1.一种沉积掩模，包括：
掩模主体，具有多个图案孔；
多个突出物，从所述掩模主体突出；以及
多个凹槽，形成在所述掩模主体中，
其中所述掩模主体的颗粒尺寸在10nm至1000nm的范围中，且
其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于
0.5μm。
2.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中所述掩模主体包括含有在30wt％至50wt％的范围内的镍的因瓦合金。
3.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中所述掩模主体的厚度在5μm至50μm的范围中。
4.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中所述多个图案孔的角部的曲率半径小于用于加工所述多个图案孔的激光束的半径。
5.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中所述多个图案孔在水平方向上的单位面积沿所述多个图案孔的竖直方向是不同的。
6.根据权利要求5所述的沉积掩模，其中所述多个图案孔的内表面包括倾斜表面。
7.一种制造沉积掩模的方法，所述方法包括：
通过进行电铸工艺加工所述沉积掩模的母金属；
将所述沉积掩模的所述母金属置于载台和将通过激光振荡器振荡的激光束分成多个激光束的分束器之间；
将通过所述多个激光束中的至少一些穿透的光学镜置于所述母金属和所述分束器之间；以及
通过调整已通过所述分束器的所述多个激光束的辐射方向的扫描器将所述多个激光束辐射至所述母金属的通过所述光学镜暴露的一部分上而在所述母金属中加工图案孔，其中所述母金属的颗粒尺寸在10nm至1000nm的范围中。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述母金属包括：
从所述母金属的表面突出的多个突出物；以及
形成在所述母金属的所述表面中的多个凹槽，
其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于
0.5μm。
9.根据权利要求7所述的方法，其中所述母金属包括含有在30wt％至50wt％的范围内的镍的因瓦合金。
10.根据权利要求7所述的方法，其中所述掩模主体的厚度在5μm至50μm的范围中。
11.根据权利要求7所述的方法，其中所述图案孔在水平方向上的单位面积沿所述图案孔的竖直方向是不同的。
12.根据权利要求11所述的方法，其中所述图案孔的内表面包括倾斜表面。
13.根据权利要求7所述的方法，其中将所述母金属置于所述载台和所述分束器之间包括：通过使用被布置在所述载台和所述母金属之间的静电吸盘吸附所述母金属。
14.根据权利要求7所述的方法，其中将所述光学镜置于所述载台和所述分束器之间包括：对齐形成在所述光学镜中的第一标记和形成在所述母金属中以对应所述第一标记的形状的第二标记的位置。
15.根据权利要求7所述的方法，其还包括：
监测所述光学镜和所述母金属的位置；以及
通过移动所述光学镜和所述母金属中的至少一个对齐所述光学镜和所述母金属。
16.根据权利要求15所述的方法，
其中第一标记形成在所述光学镜中，
其中与所述第一标记的形状相对应的第二标记形成在所述母金属中，以及其中所述第一标记和所述第二标记的位置通过移动所述光学镜和所述母金属中的至少一个来对齐。
17.根据权利要求7所述的方法，其中已通过所述扫描器的所述多个激光束沿竖直方向被辐射至所述母金属上。
18.根据权利要求7所述的方法，其中所述光学镜包括：
穿透层，被配置成允许所述多个激光束中的一些穿透所述光学镜；以及反射层，被配置成反射所述多个激光束中的另外一些，
其中所述反射层包括与所述图案孔的形状相对应的开口。
19.根据权利要求18所述的方法，其中所述穿透层包括石英和玻璃中的至少一种。
20.根据权利要求18所述的方法，其中所述反射层包括不透明金属。
21.根据权利要求18所述的方法，其中所述开口的角部的曲率半径小于所述多个激光束的半径。
22.一种制造显示装置的方法，所述显示装置包括在衬底上彼此面对的像素电极和对电极以及被布置在所述像素电极和所述对电极之间的有机层，所述方法包括：
使用沉积掩模沉积所述有机层，其中所述沉积掩模包括：
具有多个图案孔的掩模主体；
从所述掩模主体突出的多个突出物；以及
形成在所述掩模主体中的多个凹槽，
其中所述掩模主体的颗粒尺寸在10nm至1000nm的范围中，且
其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之间的差异等于或小于
0.5μm。
23.根据权利要求22所述的方法，其中所述掩模主体包括含有在30wt％至50wt％的范围内的镍的因瓦合金。
24.根据权利要求22所述的方法，其中所述掩模主体的厚度在5μm至50μm的范围中。
25.根据权利要求22所述的方法，其中所述沉积掩模是通过将一个或多个激光束辐射至通过进行电铸工艺和加工所述多个图案孔而制造出的所述沉积掩模的母金属上而制造出来的。
26.根据权利要求22所述的方法，其中所述多个图案孔的角部的曲率半径小于用于加工所述多个图案孔的激光束的半径。
27.根据权利要求22所述的方法，其中所述多个图案孔在水平方向上的单位面积沿所述多个图案孔的竖直方向是不同的。
28.根据权利要求22所述的方法，其中所述多个图案孔的内表面包括倾斜表面。