如权利要求11所述的方法，其中所述铲状物形成至少一些所述电极的部分，或附接于至少一些所述电极。
13.如权利要求1所述的方法，其中所述处理室的至少一部分被转动，因此引起所述电极在所述等离子体处理期间移动。
14.如权利要求1所述的方法，其中在使用由所述电极产生的等离子体进行所述等离子体处理之后，所述等离子体处理的微粒产物经历使用微波诱导的等离子体的进一步处理。
15.如权利要求14所述的方法，其中为所述处理室提供微波工具以产生所述微波诱导的等离子体。
16.如权利要求1 所述的方法，其中在使用由所述电极产生的等离子体进行所述等离子体处理之后，所述等离子体处理的微粒产物被从所述处理室转移到第二室，在所述第二室中所述微粒产物经历精加工处理。
17.如权利要求16所述的方法，其中所述精加工处理为等离子体处理。
18.如权利要求16所述的方法，其中所述精加工处理为微波诱导的等离子体处理。
19.如权利要求16所述的方法，其中，所述第二室在所述精加工处理期间被移动，以搅动所述微粒产物。
20.如权利要求16所述的方法，其中，通过转动所述第二室，所述第二室在所述精加工处理期间被移动，以搅动所述微粒产物。
21.用于在如前述任一项权利要求所述的方法中处理粒子的装置，包括处理室，所述处理室包含在其中凸出的多个电极，每个电极用于产生等离子体，其中所述电极是可移动的，以搅动布置于所述处理室中的粒子以及其中气体或气体混合物被引入所述处理室以保持所述等离子体，其中所述气体或气体混合物从每个电极被引入。
22.如权利要求21所述的装置，其中所述处理室的至少一部分为可转动的，因此引起所述电极移动，从而搅动布置于所述处理室中的粒子。
23.如权利要求22所述的装置，进一步包括以可控的速度转动所述处理室的工具。
24.如权利要求22或权利要求23所述的装置，其中所述处理室为鼓。
25.如权利要求22所述的装置，其中所述处理室绕纵轴是可转动的，和所述电极绕所述纵轴放射状地布置。
26.如权利要求21所述的装置，其中三个或更多个电极伸入到所述处理室内。
27.如权利要求21所述的装置，其中三个和二十个之间的电极伸入到所述处理室内。
28.一种粒子，其通过权利要求1所述的方法获得。
29.一种复合材料，其包括分散在基体材料中的如权利要求28所述的粒子。
30.如权利要求29所述的复合材料，其中所述基体材料为聚合物。
31.一种粒子分散体，其包括分散在液体介质中的如权利要求28所述的粒子。
32.一种制品，其包括如权利要求28所述的粒子。