1.用于干燥基底表面或干洗制品的方法，其包括使所述基底或制品与组合物接触，该组合物包含反式1-氯-3,3,3-三氟丙烯(反式HFCO-1233zd)和至少一种选自醇的第二溶剂，并然后从所述基底或制品除去所述组合物的步骤，所述醇选自由甲醇、乙醇或异丙醇组成的组，其中反式HFCO-1233zd基于所述组合物中存在的溶剂的总重量以至少50wt%的量存在，和其中基于整个组合物所述醇存在量为1-50wt％。
2.用于干燥基底表面或干洗制品的方法，其包括使所述基底或制品与组合物接触，该组合物包含反式1-氯-3,3,3-三氟丙烯、表面活性剂和至少一种选自醇的第二溶剂，其中所述醇选自由甲醇、乙醇或异丙醇组成的组并且存在量为1-50wt％，并然后从所述基底或制品除去所述组合物的步骤，其中所述表面活性剂包括至少一种可溶于反式HFCO-1233zd的疏水的、含氟表面活性剂，其中所述含氟表面活性剂是具有阳离子部分和阴离子部分的离子表面活性剂，所述阳离子部分含有连接到环状或芳香部分的杂原子的全氟烷基链，其中反式HFCO-1233zd基于所述组合物中存在的溶剂的总重量以至少50wt%的量存在，和
其中表面活性剂的量不大于所述组合物总重量的5wt%。
3.如权利要求2所述的方法，其中所述组合物另外包含氢氟烯烃。
4.如权利要求3所述的方法，其中所述氢氟烯烃是HFO-1234ze。
5.如权利要求4所述的方法，其中所述氢氟烯烃是反式HFO-1234ze。
6.用于干燥基底表面或干洗制品的方法，其包括使所述基底或制品与组合物接触，该组合物包含反式1-氯-3,3,3-三氟丙烯(反式HFCO-1233zd)、1,3,3,3-四氟丙烯和至少一种选自醇的第二溶剂，其中所述醇选自由甲醇、乙醇或异丙醇组成的组，并然后从所述基底或制品除去所述组合物的步骤；
其中反式HFCO-1233zd基于所述组合物中存在的溶剂的总重量以至少50wt%的量存在，和其中基于整个组合物所述醇存在量为1-50wt％。
7.如权利要求1、2或6任一项所述的方法，其中所述至少一种第二溶剂是甲醇。
8.如权利要求1-6任一项所述的方法，其中基于整个组合物所述醇存在量为1-45wt％。
9.如权利要求1-6任一项所述的方法，其中基于整个组合物所述醇存在量为1-5wt％。
10.如权利要求2-6任一项所述的方法，其中表面活性剂的存在量为0.005wt%到
3.0wt%。
11.如权利要求2-6任一项所述的方法，其中表面活性剂的存在量为0.005wt%到
0.5wt%。
12.如权利要求2-6任一项所述的方法，其中表面活性剂的存在量为0.05wt%到0.3wt%。
13.如权利要求2-6任一项所述的方法，其中所述方法用于干燥基底表面并且表面活性剂的存在量为0.01wt%到0.2wt%。
14.如权利要求2-6任一项所述的方法，其中所述方法用于干洗制品并且表面活性剂的存在量为0.01wt%到0.5wt%。
15.如权利要求1-6任一项所述的方法，其中提供所述组合物来从金属、玻璃、陶瓷表面、二氧化硅或煅烧的氧化铝置换水。
16.如权利要求15所述的方法，其中提供所述组合物来从不锈钢、铝合金或黄铜置换水。
17.如权利要求15所述的方法，其中提供所述组合物来从硼硅玻璃置换水。
18.如权利要求15所述的方法，其中提供所述组合物来从未上釉的氧化铝置换水。
19.如权利要求15所述的方法，其中提供所述组合物来从硅片置换水。
20.如权利要求1-6任一项所述的方法，用于干洗或干燥非吸收性基底。
21.如权利要求1-6任一项所述的方法，用于干洗或干燥由金属、玻璃、陶瓷、二氧化硅或煅烧的氧化铝构建的制品。
22.如权利要求1-6任一项所述的方法，其中所述基底或制品与所述组合物接触不超过
10分钟。
23.如权利要求1-6任一项所述的方法，其中所述基底或制品在等于或低于所述组合物的沸点的温度与所述组合物接触。
24.如权利要求1-6任一项所述的方法，其中用所述组合物喷射所述基底或制品。
25.如权利要求1-6任一项所述的方法，其中将所述基底或制品浸泡在所述组合物中。
26.如权利要求1-6任一项所述的方法，其中将所述基底或制品完全浸没在所述组合物中。
27.如权利要求1-6任一项所述的方法，其中通过蒸发除去粘附到所述基底或制品的暴露表面的任何组合物。
28.如权利要求27所述的方法，其中所述组合物通过蒸发少于30秒除去。
29.如权利要求27所述的方法，其中所述蒸发在大气压力或低于大气压力实施。
30.如权利要求28所述的方法，其中所述蒸发在大气压力或低于大气压力实施。