子分类：
- G03B： 摄影、放映或观看用的装置或设备;利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备;以及有关的附件(这些装置的光学部分入G02B;照相用的感光材料或加工方法入G03C;加工曝光后的照相材料的设备入G03D)
- G03C： 照相用的感光材料(照相制版用的入G03F);照相过程,例如,电影、X射线、彩色、立体照相过程;照相的辅助过程(以本身可分类在G03B的设备的使用或操作为特征的照相过程参见G03B;图纹面的照相制版入G03F;电记录术,电照相,磁记录入G03G)
- G03D： 加工曝光后的照相材料的设备(专用于图纹面的照相制版工艺的设备入G03F);其附件(照相用的感光材料或为摄影目的的处理入G03C;电记录术、电照相或磁记录的方法或设备入G03G)
- G03F： 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备(照相排版装置入B41B;为摄影用的感光材料或处理入G03C;电记录、感光层或处理入G03G)
- G03G： 电记录术;电照相;磁记录(依靠记录载体与传感器之间的相对运动存储信息入G11B;具有写入或读出信息装置的静态存储入G11C;电视信号的记录入H04N5/76)
- G03H： 全息摄影的工艺过程或设备(全息图,例如,用作普通的光学元件的点全息图入G02B 5/32;产生立体或其他三维效果入G02B 27/22;衍射光栅系统入G02B 27/44;采用了波纹干涉带的系统入G02B 27/60;光学逻辑元件入G02F 3/00;立体摄影术入G03B 35/00;用于照相的感光材料或加工入G03C;立体摄影或类似的工艺入G03C9/00;为曝光的照相材料加工的设备入G03D;借助光学元件执行数学运算的模拟计算机入G06E 3/00;通过射线照射来鉴别由全息图或衍射光栅所记录的隐蔽信息的入G06K 19/16;全息存储入G11B 7/0065,G11C 13/04;立体或其它三维效应的电视系统入H04N13/00)
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 161 | 纸张输送装置和图像形成装置 | CN201510834551.2 | 2015-11-26 | CN105645149B | 2017-11-03 | 山川幹彦 |
| 纸张输送装置(1)包括：定位辊(30)，其夹持纸张(P)而在与输送方向正交的方向上移动，调整纸张的位置；引导板(5)，其设于比定位辊靠上游侧的位置，构成纸张的输送路径；滚轮(6)，其设于比定位辊靠上游侧的多个部位，自引导板突出而与纸张接触，且从动于纸张的输送地旋转；升降机构(7)，其使滚轮在突出到纸张的输送路径的位置和自输送路径退避的位置之间移动；以及控制部(500)，其进行纸张位置修正动作。控制部求出在定位摆动动作中将要与移动的纸张的宽度方向端面接触的配置的滚轮并生成退避滚轮配置信息，使由退避滚轮配置信息确定的配置的滚轮在开始定位摆动动作之前退避。 | ||||||
| 162 | 光刻对准标记结构及形成方法、半导体结构的形成方法 | CN201410505490.0 | 2014-09-26 | CN105511238B | 2017-11-03 | 蔡博修; 黄怡 |
| 一种光刻对准标记结构及形成方法、半导体结构的形成方法，其中光刻对准标记结构的形成方法包括：提供基底；在基底中形成分别沿第一方向的第一光栅、具有相同光栅常数的第二、三光栅，和沿第二方向的第四光栅；使用光栅衍射技术，根据第一光栅获得第一对准中心，根据第四光栅获得第二对准中心；以第一、二对准中心作为光刻过程的对准中心，在基底上形成相对于第二光栅沿第一方向偏移第一距离的第五光栅；和形成相对于第三光栅沿第一方向的反方向偏移第一距离的第六光栅。使用本光刻对准标记结构的双重二次曝光工艺中，第二次曝光后的器件图形，其实际位置与预设位置的对准误差得到弥补，且相对于第一次曝光后的器件图形套准偏移量减小。 | ||||||
| 163 | 用于确定对准误差的装置和方法 | CN201280073761.9 | 2012-06-06 | CN104364892B | 2017-11-03 | T.瓦根莱特纳 |
| 一种用于确定存在于衬底(5)上或已施加至该衬底(5)的结构(6)的对准误差的装置，该装置具有以下特征：衬底固持器(2)，其用于容纳具有该结构(6)的衬底(5)，及检测构件，其用于通过在第一坐标系中移动该衬底(5)或该检测构件而检测该衬底(5)上的第一标记(7)和/或结构(6)上的第二标记（11、11')的X‑Y位置，其特征在于在独立于该第一坐标系的第二坐标系中给出结构(6)的X'‑Y'结构位置，可通过该装置确定X'‑Y'结构位置与第一标记(7)和/或第二标记(11、11')的X‑Y位置的各自距离。 | ||||||
| 164 | 具有至少一个操纵器的投射曝光设备及操作其的方法 | CN201310101939.2 | 2013-03-27 | CN103365113B | 2017-11-03 | B.比特纳; N.瓦布拉; M.范霍登伯格 |
| 本公开提供了一种用于微光刻的投射曝光设备（10）以及用于操作这种投射曝光设备的方法。该投射曝光设备（10）包括：投射镜（22），具有多个光学元件（E1‑E4），用于在曝光过程期间将掩模结构成像到基底（24）上；至少一个操纵器（M1‑M4），其被配置为通过沿着预定行程（45）改变所述光学元件的状态变量而改变所述投射镜内的光学元件（E1‑E4）中的至少一个的光学效果，作为操作器致动的一部分；算法产生器（42），其被配置为基于至少一个预定成像参数（30、46）产生适配于所述至少一个预定成像参数（30、46）的行程产生优化算法（52）；以及行程建立装置（44），其被配置为通过所述行程产生优化算法为操纵器致动建立至少一个行程（45）。 | ||||||
| 165 | 一种自动报警的监控摄像头保护装置 | CN201610244391.0 | 2016-04-19 | CN107306320A | 2017-10-31 | 洪俊杰 |
| 本发明属于摄像头电子设备领域，公开了一种自动报警的监控摄像头保护装置，包括合盖、底板、玻璃镜片和挡板，在所述的合盖内设置有摄像头和控制器；在所述合盖的左、右端分别安装有挡雨盖、盖板；在所述合盖的盖体外表面设置有风力探测器和湿度探测器，所述的挡雨盖包围住合盖并向左侧延伸，在所述挡雨盖的延伸部位的盖体下表面设置有至少一个热风机，所述的热风机与所述的控制器电性连接，并通过调节所述风机基座的旋转角度，使得所述热风机的风向朝向玻璃镜片。本发明具有结构简单、自动清洁功能和摄像效果好的优点。 | ||||||
| 166 | 处理盒的显影仓及其除粉方法 | CN201610264634.7 | 2016-04-25 | CN107305339A | 2017-10-31 | 李海卡; 倪明; 田茂龙; 曹建新 |
| 一种处理盒的显影仓，所述显影仓设有可与处理盒中的粉仓连通的通口，在沿所述显影仓的长度方向的显影仓仓壁上设置有预移除区，所述预移除区用于在处理盒进行打印全检后将该预移除区移除并形成一用于清除显影仓内余粉的除粉开口；该预移除区的厚度薄于该预移除区与之邻接的显影仓仓壁的壁厚或该预移除区的材料与之邻接的显影仓仓壁的材料不同。通过预移除区在显影仓上的设置，使处理盒在进行打印全检后避免了现有技术中通过重新拆除处理盒引起的品质隐患，也无需特意通过打印耗尽余粉。 | ||||||
| 167 | 片材后处理装置 | CN201710139562.8 | 2017-03-09 | CN107304011A | 2017-10-31 | 井口健 |
| 本发明提供一种片材后处理装置，在手动装订处理中能够防止对片材进行空的装订处理。实施方式的片材后处理装置包括处理托盘、装订器、无针传感器、供针传感器以及控制部。处理托盘支承片材。装订器通过对片材钉进针来进行装订处理。无针传感器检测装订器内的针为预定量以下。供针传感器是否检测能够准备用于进行装订处理的针。控制部基于无针传感器的检测结果而控制是否转移至第一动作模式，并且在转移至第一动作模式之后，基于供针传感器的检测结果而控制是否进行装订器中的装订处理。 | ||||||
| 168 | 打印装置及打印装置的控制方法 | CN201510979580.8 | 2015-12-24 | CN105730024B | 2017-10-31 | 金本好司 |
| 本发明公开一种打印装置及打印装置的控制方法。能够在角处装订片材的打印装置包括：将图像打印到所述片材上；使用能够通过被移动到多个位置而执行装订处理的第一装订单元和能够在固定的一个位置执行装订处理的第二装订单元中的任何一个来在指定的角处执行装订处理；经由被配设为反转所述片材的输送路径来反转所述片材；以及，在要使用的片材是允许被反转的类型的片材的情况下，控制以允许使用所述第一装订单元或所述第二装订单元来执行所述装订处理，以及在要使用的片材是禁止被反转的类型的片材的情况下，控制以允许使用所述第一装订单元执行所述装订处理，同时禁止使用所述第二装订单元执行所述装订处理。 | ||||||
| 169 | 用于柔性印刷元件的热处理装置 | CN201480043955.3 | 2014-08-11 | CN105452006B | 2017-10-31 | T·戈奇克 |
| 本发明涉及一种用于热加工凸纹图像印刷元件的装置以及使用该装置的方法。所述印刷元件包括至少一层光聚合物层且有选择地曝露于光化辐射，以使部分的至少一层光聚合物层交联，该装置包括：a)用于支撑印刷元件的机构；b)用来使该至少一层光聚合物层的未交联部分熔化或软化的加热机构；c)至少一个旋转辊，能够使吸除材料与至少一层光聚合物层进行接触以移除该至少一层光聚合物层的被熔化或被软化的未交联部分，以及d)邻近所述至少一个旋转辊设置的部件，用于移除在步骤c)后所述至少一个旋转辊的表面上所残留的未交联光聚合物。该装置还可替代地在不使用吸除材料的情况下运转。 | ||||||
| 170 | 聚酰亚胺前体、包含该聚酰亚胺前体的感光性树脂组合物、使用其的图案固化膜的制造方法和半导体装置 | CN201380066870.2 | 2013-12-19 | CN104870523B | 2017-10-31 | 榎本哲也; 小野敬司; 大江匡之; 铃木佳子; 副岛和也; 铃木越晴 |
| 一种聚酰亚胺前体，其相对于全部结构单元具有大于或等于50mol％的下述通式(1)所表示的结构单元。通式(1)中，A为下述通式(2a)～(2c)所表示的4价有机基团中的任一个，B为下述通式(3)所表示的2价有机基团。 | ||||||
| 171 | 图像处理装置以及图像处理方法 | CN201380058529.2 | 2013-11-14 | CN104781908B | 2017-10-31 | 酢谷拓路; 伊泽美纪; 腰原俊介; 杉山明之 |
| 一种实现适合于通过基于DSA(Directed Self‑Assembly，自组装技术)的图案形成而生成的试样上的定址的图像处理的图像处理装置、基于自组装光刻技术的图案生成方法以及计算机程序，其中，根据基于DSA的图案形成中所使用的导向图案数据来生成用于定址的模板。能够提供一种适用于测定或检查通过基于DSA的图案形成工序而形成的图案时的视野对位的定址图案。 | ||||||
| 172 | 调色剂用粘合剂树脂及调色剂 | CN201380019521.5 | 2013-05-15 | CN104246619B | 2017-10-31 | 松冈洋史; 武井宏之 |
| 本发明的调色剂用粘合剂树脂含有：含有羧基的乙烯基树脂(C)、含有缩水甘油基的乙烯基树脂(E)、和它们的反应物，以及特定的脂肪酸金属盐(M)，含有羧基的乙烯基树脂(C)包含：在通过GPC测得的THF可溶成分的分子量分布中在分子量2.5×104以上1.2×105以下的区域具有峰的高分子量乙烯基树脂(H)、和在通过GPC测得的THF可溶成分的分子量分布中在分子量2×103以上2×104以下的区域具有峰的低分子量乙烯基树脂(L)，含有羧基的乙烯基树脂(C)与含有缩水甘油基的乙烯基树脂(E)的反应物是在脂肪酸金属盐(M)的存在下形成的。 | ||||||
| 173 | 一种用投影仪做光源定位照明的方法 | CN201710706855.X | 2017-08-17 | CN107300823A | 2017-10-27 | 杨志军; 蔡正欣 |
| 本发明公开了一种用投影仪做光源定位照明的方法，通过架设影像摄取装置与投影仪，系统主机连接影像摄取装置与投影仪，生成需求的图像，并控制投影仪投射出来的投影图像，进行校正选取定位位置，定义需要照明光源的待测物位置，系统主机控制投影仪投影照明光源至待测物位置。本发明可以精准、可大可小可方可圆的照明到所需的指定区域，用投影仪做光源定位照明，节约成本。 | ||||||
| 174 | 基于小孔成像的孔径可调式针孔相机镜头 | CN201710737784.X | 2017-08-24 | CN107300822A | 2017-10-27 | 苏国林 |
| 本发明公开并提供了一种使用成本低、携带方便以及便于快速捕捉画面的基于小孔成像的孔径可调式针孔相机镜头。所述孔径可调式针孔相机镜头包括相机接口底座、取景前盖、调节环、分度行星盘、微孔薄片、微孔定位盖，所述相机接口底座与所述取景前盖相适配，所述调节环套设在所述相机接口底座并被所述取景前盖压住，所述分度行星盘通过销轴可转动的设置在所述相机接口底座的偏心位置，所述分度行星盘圆周上分布的齿圈与所述调节环内侧的齿槽啮合，所述微孔薄片上圆周阵列设置有若干个孔径不同的针孔。本发明可广泛应用于针孔相机镜头领域。 | ||||||
| 175 | 辐射源、量测设备、光刻系统和器件制造方法 | CN201480068191.3 | 2014-11-14 | CN105830198B | 2017-10-27 | M·P·C·范赫尤门 |
| 一种辐射源设备，包括：容器，其包括用于限定用于容纳气体介质的空间的壁，其中发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射激发气体介质之后生成；和热负荷施加器，其适于将热负荷应用到容器的壁的至少一部分以减少壁中的应力。 | ||||||
| 176 | 用于计算结构的电磁散射性质和近似结构的重构的方法和设备 | CN201480057752.X | 2014-08-08 | CN105814489B | 2017-10-27 | M·C·范伯登 |
| 一种计算结构的电磁散射性质的方法，结构包括不同性质的材料并且结构在至少一个横向方向上是周期性的并在垂直方向上延伸，包括：通过针对在至少一个横向方向上的多个模式中的每个相应模式执行在垂直方向上的伪谱多项式(切比雪夫)展开乘以对于多个模式中的所有模式都使用在正交方向上的相同样本点的1D格林函数的积分(1350)，针对每个模式在数值上求解用于电磁散射的体积分方程。积分通过求解第一(1116)与第二(1120)离散变换步骤之间的方程的正则化线性系统来执行以计算(1118)正则化切比雪夫多项式系数矢量(γ)的值。使用数值求解的结果来计算结构的电磁散射性质。 | ||||||
| 177 | 镜头模块定位结构 | CN201510106066.3 | 2015-03-11 | CN104914544B | 2017-10-27 | 詹益良 |
| 本发明提供一种镜头模块定位结构，定义有相互垂直的一X、Y、Z轴，其包括有：一影像感测模块、一光学镜头模块、以及一补偿机构。该影像感测模块位于X‑Y轴之上；该光学镜头模块具有一摄像光轴且位于Z轴之上，并与该影像感测模块并相互对应；该补偿机构设置于该影像感测模块以及该光学镜头模块之间，用于补偿该光学镜头模块于至少该X轴与该Y轴以及Z轴方向上的位移量与倾斜角度，其包括：一凸弧面以及与该凸弧面相对应的一凹弧面。该凸弧面与该光学镜头模块的该摄像光轴同步连动，利用该凸弧面与该凹弧面之间的接触滑动，达到调整补偿该光学镜头模块的摄像光轴与该影像感测模块的影像撷取路径间所产生的动态倾斜(Tilt)。 | ||||||
| 178 | 发光装置及其控制方法和摄像设备 | CN201510080076.4 | 2015-02-13 | CN104849944B | 2017-10-27 | 大塚元太 |
| 本发明涉及一种发光装置及其控制方法和摄像设备。该发光装置包括第一电源和第二电源，并且能够在不会受充电再循环时间段影响的情况下进行发光。该发光装置包括LED作为用于进行发光的发光部，并且利用来自该LED的发光对被摄体进行照明。该发光装置还包括第一电源和利用该第一电源进行充电的第二电源。根据使LED进行发光所用的发光电流，使用第一电源和第二电源其中之一作为输入电源来控制来自LED的发光。 | ||||||
| 179 | 确定剂量和焦点的方法、检查设备、图案形成装置、衬底及器件制造方法 | CN201380062698.3 | 2013-11-22 | CN104823113B | 2017-10-27 | P·瓦诺彭; E·布劳维尔; H·克拉默; J·登贝斯滕; A·恩格伦; P·希南 |
| 一种确定光刻工艺中使用的光刻设备在衬底上的曝光剂量的方法。使用光刻工艺在衬底上产生第一结构，第一结构具有剂量敏感特征，该剂量敏感特征具有取决于光刻设备在衬底上的曝光剂量的形式。使用光刻工艺在衬底上产生第二结构，第二结构具有剂量敏感特征，该剂量敏感特征具有取决于光刻设备在衬底上的曝光剂量的形式，但与第一结构相比对曝光剂量具有不同的敏感度。在利用辐射来照射第一和第二结构时检测散射辐射以获得第一和第二散射仪信号。使用第一和第二散射仪信号来确定用于产生第一和第二结构中的至少一个结构的曝光剂量值。 | ||||||
| 180 | 掩膜板及其制备方法 | CN201510169291.1 | 2015-04-10 | CN104779145B | 2017-10-27 | 张沈钧; 翁国峰 |
| 本发明公开了一种掩膜板及其制备方法，属于显示技术领域。所述掩膜板包括：遮光区域和透光区域，在所述遮光区域上形成有邻接部，所述邻接部位于所述透光区域与所述遮光区域的邻接处，所述掩膜板的遮光区域上除所述邻接部外的区域处的厚度大于所述掩膜板的邻接部的厚度。本发明解决了蒸镀薄膜的质量较差的问题，实现了提高蒸镀薄膜的质量的效果，用于制备有机发光二极管显示装置。 | ||||||
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