代理专利文献:41402,涉及专利:32328件
覆盖主要的IPC大类包括:H01(8414)、G01(2708)、G06(2210)、H04(1600)、G03(1540)、H02(1199)、A61(1036)、E04(864)、F16(766)、G02(615)
专利类型分布状况:发明公开(19139)、实用新型(9450)、外观设计(3224)、发明申请(515)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(13036)、失效专利(9256)、无效专利(6881)、实质审查(2544)、公开(611)
涉及到的主要客户:上海华力微电子有限公司(3120)、中芯国际集成电路制造(上海)有限公司(2744)、上海华虹宏力半导体制造有限公司(2202)、上海电机学院(2094)、上海微电子装备有限公司(1671)、联合汽车电子有限公司(1331)、武汉新芯集成电路制造有限公司(985)、上海宏力半导体制造有限公司(957)、上海微电子装备(集团)股份有限公司(922)、昆山市周市惠宏服装厂(889)
涉及到的主要发明人:解吉平(889)、严卫忠(349)、不公告发明人(231)、施晓旦(213)、倪雪明(199)、姚建平(199)、梁菊明(199)、蒋建业(199)、龚菊明(194)、杨光军(144)
发明专利授权成功率:48%
专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
---|---|---|
发明公开 | 用于制造催化剂涂覆膜(CCM)的催化剂墨水的制备 | CN117981124A |
发明公开 | 一种闪存器件的制造方法 | CN117979701A |
发明公开 | 一种闪存器件的制备方法 | CN117979700A |
发明公开 | 半导体器件的制备方法 | CN117979698A |
发明公开 | 一种图像传感器及其制备方法 | CN117976685A |
发明公开 | 绝缘栅双极型晶体管的形成方法 | CN117976538A |
发明公开 | 半导体器件的制备方法 | CN117976528A |
发明公开 | 屏蔽栅器件及其形成方法 | CN117976527A |
发明授权 | 图像传感器的制造方法 | CN114005846B |
发明授权 | 测试治具及测试方法 | CN113704034B |
排名 | 企业名称 | 专利 |
---|---|---|
1 | 上海华力微电子有限公司 | 3120 |
2 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 2744 |
3 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 2202 |
4 | 上海电机学院 | 2094 |
5 | 上海微电子装备有限公司 | 1671 |
6 | 联合汽车电子有限公司 | 1331 |
7 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 985 |
8 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 957 |
9 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 922 |
10 | 昆山市周市惠宏服装厂 | 889 |
排名 | 发明人 | 专利 |
---|---|---|
1 | 解吉平 | 889 |
2 | 严卫忠 | 349 |
3 | 不公告发明人 | 231 |
4 | 施晓旦 | 213 |
5 | 倪雪明 | 199 |
6 | 姚建平 | 199 |
7 | 梁菊明 | 199 |
8 | 蒋建业 | 199 |
9 | 龚菊明 | 194 |
10 | 杨光军 | 144 |