101 |
化学转化方法 |
CN201480035493.0 |
2014-05-21 |
CN105473219B |
2017-11-24 |
帕斯卡尔·约瑟夫·保罗·比斯肯斯; 莫里斯·克里斯蒂安·丹霍·穆拉德; 玛丽亚·伊丽莎白·路易斯·沃特兹; 莱昂纳德斯·约翰内斯·马里亚·杰诺韦瓦·; 多尔特曼斯; 厄尔·劳伦斯·文森特·格特希尔; 南宁·约尔格·阿夫斯藤 |
本发明涉及化学转化方法并且涉及用于将颗粒从反应混合物中除去的方法。本发明的化学转化方法包括通过以下过程对反应混合物进行等离子体激元加热,所述反应混合物包含至少一种组分和等离子体激元颗粒:将所述反应混合物暴露于包含被至少部分所述等离子体激元颗粒吸收的一个或更多个波长的光,由此控制一个或更多个化学反应的反应速率。 |
102 |
光刻装置和物品制造方法 |
CN201510293935.8 |
2015-06-02 |
CN105319861B |
2017-11-24 |
宫岛义一; 中野一志 |
一种光刻装置包括原版传送路线、基板传送路线和多个图形形成设备,每个图形形成设备被构造用于使用原版在基板上进行图形形成。所述多个图形形成设备布置成两列。基板传送路线在所述两列之间并沿所述两列提供。原版传送路线提供在两列中的每列上,在两列原版传送路线之间并沿着两列原版传送路线布置两列图形形成设备。一种物品制造方法。 |
103 |
可射出将干涉条纹的影响降低的光的光源装置以及采用该光源装置的投影仪 |
CN201510764917.3 |
2013-12-19 |
CN105223765B |
2017-11-24 |
黑崎秀将 |
本发明的光源装置及投影仪,为了减小激光的干涉条纹的厚度,特征在于:①按每个照射区域来改变微透镜阵列的透镜特性;或者②激光元件按照取向分别不同的方式设置;或者③使准直透镜的聚光度分别不同。 |
104 |
波长转换型空间光调制装置 |
CN201380048513.3 |
2013-09-03 |
CN104641286B |
2017-11-24 |
斋藤宽; 藤本正俊; 大石真吾; 福满宪志 |
本发明的波长转换型空间光调制装置具备:空间光调制部(10),具有相位调制面(10a),其输入比紫外区更长的波长区的激光(L1),在二维排列的多个区域的各个对激光(L1)的相位进行调制并产生调制激光(L2);波长转换部(20),具有接收从空间光调制部(10)输出的调制激光(L2)的光入射面,且用以将调制激光(L2)的波长转换成紫外区的波长;及像转移光学系统(30),将空间光调制部(10)的相位调制面和波长转换部(20)的光入射面,以彼此光学上成为共轭系统的方式进行结合。由此,能输出空间上经相位调制的紫外线激光,且实现能减少对空间光调制部的影响的波长转换型空间光调制装置。 |
105 |
分散组合物、使用该分散组合物的固化性组合物、透明膜、微透镜及固体摄像元件 |
CN201380045019.1 |
2013-08-29 |
CN104603209B |
2017-11-24 |
荒山恭平; 出井宏明; 久保田诚; 高桑英希 |
本发明提供折射率高且分散稳定性高的分散组合物、使用该分散组合物的固化性组合物、透明膜、微透镜及固体摄像元件,所述分散组合物含有一次粒径为1nm~100nm的金属氧化物粒子(A)、酸值为120mgKOH/g以上的下述通式(1)所示的高分子化合物(B)和溶剂(C)。 |
106 |
照明装置、处理装置及器件制造方法 |
CN201380037678.0 |
2013-05-22 |
CN104471486B |
2017-11-24 |
根岸武利; 福井达雄 |
照明装置(IU)具有:第1光源部(21a);光的射出方向与第1光源部不同的第2光源部(21b);和以使来自第1光源部的光和来自第2光源部的光的行进方向一致的方式使光的至少一部分偏转的偏转部(22)。第1光源部和第2光源部以使从各光源部射出并经由偏转部的光所射入的照明区域沿规定方向连续地排列的方式在规定方向上配置在不同位置。 |
107 |
图像稳定设备及控制方法和配备图像稳定设备的摄像设备 |
CN201410386456.6 |
2014-08-07 |
CN104349061B |
2017-11-24 |
野口雅彰 |
本发明涉及图像稳定设备及控制方法和配备图像稳定设备的摄像设备。该图像稳定(IS)设备能够防止由于不必要的模式转变所引起的视场角的变化。选择单元在所检测到的抖动量为第一阈值以下并维持了超过第一判断时间、并且该抖动量不高于比第一阈值低的第二阈值未维持超过比第二判断时间短的第三判断时间的情况下,从第一IS模式转变为IS效果较大的第二IS模式,并且在该抖动量为第二阈值以下并维持了比第一判断时间短的第二判断时间的情况下,从第一IS模式转变为IS效果最小的第三IS模式。控制单元在所选择的IS模式下对使用该抖动量来校正图像模糊的IS单元进行控制。 |
108 |
包括非球面透镜的涡轮机在线检测的系统和方法 |
CN201380007501.6 |
2013-01-24 |
CN104081249B |
2017-11-24 |
E.巴雷恩; V.乔纳拉贾达 |
本发明涉及在线运行发电涡轮机的非破坏性内部检测的光学相机系统,发电涡轮机包括燃气轮机燃烧室和涡轮机段,处于超过600℃(1112°F)范围的高工作温度并且包括燃烧气体污染物。检测系统包括一个或多个能够承受高于600℃连续工作温度的非球面透镜。非球面透镜单独地或与球面透镜组合来建立更宽的视场,并且比仅包括球面透镜的透镜卡口需要更少的组合透镜。并入在检测系统中的冷却系统有利于连续运行,并得以抑制透镜外表面燃烧气体的结垢。 |
109 |
一种光学系统的检焦装置和检焦方法 |
CN201710701212.6 |
2017-08-16 |
CN107367906A |
2017-11-21 |
吴飞斌 |
本发明公开了一种光学系统的检焦装置,所述的检焦装置包括:光源、光束准直扩束系统、毛玻璃、物面光栅、掩膜平台、被测光学系统、像面光栅、硅片平台、CCD探测器,当硅片平台离焦时,像面光栅不同衍射级相互干涉形成干涉条纹;当硅片平台从离焦位置向共焦位置平移时,像面光栅后的干涉条纹减少直到消失;根据CCD探测器探测的像面光栅后的干涉条纹的变化情况,即可以完成被测光学系统的检焦测量。本发明的一种光学系统的检焦装置直接根据获取的图像条纹数变化进行离焦检测,检测速度快、精度高;基于朗奇剪切干涉的检焦方法,具有不需要额外添加检测光源,构造简单,操作方便等优点。 |
110 |
光固化性组合物和使用其制造光学组件的方法 |
CN201480036784.1 |
2014-06-19 |
CN105340062B |
2017-11-21 |
本间猛; 伊藤俊树; 米泽诗织; 千叶启子; 山下敬司 |
在冷凝性气体气氛中的压印方法中,将模具与抗蚀剂固化膜分离(脱模)所需的力(脱模力)大。用于在含冷凝性气体的气氛中进行压印的光固化性组合物包括组分(A),其为(甲基)丙烯酸酯单体;组分(B),其为光聚合引发剂;和组分(C),其为脱模剂。在5度(摄氏)和1个大气压下组分(C)在冷凝性气体中的饱和溶解度为50重量%以上,冷凝性气体在5度(摄氏)和1个大气压下为液态。 |
111 |
确定光照条件改变引起的需要改变像素密度要求的方法和设备 |
CN201510218186.2 |
2015-04-30 |
CN105100648B |
2017-11-21 |
佩尔·斯塔尔 |
本发明提供一种确定光照条件改变引起的需要改变像素密度要求的方法和设备。所述像素密度要求限定能使摄像机拍摄的图像中的目标被识别的像素密度。该方法包括:接收并且监控摄像机设置(S02),所述摄像机设置表示所述摄像机经受的光照条件并且影响所述摄像机拍摄的图像的质量;以及在检测到所述摄像机设置改变时(S04),确定需要改变像素密度要求(S06)。所述摄像机设置包括所述摄像机拍摄图像时使用的增益和曝光时间中的至少一个。本发明能够确定光照条件改变引起的改变像素密度要求的需要。 |
112 |
电气器件以及残留电荷放电方法 |
CN201510034142.4 |
2015-01-23 |
CN104810812B |
2017-11-21 |
石井达也 |
本发明涉及电气器件以及残留电荷放电方法,用于防止利用继电器向负载供电的电气器件中继电器断开时电源电路和负载电路双方的残留电荷引起继电器接通时产生冲击电流。供电电路通过继电器(101)连动于前门盖(21)的开闭而断开/接通,来控制作为负载的抽拉单元(30)的供电切断/接通。当前门盖(21)打开使继电器断开而切断供电时,继电器(101)输入和输出双方各自的电容性元件(210)和(310)中的残留电荷通过放电电路(130),从继电器输入一方的电源线向GND放电。其中,输出一方的残留电荷通过二极管(133)向输入一方移动且通过放电电路放电。这样,当前门盖闭锁使继电器接通而重启供电时便不再发生冲击电流。 |
113 |
全息图像生成与重构 |
CN201280077036.9 |
2012-11-15 |
CN104769507B |
2017-11-21 |
山市英治 |
一般地描述了利用多个光源和布置成围绕对象的图像传感器阵列来生成并记录对象的全息图的技术。在各个示例中,装置可被配置成将来自多个光源的多个光束照射到相应数量的分束器上,所述分束器被配置成产生光束的第一部分和光束的第二部分,所述第一部分可照射到对象上,所述第二部分可由反射镜单元反射以生成参考束。某种装置还可以包括图像传感器阵列,所述图像传感器阵列可被配置成接收由参考束和由对象散射的对象束引起的干涉图像。 |
114 |
投影仪 |
CN201410374545.9 |
2014-07-31 |
CN104423127B |
2017-11-21 |
门谷典和; 角谷雅人 |
本发明提供一种投影仪,该投影仪具备:光源;调光装置,其具有对从光源射出的光进行遮挡的遮光部,来调整通过光量;光学元件,其配置在遮光部的光射出侧,对入射的光进行光学转换;冷却风扇,其将冷却空气进行送风;管道,其将从冷却风扇送风的冷却空气引导至作为冷却对象的遮光部以及光学元件,管道具有将所引导的冷却空气朝向各冷却对象喷出的喷出口,遮光部根据遮挡的光量而使覆盖喷出口的量变化。 |
115 |
双硬掩模光刻工艺 |
CN201280070393.2 |
2012-12-20 |
CN104136994B |
2017-11-21 |
J·C·阿诺德; S·D·伯恩斯; S·J·福尔摩斯; D·V·霍拉克; M·桑卡拉潘迪恩; Y·尹 |
使用线图案对互连级电介质层之上的第一金属硬掩模层图案化。至少一个电介质材料层、第二金属硬掩模层、第一有机平面化层(OPL)以及第一光刻胶被施加在第一金属硬掩模层之上。第一通路图案被从所述第一光刻胶层转移到所述第二金属硬掩模层。第二OPL和第二光刻胶层被施加并使用第二通路图案进行图案化,该第二通路图案被转移到所述第二金属硬掩模层内。第一和第二通路图案的第一合成图案被转移到所述至少一个电介质材料层内。使用第一金属硬掩模层中的开口区域限制第一合成图案的第二合成图案被转移到互连级电介质材料层内。 |
116 |
抗蚀剂组合物和用于形成图案的方法 |
CN201310611191.0 |
2013-11-26 |
CN104062851B |
2017-11-21 |
今纯一; 中田义弘 |
本发明涉及抗蚀剂组合物和用于形成图案的方法。所述抗蚀剂组合物包含:溶剂;和在所述溶剂中的树脂,所述树脂通过在酸或碱的存在下水解并缩合包含与硅原子或锗原子相结合的烷氧基的含烷氧基化合物来制备,其中利用能量辐射辐照的所述抗蚀剂组合物的一部分在显影液中是不可溶的。 |
117 |
光刻掩模修复工艺 |
CN201310150870.2 |
2013-04-26 |
CN103913945B |
2017-11-21 |
吕建兴; 林重宏; 温志伟 |
一种方法包括对光刻掩模实施束扫描以修复光刻掩模。在束扫描之后,对光刻掩模实施辐射处理。通过一种装置实施该方法,该装置包括被配置成生成束并且将束投射到光刻掩模上的束发生器,被配置成在光刻掩模上生成辐射的辐射源,和被配置用于释放加工气体到光刻掩模上的加工气体源。加工气体与光刻掩模的表面部分发生反应以修复光刻掩模。利用辐射处理,光刻掩模上的残余加工气体被去除。本发明还提供了光刻掩模修复工艺。 |
118 |
网络监控装置及其除雾方法 |
CN201710545489.4 |
2017-07-06 |
CN107360351A |
2017-11-17 |
江孟谦; 翁国富 |
本发明提供一种网络监控装置及其除雾方法。能够依据获取图像的图像锐利度判断是否控制加热装置进行加热,以去除网络监控装置内部的雾气,避免网络监控装置的获取图像出现模糊不清的情形,而可大幅地提高监控品质。 |
119 |
一种清洗剂、其制备方法和应用 |
CN201710613216.9 |
2017-07-25 |
CN107357143A |
2017-11-17 |
王溯; 蒋闯; 冯强强 |
本发明公开了一种清洗剂、其制备方法和应用。所述的清洗剂,其由下述原料制得,所述的原料包括下列质量分数的组分:0.5%-20%的含碘氧化剂、0.5%-20%的含硼蚀刻剂、1%-50%的吡咯烷酮类溶剂、1%-20%的腐蚀抑制剂、0.01%-5%的不含金属离子的表面活性剂和水,各组分质量分数之和为100%;所述清洗剂的pH值为7.5-13.5;所述的腐蚀抑制剂为苯并三氮唑类腐蚀抑制剂、腙类腐蚀抑制剂、卡巴腙类腐蚀抑制剂和硫代卡巴腙类腐蚀抑制剂中的一种或多种。本发明的清洗剂能够在对金属和低k介电材料影响较小的情况下高效率地移除硬掩膜残留物的氮化物,选择性好,具有非常广阔的市场应用前景。 |
120 |
一种纳米压印机限位机构 |
CN201710755747.1 |
2017-08-29 |
CN107357132A |
2017-11-17 |
赵敏洁; 杨彦涛 |
本发明公开了一种纳米压印机限位机构,包括支撑平台、下压平台、模型压头和液压升降缸,所述支撑平台上固定设置有限位平台,所述限位平台为空心结构,所述限位平台上分别设置有横向的第一开口和纵向的第二开口,所述限位平台内设置有伸缩电机,所述伸缩电机具备四个伸缩轴,所述第一开口和第二开口的两端均设置有限位板,所述四个限位板通过连接条穿过第一开口和第二开口分别连接在四个伸缩轴上。本发明能够对支撑平台上的待压印的产品的位置进行精确化的限位固定,从而大幅提升了产品在支撑平台上的位置精确度,因此大幅提升了压印的位置精确度,产品的压印质量得到了提升和保障。 |